electron device technologyとは 意味・読み方・使い方

To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device capable of carrying out vacuum starting of an electron gun chamber or an ion gun chamber with a non-evaporating getter pump in a short time, and maintaining a high vacuum degree for a long time, as well as a technology of its vacuum starting method.例文帳に追加

非蒸発ゲッターポンプを有する電子銃室あるいはイオン銃室の真空立上げを短時間に行え、かつ高い真空度を長時間維持可能な荷電粒子線装置と、その真空立上げ技術を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device of a high resolution realizing the increase of inspection speed in a technology of inspecting defects of patterns, foreign matters, remnants, steps or the like on a wafer in the course of manufacturing process by electron beams.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide new DNA application technology utilizing the movement of electrons or charge of the π electron group of each base in the dextrality (B type) and sinistrality (Z type) of a DNA, and also to provide a new nano-electronic device material.例文帳に追加

本発明は、ＤＮＡの右巻き（Ｂ型）と左巻き（Ｚ型）の状態における各々の塩基のπ電子系の電子又は電荷の移動を利用したＤＮＡの新規な応用技術、新規なナノエレクトロニックデバイス材料を提供するものである。 - 特許庁

To provide a technology to manufacture products having substantially the same electric characteristics regardless of the number of carbon atoms included in a silicon wafer, in a method of manufacturing a semiconductor device, which includes irradiation of ions of light elements or electron beams.例文帳に追加

軽元素イオンや電子線の照射を行う半導体装置の製造方法において、シリコンウエハに含まれる炭素原子の含有量にかかわらず、略同一の電気的特性を有する製品を製造するための技術を提供する。 - 特許庁

To reduce influence of noise superimposed on a long transmission path, when highly precisely measuring a feeble beam current, in an electron beam drawing device, and to provide technology to highly precisely and efficiently measure the feeble current in a multiple beam drawing apparatus.例文帳に追加

電子ビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に計測する際、長い伝送経路に重畳するノイズの影響を低減し、また、マルチビーム描画装置において、微弱なビーム電流を高精度に効率よく計測する技術を提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray generating apparatus attaining miniaturization and cost reduction of a laser device, and suppressing the occurrence of debris by reducing damages due to the thermal energy of an electrode by adopting an electron generating technology discharging electrons with the use of a photofield ionization phenomenon, without causing photoelectrons or a plasma to be generated.例文帳に追加

光電子やプラズマを発生させることなく光電界電離現象を利用し電子を放出させる電子発生技術を採用することにより、レーザー装置を小型化および低コスト化するとともに、電極の熱エネルギーによるダメージを軽減してデブリの発生を抑制することを可能にしたＸ線発生装置を提供する。 - 特許庁