dry etching processとは 意味・読み方・使い方

DRY ETCHING PROCESS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INCLUDING THE SAME例文帳に追加

ドライエッチングプロセスおよびそれを含む半導体製造方法 - 特許庁

The above etching process is carried out using, for instance, a magnetic field-applied plane parallel plate dry etching device.例文帳に追加

このエッチングは、例えば磁場印加型平行平板ドライエッチング装置を用いて行う。 - 特許庁

To provide a dry etcher which is equipped with an etching portion where a cleaning process is added to the dry etcher to expand the applicability of the dry etching to a metal film etching process and a cleaning portion.例文帳に追加

ドライエッチャに洗浄工程を付加してドライエッチャの適用範囲をメタル膜エッチング工程まで拡大させるエッチング部と洗浄部とを兼備したドライエッチャを提供する。 - 特許庁

The etching step may be performed by a dry process.例文帳に追加

前記エッチングステップがドライプロセスによって行われるものであってもよい。 - 特許庁

To facilitate a dry-etching process for forming a contact hole.例文帳に追加

接触孔を形成するための乾式エッチング工程を容易にする。 - 特許庁

The second dry etching process can be carried out using HCl gas.例文帳に追加

第２のドライエッチングはＨＣｌガスを用いて行うことができる。 - 特許庁

A process modified layer generated in the mark of a wafer in a laser marking process is completely removed by etching in a dry-etching process 1.例文帳に追加

レーザマーキング工程１０３で生じたウエハのマーク内の加工変質層をドライエッチング工程１で完全にエッチング除去する。 - 特許庁

DRY ETCHING PROCESS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

ドライエッチングプロセスおよびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁