double-exposureとは 意味・読み方・使い方

DOUBLE EXPOSURE DOUBLE RESIST LAYER PROCESS FOR FORMING GATE PATTERN例文帳に追加

ゲートパターンを形成するための二重露光二重レジスト層プロセス - 特許庁

To shorten the time required for double exposure.例文帳に追加

多重露光に要する時間を短くする。 - 特許庁

DOUBLE EXPOSURE METHOD USING DOUBLE EXPOSURE TECHNOLOGY AND PHOTO MASK USED THEREFOR例文帳に追加

二重露光技術を用いた二重露光方法及びこの二重露光方法のためのフォトマスク - 特許庁

METHOD FOR INCREASING THROUGHPUT IN DUAL-SUBSTRATE-STAGE-TYPE DOUBLE EXPOSURE LITHOGRAPHIC SYSTEM AND DUAL-WAFER-STAGE TYPE DOUBLE EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおける方法およびデュアルウェハステージ型ダブル露光システム - 特許庁

DUAL WAFER STAGE DOUBLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD FOR DUAL SUBSTRATE STAGE DOUBLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

デュアル基板ステージ型ダブル露光リソグラフィシステムにおける方法およびデュアルウェハステージ型ダブル露光システム - 特許庁

To provide a double exposure double resist layer process for forming gate patterns.例文帳に追加

ゲートパターンを形成するための二重露光二重レジスト層方法を提供する。 - 特許庁

Uniformity of critical dimensions within a surface area is improved by using double exposure and double etching.例文帳に追加

ダブル露光とダブルエッチングを用いて、面内寸法差の均一性を改善する。 - 特許庁

The part where two division exposure regions are overlapped includes a part subjected to double exposure by considering the exposure error.例文帳に追加

２つの分割露光領域が重なる部分は、露光誤差を考慮して二重露光される部分を有する。 - 特許庁