curvature deformationとは 意味・読み方・使い方

To provide a press mask having a large radius of curvature by self-cor recting thermal deformation such as a doming.例文帳に追加

ドーミング等の熱変形を自己補正して曲率半径の大きいプレスマスクを実現する。 - 特許庁

A ratchet mechanism 6 regulating deformation onto a side where radius of curvature of the blade shoe 2 becomes large and allowing deformation onto a side where radius of curvature becomes small is provided in the terminal part 21 of the blade shoe.例文帳に追加

ブレードシューの基端部２１には、ブレードシュー２の曲率半径が大きくなる側への変形を規制しかつ曲率半径が小さくなる側への変形を許容するラチェット機構６が設けられている。 - 特許庁

Therefore, a curvature radius of a position where bending deformation is caused gets large, that inhibits buckling and can prevent break of the conductors 3 at the bending-deformation position.例文帳に追加

したがって、曲げ変形する位置の曲げ半径が大きくなり、座屈が起こらず、曲げ変形位置における導体３の断線を防止できる。 - 特許庁

The inner drain member 54 has a band plate shape and allows for curvature deformation in plate thickness direction.例文帳に追加

内水切り材５４は帯板状に形成されており、板厚方向に湾曲変形可能とされている。 - 特許庁

Further, after calculating a curvature deformation amount of a semiconductor package having a sheet shape in the manner, the method calculates curvature deformation amounts of individual packages by dividing the package into the respective substrate areas in which each chip operates electrically.例文帳に追加

更に、上記でシート形状の半導体パッケージの反り変形量を算出した後、各チップが電気的に動作する基板領域ごとに分割することにより、個別パッケージの反り変形量を算出する。 - 特許庁

At an extension end 42A of the sliding portion 42 of the base member 4, a ratchet mechanism 6 is provided for restricting the deformation of the blade shoe 2 to the side of increasing its radius of curvature and for allowing the deformation to the side of reducing the radius of curvature.例文帳に追加

ベース部材４のスライド部４２の延長端４２Ａには、ブレードシュー２の曲率半径が大きくなる側への変形を規制しかつ曲率半径が小さくなる側への変形を許容するラチェット機構６が設けられている。 - 特許庁

As the number of times of the ageing operation increases, the curving deformation quantity (curving curvature) of the flexible tube 10 becomes large.例文帳に追加

エージング動作の回数が増加するにしたがって、可撓管１０の湾曲変形量（湾曲曲率）が大きくなる。 - 特許庁

To perform position control during the scanning of a mask stage with high precision, even if a curvature is generated on a reflecting surface by the gravitational deformation of the mask stage without being influenced by the curvature.例文帳に追加

マスクステージの自重変形等に起因してその反射面に湾曲が生じた場合であっても、これに影響されることなく、マスクステージの走査時の位置制御を高精度に行う。 - 特許庁