chip shotとは 意味・読み方・使い方

Chip patterns 52a to 52d having a monitoring chip 52a and product chips 52b to 52d are formed on a shot region 50.例文帳に追加

ショット領域５０は、モニタ用チップ５２ａおよび製品用チップ５２ｂ〜５２ｄからなるチップパターン５２ａ〜５２ｄが形成される。 - 特許庁

Furthermore, the chip identification pattern 13 can be formed by masks few in number by exposing exposure shot positional information with the size of exposure shot different from a normal size.例文帳に追加

また、露光ショット位置情報を通常と異なる露光ショット寸法にて露光することにより数少ないマスクでチップ識別パターン１３を形成できる。 - 特許庁

The semiconductor chip 11 is provided with an element forming region 12 and a chip position identification pattern 13 except the element forming region 12 while the chip identification pattern 13 is constituted of a positional information 14 in exposure shot and an exposure shot positional information 15.例文帳に追加

半導体チップ１１には素子形成領域１２とその素子形成領域１２外にチップ位置識別パターン１３があり、このチップ識別パターン１３は露光ショット内位置情報１４と、露光ショット位置情報１５とからなっている。 - 特許庁

The chip 52a is disposed at a position farthest from the center S of a plurality of shot regions 50.例文帳に追加

モニタ用チップ５２ａは、複数個のショット領域５０の中心Ｓから最も遠い位置に配置される。 - 特許庁

The two first chip regions 1, the inner dicing region 5 and the outer dicing region 6 constitute a shot region 11; the three second chip regions 2, the inner dicing region 5 and the outer dicing region 6 constitute a shot region 12; and the third chip region 3 and the outer dicing region 6 constitute a shot region 13.例文帳に追加

２つの第１チップ領域１、インナーダイシング領域５およびアウターダイシング領域６でショット領域１１を構成し、３つの第２チップ領域２、インナーダイシング領域５およびアウターダイシング領域６でショット領域１２を構成し、第３チップ領域３およびアウターダイシング領域６でショット領域１３を構成する。 - 特許庁

When a memory switch S0 is turned on and also any of shot switches S1 to S4 is turned on, a one-chip CPU 36 in a shot box 12 stores the zoom position and the focus position at such a time corresponding to the shot switch which is turned on.例文帳に追加

ショットボックス１２の１チップＣＰＵ３６はメモスイッチＳ０がオンされると共に、ショットスイッチＳ１〜Ｓ４のいずれかがオンされると、そのショットスイッチに対応させてそのときのズーム位置とフォーカス位置とを記憶する。 - 特許庁

A semiconductor chip 11 includes an element formation region 12 and a chip position identification pattern 13 outside the region 12, and the pattern 13 consists of the position information in an exposure shot 14 and the exposure shot position information 15.例文帳に追加

半導体チップ１１には素子形成領域１２とその素子形成領域１２外にチップ位置識別パターン１３があり、このチップ識別パターン１３は露光ショット内位置情報１４と、露光ショット位置情報１５とからなっている。 - 特許庁

To provide a charged particle beam lithography system capable of drawing a chip pattern while varying shot conditions of a specific pattern included in one piece of lithographic data of the chip pattern.例文帳に追加

チップパターンの一つの描画データに含まれる特定のパターンのショット条件を変えながら、チップパターンを描画可能な荷電粒子ビーム描画システムを提供する。 - 特許庁