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chemical copper-platingとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 化学銅めっき
「chemical copper-plating」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 22件
DEPOSIT COPPER THICKNESS MANAGEMENT DEVICE IN CHEMICAL COPPER PLATING EQUIPMENT例文帳に追加
化学銅めっき装置における析出銅膜厚管理装置 - 特許庁
CHEMICAL POLISHING AGENT AND METAL PLATING METHOD USING COPPER OR COPPER ALLOY TREATED BEFORE PLATING USING THE CHEMICAL POLISHING AGENT例文帳に追加
化学研磨剤及びその化学研磨剤を用いてめっき前処理した銅又は銅合金を用いる金属めっき方法 - 特許庁
To reduce a copper-plating waste liquid used for a chemical copper-plating operation, and to eliminate operations for adjusting a quantity of the copper plating liquid in a copper plating tank after being dialyzed and for correcting a concentration of the liquid.例文帳に追加
化学銅めっき作業に使用する銅めっき廃液の低減と、透析後の銅めっき槽内における銅めっき液の液量調整と液濃度の補正作業を不要にする。 - 特許庁
The chemical palladium/gold plating film and the copper wire and the palladium/copper wire which are bonded to the gold plating layer by wire bonding form a package structure.例文帳に追加
この化学パラジウム/金めっき皮膜及びワイヤボンディングで金めっき層に接合される銅線やパラジウム/銅線はパッケージ構造となる。 - 特許庁
After chemical copper plating is applied to an inner surface of a via hole connecting upper and lower conductor layers of a multilayer substrate, the inside of a via hole is subjected to filling plating by electrolytic copper plating.例文帳に追加
多層基板の上下の導体層間を接続するビアホールの内面に化学銅メッキを施した後、電解銅メッキによりビアホール内を充填メッキする。 - 特許庁
To solve the problem that copper corrodes and current does not flow in a copper interconnection when CMP (Chemical and Mechanical Polishing) is carried out using slurry chemically changing a copper plating film.例文帳に追加
銅めっき膜を化学的に変化させるスラリーを用いてCMPすると、銅が腐食して、銅配線に電流が流れなくなる。 - 特許庁
To provide a chemical polishing agent of copper or copper alloy which forms a surface state of a required and sufficient level, without generation of unevenness or the like, as pretreatment of plating of the copper or the copper alloy to which metal plating is applied, and to provide a metal plating method using the copper or the copper alloy treated before plating using the chemical polishing agent, as a plated material.例文帳に追加
金属めっきを施す銅又は銅合金のめっき前処理として必要十分なレベルの表面状態を、むらなどの発生無く形成できる銅又は銅合金の化学研磨剤と、被めっき物としてその化学研磨剤を用いてめっき前処理を施した銅又は銅合金を用いる金属めっき方法を提供する。 - 特許庁
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「chemical copper-plating」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 22件
A hole-making step, a titanium layer-copper layer forming step, a chemical copper plating step, a dry film forming step, a patterning step, a copper circuit forming step, a peeling step, a nickel plating step, a gold plating step and a titanium layer-copper layer removing step are successively performed.例文帳に追加
穿孔ステップと、チタン層・銅層形成ステップと、化学銅メッキステップと、ドライフィルム形成ステップと、パターニングステップと、銅回路形成ステップと、剥離ステップと、ニッケルメッキステップと、金メッキステップと、チタン層・銅層除去ステップと、順次行う。 - 特許庁
The intricate plating device is not specially needed when the outer face of the copper or copper-alloy water feeding utensil is plated, and then, a different plating is applied to only the inside of the utensil by chemical plating or substitution plating.例文帳に追加
銅又は銅合金製給水器具の外面にめっきを施し、その後化学めっき法又は置換めっき法で給水器具の内部のみに異種のめっきを施すため、特に複雑なめっき装置を必要としない。 - 特許庁
CHEMICAL PALLADIUM/GOLD PLATING FILM STRUCTURE, METHOD FOR PRODUCTION THEREOF, PALLADIUM/GOLD PLATING FILM PACKAGE STRUCTURE BONDED WITH COPPER WIRE OR PALLADIUM/COPPER WIRE, AND PACKAGING PROCESS THEREOF例文帳に追加
化学パラジウム/金めっき皮膜構造及びその製造方法、銅線またはパラジウム/銅線で接合されたパラジウム/金めっき皮膜パッケージ構造及びそのパッケージプロセス - 特許庁
The magnetic shielding cloth material is obtained by copper-plating on the surface of a chemical fiber, and attaching permalloy on its surface.例文帳に追加
磁気シールド布材は、化学繊維の表面に銅メッキを施し、その表面にパーマロイを付着させたものである。 - 特許庁
In the operation of chemical copper plating on supplying of copper sulfate performed when the concentration of copper ions in a plating solution becomes below a prescribed lower limit value, supplying of excess amount of water compared with the conventional supplying of amount is performed.例文帳に追加
化学銅めっきの操業において,めっき液の銅イオン濃度が所定の下限値を下回ったときに行われる硫酸銅の補充液等の補充の際,水の補充を,本来の補充量より過剰に行う。 - 特許庁
To provide a chemical palladium/gold plating film structure, a method for the production thereof, a palladium/gold plating film package structure bonded with a copper wire or a palladium/copper wire, and a packaging process thereof.例文帳に追加
本発明は、化学パラジウム/金めっき皮膜構造及びその製造方法、銅線またはパラジウム/銅線で接合されたパラジウム/金めっき皮膜パッケージ構造、及びそのパッケージプロセスを提供する。 - 特許庁
A nickel metal layer 13, a gold layer 14, and a nano plating film 15 are formed in the copper wiring pattern 12 exposed from the solder resist hole 11a one by one by a chemical plating method.例文帳に追加
はんだレジスト孔11aから露出した銅配線パターン12には化学めっき法で形成されたニッケル金属層13と金層14と、ナノめっき膜15が順次形成される。 - 特許庁
The copper plating layer 36 being the image line forming layer is subjected to a precision mechanical machining or chemical machining to produce many fine dots which form the image lines.例文帳に追加
銅メッキ層36は、画線形成層となっていて、機械的または化学的な精密加工によって設けた多数の微細な網点からなる画線が形成してある。 - 特許庁
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