bulk technologyとは 意味・読み方・使い方

An integrated circuit includes a bulk technology integrated circuit (bulk IC) having a bulk silicon layer and complementary MOSFET (CMOS) transistors fabricated thereon.例文帳に追加

集積回路は、バルクシリコン層及びバルクシリコン層の上に製造された相補型ＭＯＳＦＥＴ（ＣＭＯＳ）トランジスタを有するバルク技術集積回路（バルクＩＣ）を備えている。 - 特許庁

To provide a novel bulk element which can be used for a wide range of optical applications and electronic devices, utilizing a technology for forming a polarization inversion part in a ferroelectric bulk.例文帳に追加

強誘電体バルク中に分極反転部分を形成する技術を利用し、広範な光学用途、電子デバイス用途に使用可能な、新しいバルク素子を提供することである。 - 特許庁

MICROWAVE PACKAGE DEVICE INCLUDING FILM BULK ACOUSTIC RESONATOR MOUNTED BY USING FLIP CHIP BONDING TECHNOLOGY AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

フリップ・チップ・ボンディング技術を利用して実装される薄膜バルク音響共鳴器を含むマイクロ波パッケージ装置及びその製造方法 - 特許庁

To provide a technology capable of being effectively applicable even to a superconducting bulk body wherein an unevenly captured magnetic field takes place.例文帳に追加

本発明は、捕捉磁場割れを生じている超電導バルク体についても有効に利用することができる技術の提供を目的とする。 - 特許庁

To obtain a microelectronic mechanical system (MEMS) element in which the quality of a mirror and the freedom for the designing of a mirror driving are enhanced by using the technology of a bulk micromachining or the like, and to obtain an optical device using the MEMS element.例文帳に追加

バルクマイクロマシニング等の技術を使用して、ミラーの品質およびミラーの駆動についての設計の自由度を高めたＭＥＭＳ素子およびＭＥＭＳ素子を使用した光デバイスを得る。 - 特許庁

To synthesize a cost effective catalyst precursor for use in homopolymerization or copolymerization of an olefin, which can produce an olefin having high bulk density and excellent morphology suitable for a vapor phase process technology.例文帳に追加

オレフィンの単独重合または共重合において、気相プロセス技術に適した高嵩密度および優れたモルホロジーを持つオレフィンを製造できる対費用効果的な触媒前駆体を合成する。 - 特許庁

In a preferred forming process, the electrodeposition mold fabrication technology (e.g., selective deposition, bulk deposition, etching process and flattening process) and post deposition process (e.g., selective etching and/or final backfill process) are employed.例文帳に追加

好ましい形成プロセスでは、電着成型加工技術（例えば、選択的堆積、バルク堆積、エッチング作業、および平坦化作業）、及び、後堆積プロセス（例えば、選択的エッチング作業、および／または、裏込め作業）が用いられる。 - 特許庁