bulk resistanceとは 意味・読み方・使い方

SUPERHARD, TOUGH NANOCRYSTAL AUSTENITIC STEEL BULK MATERIAL HAVING EXCELLENT CORROSION RESISTANCE, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

超硬質・強靱で優れた耐食性を有するナノ結晶オーステナイト鋼バルク材及びその製造方法 - 特許庁

The specific resistance of a bulk 1b of the silicon substrate 1 is 1-100 mΩ cm.例文帳に追加

シリコン基板１のバルク１ｂの比抵抗は、１ｍΩ・ｃｍ以上１００ ｍΩ・ｃｍ以下である。 - 特許庁

To provide a method for producing an SrRuO_3 crystal film having low resistance equal to that of a bulk film by a sputtering process having excellent mass-productivity, and to provide a sputtered SrRuO_3 crystal film having low resistance equal to that of a bulk film.例文帳に追加

バルクに匹敵する低抵抗のＳｒＲｕＯ_３結晶膜を量産性に優れたスパッタ法で成膜する方法及びバルクに匹敵する低抵抗のスパッタＳｒＲｕＯ_３結晶膜を提供すること。 - 特許庁

To provide an oxide sintered compact not containing expensive gallium (Ga) and having a small bulk resistance, and to provide an oxide semiconductor thin film having the same composition as that of the oxide sintered compact.例文帳に追加

高価なガリウム（Ｇａ）を含有せず、バルク抵抗が小さい酸化物焼結体を提供する。 - 特許庁

It is preferable that the bulk resistance thereof is ≥0.5 mΩcm and the density thereof is ≥6.8 g/cm^3.例文帳に追加

そのバルク抵抗が０．５ｍΩｃｍ以上で、密度が６．８ｇ／ｃｍ^３以上であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method for effectively producing a sputtering target having a bulk resistance value low to a degree at which DC discharge is made possible.例文帳に追加

ＤＣ放電ができる程度にバルク抵抗値が低いスパッタリングターゲットを効果的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sulfide solid electrolyte material which achieves both the suppression of increase in interface resistance and the suppression of increase in bulk resistance.例文帳に追加

本発明は、界面抵抗の増加の抑制と、バルク抵抗の増加の抑制とを両立させた硫化物固体電解質材料を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a resistance-variable material and an element using the same which is varied in a ranges of higher than 1×10^8 Ωcm in bulk-shape form, in a bulk state, at zero magnetic field, and at a temperature range of 50-250°K.例文帳に追加

バルク状においてゼロ磁場状態で、５０Ｋ〜２５０Ｋの間で１０^８Ωｃｍ桁以上の抵抗変化をする材料と、これを用いた抵抗変化素子とを提供することである - 特許庁