blemishesとは 意味・読み方・使い方

Thereby, blemishes and cracks existing on the outer surface of the glass substrate except the part where the mask is formed can be removed.例文帳に追加

これによりマスクを形成した部分以外のガラス基板外面に存在する傷やクラックを除去することができる。 - 特許庁

To provide an industrial fibrous structural material in spite of having a sufficient mechanical characteristics and an excellent light fastness, having few fluff blemishes.例文帳に追加

十分な機械特性と優れた耐光性を有しながら毛羽欠点の少ない産業繊維構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a method which can efficiently manufacture a biaxially stretched polyamide film which has few surface blemishes and is excellent in the uniformity of thickness.例文帳に追加

表面欠点が少なく、厚みの均一性に優れた二軸延伸ポリアミドフィルムを効率的に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To move a pickup to a target position within a short time even when track position information cannot be read due to scratches, blemishes, or the like on a disk.例文帳に追加

ディスクの傷や汚れなどによりトラック位置情報の読み取りができない場合にも、短時間にピックアップを目標位置に移動させる。 - 特許庁

To suppress generation of white blemishes, dark current, and so on, even if a heavy metal contamination, and the like, is mixed with respect to a method of manufacturing a solid-state image pickup element.例文帳に追加

固体撮像素子の製造方法において、重金属汚染等が混入した場合にも白キズ、暗電流等の発生を抑制する。 - 特許庁

To provide an optical beam splitter that substantially removes or reduces at least part of blemishes or problems incidental to a method and system in the prior art.例文帳に追加

従来の方法及びシステムに付随する欠点や問題の少なくとも一部を実質的に除去または低減する、光ビームスプリッタを提供する。 - 特許庁

To enhance sensitivity while reducing a dark current and the number of white blemishes in a MOS type solid-state imaging device employing copper wiring, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

銅配線を用いるＭＯＳ型等の固体撮像装置及びその製造方法において、暗電流及び白キズ数の低減と、感度の向上を実現する。 - 特許庁

To provide an electrooptical panel wherein cracking strength of a substrate is improved by removing blemishes and cracks generated at the substrate in a manufacturing stage and to provide a method for manufacturing the electrooptical panel.例文帳に追加

製造工程中に基板に生じる傷やクラックを除去して基板の割れ強度を改善した電気光学パネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁