beamletとは 意味・読み方・使い方

Each beamlet deflecting mirror is a multi-axis micro-electro-mechanical mirror and the system further includes a beam dump 148 located in the optical path for intercepting a beamlet deflected into the beam dump by the corresponding beamlet deflecting mirror.例文帳に追加

各ビームレット偏向ミラーは、多軸超小型電気機械ミラーであり、システムは光路に配置したビームダンプ１４８を更に有し、ビームダンプが対応ビームレット偏向ミラーによってビームダンプ内に偏向されたビームレットを遮断する。 - 特許庁

The multi-beam pattern definition device 300 includes a deflection array means 302 and a plurality of electrostatic deflector electrodes 321 for each beamlet.例文帳に追加

偏向アレイ手段３０２、各ビームレット用の複数の静電偏向電極３２１を有する。 - 特許庁

In conjunction with an associated counter electrode 311, each deflector electrode deflects its beamlet sufficiently to deflect the beamlet off its nominal path when applied an activating voltage against the respective counter electrode.例文帳に追加

それぞれの対向電極に対して起動電圧が印加されたときに、ビームレットをその公称経路外に偏向させるように、各偏向電極は、関連する対向電極３１１と協働して、充分に偏向させる。 - 特許庁

To increase the number and density of primary electron beamlet spots formed at a time while maintaining a desired image forming resolution of an electron microscope device.例文帳に追加

電子顕微鏡装置の所望の結像解像度を維持しながら、一度に形成される一次電子ビームスポットの数や、密度を高める。 - 特許庁

The porous plate has a plurality of openings formed in a first prescribed array pattern, a plurality of charged particle beamlets are formed from a charged particle beam in the downstream, and by the plurality of the beamlets, a plurality of beamlet spots arranged in a second prescribed array pattern are formed on an image plane of the particle optical device.例文帳に追加

前記多孔プレートは、所定の第１のアレイパターン状に形成された複数の開孔を有し、下流側で前記荷電粒子ビームから複数の荷電粒子小ビームが形成され、前記複数の小ビームにより、第２のアレイパターン状に配置された複数のビームスポットが前記粒子光学装置の像平面に形成される。 - 特許庁

The device comprises at least one deflection means having a plurality of apertures surrounding beamlets, each aperture being equipped with at least two deflection electrodes which can apply different electrostatic potentials, so that the beamlet paths passing through respective apertures based on desired paths passing through the device (102) are corrected.例文帳に追加

デバイスがビームレットを取り巻く複数の開口部を有する少なくとも一つの偏向手段からなり、各開口部が異なる静電電位を印加可能である少なくとも二つの偏向電極を備え、デバイス（１０２）を通る所望のパスに基づくそれぞれの開口部を通過するビームレットのパスが修正される。 - 特許庁