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beam deflection amplifierとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 偏向形素子
「beam deflection amplifier」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
DEFLECTION AMPLIFIER AND CHARGED PARTICLE BEAM DEFLECTION DEVICE例文帳に追加
偏向アンプ及び荷電粒子ビーム用偏向装置 - 特許庁
DEFLECTION AMPLIFIER ESTIMATING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE例文帳に追加
偏向アンプの評価方法および荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
DEFLECTION AMPLIFIER EVALUATION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加
偏向アンプの評価方法および荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS, DEFLECTION AMPLIFIER, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY PROGRAM例文帳に追加
電子ビーム描画装置、偏向アンプ、電子ビーム描画方法、半導体装置の製造方法、及び電子ビーム描画プログラム - 特許庁
To provide a deflection amplifier estimating method that can quickly determine the presence or absence of a failure of a deflection amplifier, and a charged beam drawing device having the functions of the same method.例文帳に追加
迅速に偏向アンプの故障の有無を判断できる偏向アンプの評価方法と、この機能を備えた荷電粒子ビーム描画装置とを提供する。 - 特許庁
To implement high-precision deflection control by calculating 8-pole deflection data of an electric beam pattern forming with high precision and adjusting a deflection amplifier for all of the 8 poles with high precision.例文帳に追加
電子ビーム描画の8極偏向データの演算を高精度に行うと共に、8極相互の偏向アンプのゲイン調整を高精度に行うことにより高精度の偏向制御を実現する。 - 特許庁
To provide an electron beam lithography apparatus which can compensate the drawing position with high accuracy, a deflection amplifier, an electron beam lithography method, a method for manufacturing a semiconductor device, and an electron beam lithography program.例文帳に追加
高精度な描画位置補正を行なうことのできる電子ビーム描画装置、偏向アンプ、電子ビーム描画方法、半導体装置の製造方法、及び電子ビーム描画プログラムを提供すること。 - 特許庁
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「beam deflection amplifier」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 13件
To provide a deflection unit of an electrically-charged particle beam which can also reduce an external noise without lowering the amplification factor of an operational amplifier and which can, thereby, attain further low noise reduction by this.例文帳に追加
演算増幅器の増幅率を下げることなく外来ノイズをも低減でき、これによりさらなる低ノイズ化を図ることができる荷電粒子ビームの偏向ユニットを提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam drawing device capable of checking data transfer from a deflection control circuit up to a DAC amplifier unit without reducing drawing accuracy, and to provide a drawing method in the charged particle beam drawing device.例文帳に追加
描画精度を低下させることなく、偏向制御回路からDACアンプユニットまでのデータ転送をチェックすることが可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画装置における描画方法を提供する。 - 特許庁
In a comparison control portion 5, a differential amplifier 8 obtains a deflection signal from the output command value of a predetermined laser beam from an irradiation command portion 4, and output voltage of a power detector 3 and thereafter, an adder 9 adds the deflection signal and the output command value and outputs it.例文帳に追加
比較制御部5では、照射指令部4よりの所定レーザ光の出力指令値とパワー検出部3の出力電圧から差動増幅器8により偏差信号を得た後に、加算器9で偏差信号と出力指令値を加算し、出力される。 - 特許庁
This spectrum position correction signal H is a signal corresponding to an electron beam deflection signal A' supplied to the driving amplifier 15 from a scan generator 19, an exciting signal B' supplied to the driving amplifier 16 from the intermediate lens exciting signal supply circuit 21, and an exciting signal C' supplied from a projection lens exciting signal supply circuit 22 to the driving amplifier 17.例文帳に追加
このスペクトラム位置補正信号Hは、スキャンジェネレータ19から駆動アンプ15に供給される電子線偏向信号A’、中間レンズ励磁信号供給回路21から駆動アンプ16に供給される励磁信号B’、および投影レンズ励磁信号供給回路22から駆動アンプ17に供給される励磁信号C’に対応した信号である。 - 特許庁
The e-beam mask writer includes a plurality of DAC/amplifier circuits to output analog voltage signals, each DAC/amplification circuit having a first output terminal and a second output terminal, the first output terminals of the plurality of DAC/amplification circuits being respectively coupled to deflection plates of the e-beam mask writer to provide the output analog voltages as deflection voltages.例文帳に追加
電子ビーム・マスク描画装置は、アナログ電圧信号を出力する多数のディジタル・アナログ変換/アンプ回路を含み、各ディジタル・アナログ変換/アンプ回路が第1の出力端子及び第2の出力端子を有し、第1の出力端子が夫々偏向電圧としての出力アナログ電圧を供給する電子ビーム・マスク描画装置の偏向プレートに連結されている。 - 特許庁
Digital data for circuit diagnosis is transmitted from a position deflection control circuit 230 of the charged particle beam drawing device to the DAC amplifier unit 232 at a speed substantially equal to the drawing speed of a product reticle, and stored in a maintenance memory 231.例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画装置の位置偏向制御回路230からDACアンプユニット232に回路診断用のデジタルデータを製品レチクルの描画速度と同等の速度で送信すると共に、メンテナンスメモリ231に記憶する。 - 特許庁
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