atomic hydrogen beamとは 意味・読み方・使い方

Hydrogen radicals and molecular or atomic beams of a film formation material are supplied to a substrate treatment chamber 20 separately from the hydrogen radical generator 10 and the molecular beam cell 23, respectively.例文帳に追加

そして、水素ラジカル発生装置１０から水素ラジカルが、分子線セル２３から成膜材料の分子線または原子線が、それぞれ別々に、基板処理室２０に供給されるようになっている。 - 特許庁

The method for producing the imprinting member comprises the steps of: depositing an amorphous DLC (diamond-like carbon) film containing 12-30 atomic% hydrogen and the balance of carbon on the surface of a base material; and irradiating the surface of the DLC film directly with a laser beam to form the engraved groove consisting of a geometrical pattern or the like.例文帳に追加

基材の表面に、水素を１２〜３０原子％含み、残部が炭素からなるアモルファス状ＤＬＣ膜を被覆形成し、その後、該ＤＬＣ膜の表面に直接、レーザビームを照射して、幾何学模様などからなる彫刻溝を彫刻することによってインプリント部材を製造する。 - 特許庁

The radiation shield material is constituted by combining porous zeolite with a high hydrogen element content having large neutron shielding effect, ion exchange elements (adding hydrogen and excluding nickel and lead) containing 2, 6, 8, 14, 20, 28, 50, 82, 126 neutrons or protons, heavy metals over atomic number of 40 exhibiting high shielding effect to high energy neutron beam and gamma ray and thermal neutron absorber.例文帳に追加

本発明の放射線遮蔽材は、中性子遮蔽効果の大きい水素元素含有率の高い多孔質ゼオライト、2、6、8、14、20、28、50、82、126個の中性子または陽子を含むイオン交換性元素（但し水素を加えニッケルと鉛は除く）、高エネルギー中性子線及びガンマ線に高い遮蔽効果を示す原子番号40以上の重金属と、熱中性子吸収材を組み合わせてなるものである。 - 特許庁

The method of manufacturing a master mold for nanoimprint comprises forming a pattern on a resist-applied silicon substrate by electron beam drawing to prepare a silicon master, separating a master mold having a rugged pattern reverse to a resist pattern of the silicon master formed by electroforming, from the silicon master, and then eliminating resist residue on the surface of the master mold by irradiation of plasma containing atomic hydrogen.例文帳に追加

レジストを塗布したシリコン基板に電子線描画によってパターンを形成してシリコン原盤を作製した後、電鋳により形成された前記シリコン原盤のレジストパターンと逆の凹凸パターンを有するマスターモールドを前記シリコン原盤から剥離した後、原子状水素を含むプラズマの照射で前記マスターモールドの表面のレジスト残渣を除去することを特徴とするナノインプリント用マスターモールドの製造方法。 - 特許庁