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atomic beam sourceとは 意味・読み方・使い方
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「atomic beam source」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
ATOMIC BEAM SOURCE AND SURFACE REFORMING DEVICE例文帳に追加
原子線源および表面改質装置 - 特許庁
HIGH SPEED ATOMIC BEAM SOURCE DEVICE AND WORKING DEVICE HAVING IT例文帳に追加
高速原子線源装置およびこれを具備する加工装置 - 特許庁
FAST ATOM RADIATION SOURCE AND FAST ATOMIC BEAM DISCHARGING METHOD AND SURFACE REFORMING DEVICE例文帳に追加
高速原子線源および高速原子線放出方法ならびに表面改質装置 - 特許庁
Further, in the other implementation case, the ion beam generating device comprises a molecular ion source, an atomic ion source, and a switching element for selecting one of the two ion sources.例文帳に追加
更に他の実施例では、イオンビーム発生装置は分子イオン源と、原子イオン源と、2つのイオン源の1つを選択するスイッチング素子とを含む。 - 特許庁
Even when the laser beam emitted from a laser beam source 10 changes in luminous intensity, the intensity of the laser beam incident on the atomic cell 20 can be held constant through a transmitted liquid quantity-varying means 40, disposed between the laser beam source 10 and the atomic cell 20, and a transmitted light quantity control circuit 41 controlling the transmitted liquid quantity-varying means.例文帳に追加
レーザー光源10から射出されるレーザー光の発光強度が変化しても、レーザー光源10と原子セル20との間に位置した透過光量可変手段40およびそれを制御する透過光量制御回路41によって原子セル20に入射するレーザー光の強度を一定にできる。 - 特許庁
To provide a high speed atomic beam source device preventing flow of gas into a gap between an anode and a cathode, and provide a working device having it.例文帳に追加
アノードとカソードとの間の間隙にガスを流入せしめない高速原子線源装置およびこれを具備する加工装置を提供する。 - 特許庁
The temperature control calculator 13 controls the temperatures of the molecular beam generators 10a/10b, so that a measurement result of the atomic absorptive film-formation monitor 8 becomes the control target value of the atomic absorptive film-formation monitor 8 calculated from a remaining amount of a molecular beam source calculated from measurement results of the vacuum gauges 14a/14b.例文帳に追加
温度制御演算器13は、原子吸光式成膜モニタ8の測定結果が、真空計14a・14bの測定結果から算出した分子線源の残量より算出した原子吸光式成膜モニタ8の制御目標値となるように、分子線発生部10a・10bの温度を制御する。 - 特許庁
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「atomic beam source」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
A far-infrared pulse laser beam is made to enter a target, consisting of a low atomic number substance, thereby high-speed electrons caused by resonance absorption phenomenon is generated; and this high-speed electrons are made to collide with a high atomic number substance, thereby characteristic X-rays of short-pulse high luminance point-like light source is generated.例文帳に追加
遠赤外パルスレーザー光を低原子番号物質からなるターゲットに入射させることにより共鳴吸収現象に起因する高速電子を発生させ、該高速電子を高原子番号物質に衝突させることにより、短パルス高輝度点光源の特性X線を発生させる。 - 特許庁
In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加
電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁
The MBE device 100 is provided with molecular beam generators 10a/10b, vacuum gauges 14a/14b, an atomic absorptive film-formation monitor 8 having a light-source unit 6 and a light-receiving unit 7, and a temperature control calculator 13 for controlling temperatures of the molecular beam generators 10a/10b.例文帳に追加
本発明のMBE装置100は、分子線発生部10a・10bと、真空計14a・14bと、光源ユニット6と受光ユニット7とを有する原子吸光式成膜モニタ8と、分子線発生部10a・10bの温度を制御する温度制御演算器13とを備えている。 - 特許庁
The MBE device comprises a vacuum vessel 1, a substrate stage 2 provided in the vacuum vessel 1 for holding a substrate 3 so as to be able to rotate and heat the substrate 3, molecular beam cells 4A to 4C for irradiating the surface of the substrate 3 with molecular beams (atomic beams), and a radical source 5 for supplying nitrogen radicals to the surface of the substrate 3.例文帳に追加
MBE装置は、真空容器1と、真空容器1の内部に設けられ、基板3を保持し、基板3の回転、加熱が可能な基板ステージ2と、基板3表面に分子線(原子線)を照射する分子線セル4A〜Cと、基板3表面に窒素ラジカルを供給するラジカル源5と、を備えている。 - 特許庁
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