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argon mixtureとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 アルゴン混合ガス
「argon mixture」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 72件
A lower electrode made of Pt is etched with the mixture gas of chlorine and argon.例文帳に追加
塩素とアルゴンの混合ガスで下電極のPtをエッチング。 - 特許庁
TIG BRAZE WELDING METHOD USING MIXTURE OF ARGON/HELIUM/HYDROGEN例文帳に追加
アルゴン/ヘリウム/水素混合物を用いたTIGブレーズ溶接方法 - 特許庁
A mixture gas of argon and hydrogen is used for the gas 8 for generating the plasma.例文帳に追加
プラズマ生成用ガス8としてアルゴンと水素の混合ガスを用いる。 - 特許庁
The inert gas is selected from nitrogen, argon, helium or the mixture of these.例文帳に追加
不活性ガスは、窒素、アルゴン、ヘリウム、およびこれらの混合物から選択される。 - 特許庁
The shielding gas is a mixture of argon and helium that is added to the total of argon at a ratio of 0.1-10 vol%.例文帳に追加
このシールドガスは、アルゴンと、アルゴンの全量に対して0.1〜10体積%の割合で添加されたヘリウムとの混合ガスである。 - 特許庁
The mixture ratio of nitrogen N_2 to argon Ar of sealed gas is 0.1-5%.例文帳に追加
封入ガスのアルゴンArに対する窒素N_2の混合割合が、0.1%〜5%である。 - 特許庁
Mixture gas containing xenon (Xe) and argon (Ar) is sealed as discharge gas in the plasma display panel, with a ratio of mixture ratio of argon to that of xenon of 1/1,000 or more and less than 1/5.例文帳に追加
放電ガスとしてキセノン(Xe)およびアルゴン(Ar)を含む混合ガスを封入し、アルゴンの混合率とキセノンの混合率との比率を、1/1000以上1/5未満としたプラズマディスプレイパネルである。 - 特許庁
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「argon mixture」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 72件
The hydrogen concentration in the gas mixture containing nitrogen and/or argon and hydrogen is less than 50%.例文帳に追加
窒素および/またはアルゴンと水素とを含むガス混合物中の水素濃度は50%を下回る。 - 特許庁
METHOD AND UNIT FOR PLASMA ARC MACHINING USING GAS MIXTURE BASED ON HYDROGEN, NITROGEN AND/OR ARGON例文帳に追加
水素、窒素および/またはアルゴンに基づくガス混合物を用いるプラズマアーク加工方法およびユニット - 特許庁
The gas mixture is obtained by adding a prescribed quantity of hydrogen to nitrogen and/or argon just before the gas mixture is introduced into the torch.例文帳に追加
ガス混合物は、ガス混合物をトーチに導入する直前に、規定された量の水素を窒素および/またはアルゴンに添加して得られる。 - 特許庁
It is preferable that the washout gas mixture includes a mixture of helium and fluorine to which argon is added and the quantity of the helium in the washout gas mixture ranges from 3.1 to 31 atom percent.例文帳に追加
ウォッシュ・アウトガス混合物は、アルゴンが追加されるヘリウムとフッ素との混合物を含むのが好ましく、ウォッシュ・アウトガス混合物の中のヘリウムの量は3.1〜31原子パーセントの範囲である。 - 特許庁
The STO film 107 is etched with use of a mixture gas of chlorine and argon and ethane added thereto in one reaction chamber.例文帳に追加
一方の反応室で塩素とアルゴンにエタンを添加した混合ガスを用いSTO膜107をエッチングする。 - 特許庁
Example of the gas 3 is a mixture of a rare gas such as xenon, krypton, argon, and oxygen or halogen gas or the like.例文帳に追加
放電ガス3としては、キセノン、クリプトン、アルゴン等の希ガスと酸素あるいはハロゲンガス等を混合したものを用いる。 - 特許庁
Example of the gas 4 is a mixture of a rare gas such as xenon, krypton, argon, and oxygen or any halogen gas or the like.例文帳に追加
励起ガス4としては、キセノン、クリプトン、アルゴン等の希ガスと酸素あるいはハロゲンガス等を混合したものを用いる。 - 特許庁
A stripping gas, such as a mixture of oxygen and argon is provided to the etch chamber and is excited to form an oxygen plasma.例文帳に追加
酸素とアルゴンとの混合物等の剥離ガスが、エッチングチャンバに提供され、酸素プラズマを形成するために励起される。 - 特許庁
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