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amorphous silicon deviceとは 意味・読み方・使い方
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「amorphous silicon device」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 193件
FORMING METHOD OF AMORPHOUS SILICON FILM AND FILM FORMING DEVICE例文帳に追加
アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING AMORPHOUS SILICON FILM例文帳に追加
アモルファスシリコン膜を有する半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING AMORPHOUS SILICON THIN FILM PHOTOELECTRIC TRANSFER DEVICE例文帳に追加
非晶質シリコン系薄膜光電変換装置の製造方法 - 特許庁
PLASMA CVD DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN AMORPHOUS SILICON FILM例文帳に追加
プラズマＣＶＤ装置およびアモルファスシリコン薄膜の製造方法 - 特許庁
To provide a semiconductor device manufacturing method capable of efficiently distributing elements which promote the crystallization of amorphous silicon on the surface of an amorphous silicon film so as to stably crystallize amorphous silicon when a semiconductor device is manufactured by crystallizing an amorphous silicon film by the use of elements promoting the crystallization of amorphous silicon.例文帳に追加
非晶質珪素の結晶化を助長する元素を使って、非晶質膜珪素膜を結晶化させて半導体装置を作製するに際して、結晶化を好適に行える状態となるように前記元素を非晶質珪素膜の表面へ効率よく配することのできる半導体装置の作製方法を提供する。 - 特許庁
The method for fabricating the semiconductor device comprises the steps of forming an amorphous silicon film on the surface of an insulator, heating the amorphous silicon film, and thereby setting the hydrogen concentration in the amorphous silicon film to 5 atomic % or less.例文帳に追加
絶縁表面上にアモルファスシリコン膜を形成し、前記アモルファスシリコン膜を加熱することによって、前記アモルファスシリコン膜中の水素濃度を５原子％以下とする。 - 特許庁
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「amorphous silicon device」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 193件
MANUFACTURING METHOD OF AMORPHOUS SILICON GERMANIUM THIN FILM AND PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE例文帳に追加
非晶質シリコンゲルマニウム薄膜の製造方法及び光電変換装置 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR CONVERTING AMORPHOUS SILICON FILM INTO POLYSILICON FILM例文帳に追加
アモルファスシリコン膜をポリシリコン膜に変換するための方法および装置 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR STABILIZING LAMINATED AMORPHOUS SILICON SOLAR CELL例文帳に追加
積層型アモルファスシリコン太陽電池の安定化方法および安定化装置 - 特許庁
P-TYPE AMORPHOUS SILICON THIN FILM, PHOTOVOLTAIC DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD FOR THEM例文帳に追加
ｐ型アモルファスシリコン薄膜、光起電力装置及びそれらの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING AMORPHOUS SILICON FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
非晶質シリコン膜の形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE WITH INTEGRATED AMORPHOUS SILICON THIN FILM TRANSISTOR DRIVE ARRAY例文帳に追加
集積アモルファスシリコン系薄膜トランジスタドライブ列を有する液晶表示装置 - 特許庁
This photovoltaic device comprises an n-type single crystal silicon substrate 1 and an amorphous silicon film 2 (substantially intrinsic undoped amorphous silicon film 2a and p-type amorphous silicon film 2b) that is formed on the top of the n-type single crystal silicon substrate 1.例文帳に追加
この光起電力装置は、ｎ型単結晶シリコン基板１と、ｎ型単結晶シリコン基板１の上面上に形成された非晶質シリコン膜２（実質的に真性なノンドープ非晶質シリコン膜２ａおよびｐ型非晶質シリコン膜２ｂ）とを備えている。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR DRYING SUBSTRATE HAVING AMORPHOUS SILICON FILM TREATED WITH HYDROFLUORIC ACID例文帳に追加
フッ酸処理されたアモルファスシリコン膜付き基板の乾燥方法および乾燥装置 - 特許庁
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