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Vacuum chucksとは 意味・読み方・使い方
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「Vacuum chucks」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 19件
To prevent polishing chips or abrasive grains from sticking to the surface of a chuck which vacuum-chucks a wafer.例文帳に追加
ウエハをバキュ−ムチャックするチャック表面に研磨屑や砥粒が固着するのを防止する。 - 特許庁
To easily take out electrode parts of electrostatic chucks from an inner part of a vacuum chamber, in a substrate sticking apparatus for sticking substrates in the vacuum chamber while the substrates are held by the electrostatic chucks.例文帳に追加
本発明は、静電チャックで基板を保持しつつ、真空槽内で貼り合わせる基板貼り合わせ装置において、静電チャックの電極部を真空槽内からの容易に取り出し得るようにする。 - 特許庁
The porous alumina is usable for various applications including vacuum chucks, filters, film making tools, etc.例文帳に追加
本発明の多孔質アルミナは真空チャック、フィルター、濾過器、製膜用治具などさまざまな用途に使用することができる。 - 特許庁
The block 21 has suction hole 26, which vacuum chucks and loads the work 15, and a refrigerant path 28 is formed under the block 21.例文帳に追加
ブロック21にワーク15を真空吸着して載置する吸着孔26を開孔し、またブロック21の下部に冷媒路28を形成する。 - 特許庁
A collet 23 is driven by a second motor 22 to move vertically down and sucks and vacuum chucks a chip 4 on an adhesive sheet 3.例文帳に追加
コレット23は第2のモータ22に駆動されて上下動作を行い、粘着シート3上のチップ4を真空吸着してピックアップする。 - 特許庁
A vacuum chuck with heating mechanism, which adsorbs a supporting substrate, and one vacuum chuck in vacuum chucks adsorbing the substrate to be processed are connected to an arm-like supporting member operating in a horizontal direction by a member which expands and contracts.例文帳に追加
支持基板を吸着する加熱機構付き真空チャックと被処理基板を吸着する真空チャックの内の一方の真空チャックを水平方向に稼動するアーム状支持部材に伸縮可能な部材で接続する。 - 特許庁
The opening 37 of a nozzle mounting part 26 communicates with a vacuum source and chucks and takes out the part from the part supply unit.例文帳に追加
このため、ノズル取付部26の開口37が真空源に連通し、部品を真空吸着し各部品供給ユニットから夫々取出す。 - 特許庁
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「Vacuum chucks」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 19件
A bottom plate 51 comprises a vacuum chuck 52, and chucks and secures a semiconductor wafer 16 where a semiconductor device, which is to be screened, is formed.例文帳に追加
底板51は、真空チャック52を備え、スクリーニング対象である半導体装置を形成された半導体ウエハ16を吸着して固定する。 - 特許庁
Air passages are allowed to communicate with the air passage connection members 29 and 33 communicating with a vacuum device 16 when the fixed mold 14 and the movable mold are attached to the respective permanent electromagnetic chucks and the air of the attaching surfaces is sucked through the vacuum device 16 to enable the suction force by the vacuum chuck in addition to the attraction force by the permanent electromagnetic chucks.例文帳に追加
固定金型14と可動金型15が各々永電磁チャックに取り付けられたとき真空装置16と連通している空気通路接続部材29,33に空気通路を連通させ、取り付け面の空気を真空装置16を介して吸い込み、永電磁チャックによる吸着力に加え真空チャックによる吸着をも可能とする構成にした。 - 特許庁
The dropping of a substrate 6 is prevented, even in a vacuum atmosphere by mechanical chucks 40, 45a which grasp the circumference or peripheral part of the central hole 6a in the substrate 6.例文帳に追加
基板6の中心孔6aの周囲又は外周部を把持する機械式チャック40,45aにより、真空雰囲気内でも、基板を落下することを防ぐことができる。 - 特許庁
When the motor 22 is driven, a cam 33 is also rotated with a horizontal shaft 20 and the nozzle 21 is turned 90 degrees in a state where it communicates with vacuum source and chucks the part.例文帳に追加
該モータ22が駆動すると水平軸20と共にカム33も回転し、ノズル21は真空源に連通して電子部品の吸着状態を維持したまま90度回転することとなる。 - 特許庁
A cutter for a tapeless board is equipped with a support mechanism for supporting a tapeless board where a tape for sticking is not stuck on the rear, a vacuum chucking mechanism which chucks the tapeless board by vacuum with respect to this support mechanism, and an cutting mechanism which cuts the specified place of the tapeless board supported in vacuum condition against the support mechanism by this vacuum chucking mechanism.例文帳に追加
ダイシング処理用基板支持装置は、少なくとも1つのネスト開口部504を規定する格子を含むネスト502と、ネスト502の前記第1のネスト面の側から該ネスト502と嵌合するとともに、該ネスト502と嵌合する際に前記ネスト開口部504を貫通する少なくとも1つの真空ペデスタル522を有する真空保持プレート520を備えている。 - 特許庁
The coarse chamfering is conducted so that a V-groove of a grinding wheel 25 is fitted on the edge of the work W and rotated in the condition that a chuck part 22 rotates while it chucks the work W by vacuum.例文帳に追加
この粗面取りは、チャック部22がワークWを真空チャックしつつ回転した状態で、砥石車25のV字溝がこのワークWの縁辺に嵌合して回転することにより、なされる。 - 特許庁
Wafer forks 30 are provided with a wafer retaining surface 32, having the shape which increases the retentive strength of wafers 16 utilizing the flow of air while wafers are being carried, and a chuck pad 34, which is provided on the above-mentioned retaining surface and vacuum chucks the wafers.例文帳に追加
ウエハ用フォーク30は、ウエハ搬送中の空気の流れを利用してウエハ16の保持力を増加させるような形状を有する保持面32と、この保持面に設けられ且つウエハを負圧吸着させる吸着パッド34とを備える。 - 特許庁
When handling the glass substrate in vacuum atmosphere, temperature of the glass substrate C is controlled at 150°C-480°C, and handling is performed to the glass substrate C controlled at 150°C-480°C, desirably at 190°C or more, in the temperature thereof by using electrostatic chucks 4.例文帳に追加
真空雰囲気中でガラス板をハンドリングする際に、ガラス板Cの温度を150℃〜480℃に制御し、温度を150℃〜480℃に制御したガラス基板C、望ましくは190℃以上に制御したガラス板に対して静電チャック4を用いてハンドリングを行う。 - 特許庁
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