RE layerとは 意味・読み方・使い方
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該当件数 : 475件
On the buffer layer of a sapphire single crystal substrate having a buffer layer, a thin film of high temperature superconducting oxide (RE)BCO into which 1% or more of cavities are introduced is provided through an intermediate thin film of (RE')Ba_2Cu_3O_7 where RE' different from RE of the (RE)BCO thin film is selected.例文帳に追加
バッファ層を有するサファイア単結晶基板のバッファ層上に、１％以上の空孔を導入した高温超電導酸化物 (RE)BCO 薄膜を、間に (RE)BCO 薄膜とは異なるRE’を選んだ (RE’)Ba_2Cu_3O_7の中間層薄膜を介して設けた多層構造の(RE)BCO 薄膜及びその製造方法。 - 特許庁
The re-reflecting layer 6 contains an ultraviolet interrupting material.例文帳に追加
再反射層６は、紫外線遮断材を含む。 - 特許庁
The surface layer contains RE, and has a ratio of RE to oxygen of at least 2:3.例文帳に追加
表面層は、ＲＥを含み、少なくとも２：３のＲＥ対酸素の比率を有する。 - 特許庁
Formula (a) is Re(450)/Re(650)<1.25, wherein Re(450) and Re(650) are in-plane retardation values of the optically anisotropic layer at wavelength 450 nm and 650 nm.例文帳に追加
式（ａ） Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）＜１．２５ 数式中Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（６５０）は波長４５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける光学異方性層の面内レターデーション値である。 - 特許庁
An active layer 5, a second clad layer 6 and a current diffusing layer 7 re-laminated ad formed thereon.例文帳に追加
その上に、活性層５、第２クラッド層６および電流拡散層７を積層形成する。 - 特許庁
An optically anisotropic layer has an Re retardation value in 10-100 nm range, and further inequalities (I) and (II) are satisfied, (I) 0.1<Re(40')/Re(632.8 nm)<2.0,例文帳に追加
（Ｉ） ０．１＜Ｒｅ（４０゜）／Ｒｅ（６３２．８ｎｍ）＜２．０（II） ０．１＜Ｒｅ（−４０゜）／Ｒｅ（６３２．８ｎｍ）＜１．０［各レターデーション値は、波長６３２．８ｎｍの光で測定したもの。 - 特許庁
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「RE layer」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 475件
A re-entering structure is arranged on the quantum dot layer.例文帳に追加
量子ドット層の上に、再入射構造物が配置されている。 - 特許庁
SEMICONDUCTOR TRANSISTOR WITH P TYPE RE-GROWN CHANNEL LAYER例文帳に追加
Ｐ型の再成長したチャネル層を有する半導体トランジスタ - 特許庁
A re-reflecting layer 6 to re-reflect a beam reflected by the metal electrode layer 5 is provided in the light intercepting side of the transparent substrate 2.例文帳に追加
透明基板２の受光面に、金属電極層５で反射された光線を再反射する再反射層６を備える。 - 特許庁
RE-RELEASABLE ADHESIVE COMPOSITION, RE-RELEASABLE ADHESIVE LAYER, PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE SHEETS AND SURFACE-PROTECTION MATERIAL例文帳に追加
再剥離型粘着剤組成物、再剥離型粘着剤層、および粘着シート類、ならびに表面保護材 - 特許庁
The re-reflecting layer 6 is integrally formed with the transparent substrate 2.例文帳に追加
再反射層６は、透明基板２と一体に形成されている。 - 特許庁
A re-wiring layer 56 is formed on a surface of the memory chip 9.例文帳に追加
メモリチップ９の表面には、再配線層５６が形成される。 - 特許庁
The current limiting part 10 is provided with a conductor layer aggregating a plurality of superconducting wires forming an Re system superconducting layer film on a metal board.例文帳に追加
限流部10は、金属基板上にRe系超電導層を成膜した超電導線を複数本集合した導体層を持つ。 - 特許庁
The semiconductor device includes a p-type field effect transistor that includes a gate dielectric layer 108 formed on a semiconductor substrate, an oxygen-containing alloy layer 110 formed on the gate dielectric layer 108, a Re layer 112 formed on the oxygen-containing alloy layer 110, and a Re oxide layer 502 located between the gate dielectric layer 108 and the oxygen-containing alloy layer 110.例文帳に追加
半導体基板上に形成されたゲート誘電体層１０８と、ゲート誘電体層１０８上に形成された酸素を含む合金層１１０と、酸素を含む合金層１１０上に形成されたRe層１１２と、ゲート誘電体層１０８と酸素を含む合金層１１０との間に位置するRe酸化物層５０２を含むp 型電界効果トランジスタを具備する。 - 特許庁
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