PERHALOGENATEDとは 意味・読み方・使い方

To provide a perhalogenated aromatic compound promising as a raw material for low-permittivity materials and to provide a method for producing the same in a high yield.例文帳に追加

低誘電率材料の原料として有力な過ハロゲン芳香族化合物およびその高収率な製造方法を提供する。 - 特許庁

In the second process, the octafluorocyclopentene is obtained by fluorinating the mixture of perhalogenated cyclopentene represented by General formula (2) obtained in the first process, with a metal fluoride.例文帳に追加

第二工程：第一工程で得られた一般式（２）で表されるパーハロゲン化シクロペンテンの混合物を、金属フッ素化物によってフッ素化し、オクタフルオロシクロペンテンを得る工程。 - 特許庁

To provide a thermoplastic perhalogenated chlorotrifluoroethylene(CTFE) (co)polymer which does substantially not loss its weight and discolored, even when extruded and molded at a high molding temperature and in a long retention time.例文帳に追加

ＣＴＦＥの押出し成形の際に、成形温度が高く滞留時間が長くても、実質的に重量損失がなく、また、変色が生じることのないＣＴＦＥを提供することを目的とする。 - 特許庁

Cyclopentane, cyclopentene, hydrogen-containing cyclopentenes or hydrogen-containing cyclopentanes partially halogenated with chlorine atom or fluorine atom as a raw material are substantially simultaneously reacted with chlorine and hydrogen fluoride on a catalyst to produce the objective perhalogenated 5-membered ring compound.例文帳に追加

シクロペンタン、シクロペンテン、部分的に塩素原子またはフッ素原子でハロゲン化された含水素シクロペンテンまたは含水素シクロペンタン類を原料として、触媒上で塩素とフッ化水素を実質的に同時に反応させる。 - 特許庁

The scavenger support is acquired from a chemical reaction between a functionalized support having pendant groups selected from 1,3-ketoesters or 1,3-ketoamides or mixtures thereof having a hydrocarbyl group, a perhalogenated hydrocarbyl group or a heterocyclyl group which is connected to a support through a linker, with an amine having a substituted hydrazine or its salt or a specified chemical structure.例文帳に追加

スカベンジャー担体を、リンカーを介して担体に結合した、ヒドロカルビル基、過ハロゲン化ヒドロカルビル基又はヘテロシクリル基を有する1,3-ケトエステル類又は1,3-ケトアミド類又はこれらの混合物から選択されるペンダント基を含む官能性化担体と、置換されているヒドラジン又はそれらの塩又は特定の化学構造を有するアミンとの反応により得る。 - 特許庁

Wet etching is performed upon the highly insulated thin layer at a room temperature in a mixed liquid of hydrofluoric acid, perchloric acid, other perhalogenated element acid, and the like such that an etching rate of the layer becomes ≥10 Å/min, at the same time, an etching rate of silicon oxide, USG or polysilicon becomes ≤10 Å/min all and a selection ratio becomes appropriate for needs of respective processes.例文帳に追加

弗化水素酸と過塩素酸やその他の過ハロゲン族元素酸の混合液により、室温下で高絶縁性薄層に対してウェットエッチングを行い、該層のエッチング率が10Å／min以上になるようにし、同時に酸化シリコンやUSG，或いはポリシリコン等のエッチング率が皆10Å／min以下であり且つ選択比は各工程の必要に適した比率となるようにする。 - 特許庁