Mask Changerとは 意味・読み方・使い方

The mask changer 2 includes a driving mechanism 35A, 35B that can drive the mask M placed on the mask tray unit 33 in the X direction and a θ direction around a Z direction.例文帳に追加

マスクチェンジャー２は、マスクトレー部３３に載置されるマスクＭを、Ｘ方向及びＺ方向回りのθ方向に駆動可能な駆動機構３５Ａ、３５Ｂを備える。 - 特許庁

The thresholds of the first and second threshold masks are determined by the threshold of a basic mask stored in a basic mask memory 14 and a first and second correction values settable by a setting changer 16.例文帳に追加

第１及び第２の閾値マスクの閾値は、基本マスク記憶部１４に記憶している基本マスクの閾値と、設定変更部１６に設定可能な第１及び第２の修正値とにより定められる。 - 特許庁

A scanning exposure apparatus 1 includes: a substrate conveying mechanism 10 conveying a substrate W in an X direction; a plurality of mask holding units 11 each holding a mask M and disposed along a Y direction; an irradiation unit 14 emitting exposure light; and a mask changer 2 having a mask tray unit 33 that can oppose to the lower face of each mask holding unit 11.例文帳に追加

スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、マスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って配置される複数のマスク保持部１１と、露光用光を照射する照射部１４と、各マスク保持部１１の下面と対向可能なマスクトレー部３３を有するマスクチェンジャー２と、を備える。 - 特許庁

The laser beam machining device 30 comprises a laser beam oscillator 9, a mask changer 31, a first galvano-scanner 2, a second galvano-scanner 3, and an fθ lens 4.例文帳に追加

レーザ加工装置３０は、レーザ発振器９と、マスクチェンジャ３１と、第１のガルバノスキャナ２と、第２のガルバノスキャナ３と、ｆθレンズ４とを備えている。 - 特許庁

When correcting the deviation of the machining position, a mask hole 32 of the mask changer 31 having the diameter smaller than that of a hole to be machined is selected to form laser beams of small diameter, and matrix-like holes are formed in a work 12.例文帳に追加

加工位置ずれ補正の際に、実際に加工しようとする穴径よりも小さいマスクチェンジャ３１のマスク穴３２を選択し、小径のレーザビームを形成し、ワーク１２にマトリクス状の穴加工を行う。 - 特許庁