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False Defectとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「False Defect」の意味

False Defect

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「False Defect」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 27



例文

To provide a defect inspection device and defect inspection method capable of omitting a false defect and inspecting a defect at high inspection sensitivity.例文帳に追加

擬似欠陥を除外して高い検査感度で欠陥検査が可能な欠陥検査装置及び欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

A defect detecting means 2 detects a defect on the surface of a sample at a predetermined inspection sensitivity, a false defect specifying means 4 specifies a false defect from defect information acquired by the defect detection, and a non-inspected region setting means 5 sets the detection part of the specified false defect in a non-inspected region.例文帳に追加

欠陥検出手段2は、所定の検査感度で試料表面の欠陥検出を行い、擬似欠陥特定手段4は、欠陥検出により得られた欠陥情報から擬似欠陥を特定し、非検査領域設定手段5は、特定した擬似欠陥の検出箇所を非検査領域に設定する。 - 特許庁

Self-diagnosis is conducted based on detection of the false defect as a prescribed defect signal.例文帳に追加

この疑似欠陥が所定の欠陥信号として検出されるかどうかにより、自己診断を行う。 - 特許庁

To provide a defect detector and a defect detection method for reducing false detections of defects.例文帳に追加

欠陥を誤って検出することが少ない欠陥検出装置及び欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF GENERATING FALSE SEM IMAGE DATA AND METHOD OF EXAMINING DEFECT OF PHOTOMASK例文帳に追加

擬似SEM画像データの生成方法およびフォトマスクの欠陥検査方法 - 特許庁

To provide a pattern inspection device which eliminates an erroneous detection of false defect macroscopically, and enables high defect detection accuracy microscopically.例文帳に追加

マクロには擬似欠陥の誤検出がなく、ミクロには欠陥検出精度が高いパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

例文

To efficiently suppress a false defect and to carry out reticle inspection where a defect is detected with high detection sensitivity.例文帳に追加

本発明は、効率良く擬似欠陥を抑制し、高い検出感度で欠陥検出可能なレチクル検査を実現する。 - 特許庁

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「False Defect」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 27



例文

The reflected light from the steel plate 3 is changed, thereby generates a false defect.例文帳に追加

これにより鋼板3からの反射光も変化し、疑似欠陥が発生したことになる。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a phase shift mask, which never detects a false defect of a pattern as a pattern defect by mistake when a pattern defect of the phase shift mask is inspected.例文帳に追加

位相シフトマスクのパターン欠陥検査に際し、パターンの疑似欠陥を誤ってパターン欠陥として検出することがないようにした、位相シフトマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device that can efficiently detect an actual defect by removing a false defect due to unevenness caused by the growth of crystal grains or the like generating on the circuit pattern of a semiconductor integerated circuit, and to provide a defect inspection method.例文帳に追加

半導体集積回路の回路パターン上に発生する結晶粒成長等によって生じる凹凸による疑似欠陥を除去し、実欠陥を効率よく検出する欠陥検査装置、および、欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To increase the defect detecting accuracy by preventing incorrect detection of a false defect apt to occur when two images are in a high-frequency region, in pattern inspection for comparing a multi-level image.例文帳に追加

多値画像を比較するパターン検査において、2枚の画像が高周波領域にある場合に発生しやすい擬似欠陥の誤検出を防止して、欠陥検出精度を高くする。 - 特許庁

To provide a defect inspection method and a method for manufacturing a semiconductor device for suppressing false detection due to color irregularity even when a wafer subjected to defect inspection has color irregularity on a surface thereof.例文帳に追加

欠陥検査を行うウエハ表面に色むらがある場合でも色むらによる虚報の検出を抑制できる欠陥検査方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Resultantly, since discrimination between an actual defect and a false report can be performed accurately by performing the false report determination following the decision tree by utilizing the image characteristic quantity and the coordinate characteristic quantity, high-sensitivity inspection becomes possible, while suppressing false reports.例文帳に追加

検出欠陥の画像をもとに画像特徴量を算出し、検出欠陥の位置座標をもとに座標特徴量を算出し、画像特徴量と座標特徴量のいずれかに対するしきい値処理からなる決定木に従って虚報判定を行う構成とする - 特許庁

To provide a defect extraction method and a printed wiring board final appearance inspection device, supressing generation of false information due to fluctuation in manufacturing process for an object board to be inspected.例文帳に追加

被検査対象基板の製造工程のバラツキによる虚報の発生をおさえた欠陥抽出手法及びプリント配線板最終外観検査装置を提供すること。 - 特許庁

例文

Consequently, in-plane unevenness is suppressed in all density regions and image quality defect (e.g. false contour line) caused by in-plane unevenness correction processing can be prevented from being actualized.例文帳に追加

これにより、全ての濃度領域における面内むらを抑制し、かつ、面内むら補正処理に起因する画質欠陥(擬似輪郭など)の顕在化を防止することができる。 - 特許庁

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