Exposure of conductorとは 意味・読み方・使い方

Further, the pattern width W of the resist pattern 3a for the mark for exposure position confirmation is less than the thickness of the conductor layer, and when the conductor layer is processed by the wet etching, the conductor layer 3a positioned below the resist pattern 4a for the mark for exposure position confirmation is removed.例文帳に追加

また、露光位置確認マーク用レジストパターン３ａのパターン幅Ｗは導電体層の厚さ以下であり、導電体層をウェットエッチングした際に、露光位置確認マーク用レジストパターン４ａの下に位置する導電体層３ａが除去されることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an enameled wire capable of restraining expansion at the time of winding a coil and preventing exposure of a conductor, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

コイル巻時の伸びを抑えることができると共に、導体の露出を防止することができるエナメル線及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the case of triplate line, an upper ground layer with a dielectric layer 25 of a central conductor 23 in between is etched and an exposure part 26 is provided, and the exposure part 26 is provided with a print capacitor 24.例文帳に追加

トリプレート線路の場合、中心導体２３の誘電体層２５を挟んだ上方のグランド層をエッチングして露出部２６を設け、この露出部２６に印刷キャパシタ２４を設ける。 - 特許庁

An exposure head 23 includes a plurality of the organic EL light emitting elements, irradiating the light of the organic EL light emitting elements to a photo-conductor drum 21.例文帳に追加

露光ヘッド２３は、複数の有機ＥＬ発光素子を備え、感光体ドラム２１に有機ＥＬ発光素子の光を照射する。 - 特許庁

To provide a pattern manufacturing system for suppressing irregularity from occurring on line width of a pattern line by irregularity of thickness of a conductor formed on a substrate, and to provide an exposure device and an exposure method.例文帳に追加

基板上に形成する導体の厚さのばらつきによりパターン線の線幅にばらつきが生じるのを抑えることができるパターン製造システム、露光装置、及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To restrain exposure of a conductor at the time of damage of a high-tension cable connecting device for vehicle-drive electric power for an electric vehicle.例文帳に追加

電動車両の車両駆動電力用高圧ケーブル接続装置において、破損時に導電体の露出を抑制することを目的とする。 - 特許庁

In addition, by the control of the exposure amount of a remaining second light beam excepting the first light beam, an exposure control for correcting the characteristic distribution (unevenness by the electrostatic charge or unevenness by the sensitivity) on the surface of the photo-conductor drum 1 is performed.例文帳に追加

さらに，前記第１ビーム光を除く残りの第２ビーム光による露光量制御により感光体ドラム１の表面における特性分布（帯電ムラや感度ムラ）を補正する露光制御を行う。 - 特許庁

The casing 100 and a main body 150 of an exposure unit 14 mounted with the scanning optical device 15 are connected by a conductor 140.例文帳に追加

筐体１００と、走査光学装置１５が搭載されている露光ユニット１４の本体１５０とを導線１４０により接続する。 - 特許庁