ETCHING CHAMBERとは 意味・読み方・使い方

CHAMBER STRUCTURE OF INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING DEVICE例文帳に追加

誘導結合プラズマ食刻装置のチャンバ構造 - 特許庁

The chamber 10 is a chamber storing an etching liquid 5 under fixed pressure.例文帳に追加

チャンバ１０は、エッチング液５を一定の圧力下で貯溜する室である。 - 特許庁

To confine a plasma in a way that deposits due to chamber wall etching or byproduct deposits due to chamber wall etching can be reduced.例文帳に追加

チャンバ壁のエッチングや，チャンバ壁へのエッチング副産物の堆積を低減するようプラズマを閉じ込める。 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR SLURRY CLEANING ETCHING CHAMBER例文帳に追加

エッチ室をスラリー洗浄するための装置と方法 - 特許庁

A semiconductor manufacturing apparatus 40 includes an etching chamber, a heating chamber 43 having a facility for heating a substrate, and a transfer chamber 46 which communicates with the etching chamber and the heating chamber 43.例文帳に追加

本発明の半導体製造装置は、エッチング室と、基板を加熱するための加熱設備を有する加熱室とエッチング室と加熱室に連通する搬送室とを備える。 - 特許庁

An etching rate can be equalized in the deposition chamber 2 by the etching radicals R.例文帳に追加

エッチングラジカルＲによる成膜チャンバ２内でのエッチングレートを等しくできる。 - 特許庁

A dry etching apparatus having a gas introduction section 6 at an upper portion in the etching chamber 2 introduces cleaning gas into the etching chamber 2 and generates plasma in the etching chamber 2 so that the density of plasma 14 increases at an upper portion in the etching chamber 2.例文帳に追加

エッチングチャンバー２内の上部にガス導入部６をもつドライエッチング装置では、エッチングチャンバー２内にクリーニングガスを導入し、エッチングチャンバー２内の上部でプラズマ１４の密度が高くなるようにエッチングチャンバー２にプラズマを発生させる。 - 特許庁

Around a transfer chamber 61, an etching chamber 62, an anneal chamber 63, a first film forming chamber, a second film forming chamber 65, etc., are arranged.例文帳に追加

トランスファチャンバ６１の周囲には、エッチングチャンバ６２、アニールチャンバ６３、第１成膜チャンバ、第２成膜チャンバ６５などが配設されている。 - 特許庁