Bragg planeとは 意味・読み方・使い方

SEMICONDUCTOR DISTRIBUTED BRAGG REFLECTOR, AND PLANE EMISSION SEMICONDUCTOR LASER例文帳に追加

半導体分布ブラッグ反射鏡および面発光型半導体レーザ - 特許庁

N-TYPE SEMICONDUCTOR DISTRIBUTED BRAGG REFLECTOR, PLANE EMISSION SEMICONDUCTOR LASER DEVICE, PLANE EMISSION LASER ARRAY, PLANE EMISSION LASER MODULE OPTICAL INTERCONNECTION SYSTEM, AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM例文帳に追加

ｎ型半導体分布ブラッグ反射器および面発光半導体レーザ素子および面発光レーザアレイおよび面発光レーザモジュールおよび光インターコネクションシステムおよび光通信システム - 特許庁

Even when wavelength fluctuation occurs, the diffraction angle fluctuation of the plane hologram elements and the Bragg angle fluctuation of the respective volume hologram elements are canceled each other.例文帳に追加

そして、波長変動が発生しても平面ホログラム素子の回折角変動と各体積ホログラム素子のブラッグ角変動とが相殺されるように設定する。 - 特許庁

The angle θ of a lattice plane of the crystal 90 and an incident direction of the electrons 92 and the lattice spacing d of the crystal 90 are adjusted so as to satisfy the similar condition as a Bragg condition to a certain degree n_1 by gonio-stages 38 and 39.例文帳に追加

ゴニオステージ３８およびゴニオステージ３９により、結晶９０の格子面と電子９２の入射方向との角度θおよび結晶９０の格子面間隔ｄは、或る次数ｎ_１に対してブラッグ条件と同様の条件を満たすよう調整される。 - 特許庁

The optical part 1 is provided with an optical plane waveguide type circuit made by forming and integrating optical waveguides 111, 112, 121 and 122, optical branching parts 131 and 132, reflecting parts 141 and 142, Bragg grating parts 151 and 152 and optical detection parts 161 and 162 on the substrate 100.例文帳に追加

光部品１は、光導波路１１１，１１２，１２１，１２２、光分岐部１３１，１３２、反射部１４１，１４２、ブラッググレーティング１５１，１５２および光検出部１６１，１６２が基板１００上に形成されて集積化された光平面導波路型回路を備える。 - 特許庁

The diffraction grating type optical function element has a Bragg diffraction grating formed halfway in an optical path guiding a light signal along the optical path and uses the transmission peak or reflection peak by the diffraction of the grating, and the diffraction grating is formed by irradiating a high-refractive-index glass material layer on a plane substrate with ultraviolet rays and performing a heat treatment at 510 to 850°C for 10 minutes to 24 hours.例文帳に追加

光信号を導波する光路の途中に、当該光路に沿ってブラッグ回折格子が形成され、その格子の回折による透過ピークあるいは反射ピークを利用する回折格子型光機能素子であって、平面基板上の高屈折率ガラス材料層に対する紫外線照射と、５１０〜８５０℃で１０分〜２４時間の熱処理により回折格子を形成する。 - 特許庁