Atmospheric Pressure CVD Systemとは 意味・読み方・使い方

The atmospheric pressure CVD system comprises a gas injector for purging a process gas toward a wafer, and a process chamber having a gas seal mechanism 60 for sealing the process gas purged from the gas injector, and forms a CVD film on the wafer under atmospheric pressure.例文帳に追加

本装置は、ウエハに向けプロセスガスを吹き出すガスインジェクタと、ガスインジェクタから吹き出されたプロセスガスをシールするガスシール機構とを有するプロセスチャンバを備え、常圧下でウエハ上にＣＶＤ膜を成膜する常圧ＣＶＤ装置である。 - 特許庁

To provide a film deposition system which can continuously carry out film deposition by plasma CVD and film deposition using an evaporation source without opening a film deposition space to atmospheric pressure.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによる成膜と、蒸発源を用いる成膜とを、成膜空間を大気圧に開放することなく、連続して行うことのできる成膜装置を提供する。 - 特許庁

After passing through a film deposition chamber 3 the carrying belt 2 of an atmospheric pressure CVD system is fed through the acid based chemical tank 9 of a cleaning unit 10 and impregnated with the acid based chemical for a predetermined time.例文帳に追加

常圧ＣＶＤ装置の搬送ベルト２は、成膜チャンバ３内を通過後、クリーニング装置１０の酸系薬液槽９内に給送され、酸系薬液に一定時間含浸される。 - 特許庁

To provide a method for depositing a film on a substrate for mass production from the start, a method for fabricating a thin film transistor, a method for fabricating an electrooptic device, an electrooptic device, an electronic apparatus, and an atmospheric pressure CVD system.例文帳に追加

最初から量産用の基板に対して成膜を行うことができる成膜方法、薄膜トランジスタの製造方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器、および常圧ＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for improving the problem that, in the conventional orifice for controlling exhaust having self-cleaning function, every time a spring rotates so as to follow, stress in the twist direction has periodically been applied, so that the spring has been easy to be cut, and the working ratio of the atmospheric pressure CVD system has been inferior.例文帳に追加

従来の自己清掃機能を有する排気制御用オリフィスは、ばねが従動回転するたびにねじり方向の応力が周期的にかかるためばねが切れ易く、常圧ＣＶＤ装置の稼働率が悪かったので改善方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal CVD (Chemical Vapor Deposition) system where, even in the case the size of a substrate is enlarged, the thickening of an infrared transmission window installed between a heating means and the substrate for maintaining its strength to the atmospheric pressure is prevented, and the increase of the cost can be suppressed.例文帳に追加

基板サイズが大型化された場合においても、加熱手段と基板との間に設置される赤外線透過窓の厚みを大気圧に対して強度保持のために厚くすることを防止し、コストアップを抑えることができる熱ＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

The transparent conductive film is deposited onto the base material by the method where an atmospheric pressure plasma enhanced CVD system is used and a gaseous mixture used when depositing a thin film using the system contains, other than inert gas, at least an organometallic compound, inorganic gas and an organic compound of ≤200 molecular weight as reactive gas.例文帳に追加

大気圧プラズマＣＶＤ装置を使用し、これにより薄膜を形成方法する際の混合ガスを、不活性ガスの他に、反応性ガスとして、少なくとも１）有機金属化合物、２）無機ガス及び３）分子量２００以下の有機化合物を含有する方法で基材上に透明導電膜を形成させる。 - 特許庁

At the time of forming a BPSG film in an atmospheric pressure CVD system 100, a settling process is performed at first such that TES gas, TMOP gas and TEB gas, among film deposition gases, are supplied at a high concentration to a dispersion head 152 and O_3 gas is not supplied to the dispersion head 152.例文帳に追加

常圧ＣＶＤ装置１００において、ＢＰＳＧ膜を形成する際、まず、安定化工程として、ディスパージョンヘッド１５２に対して、成膜ガスのうち、ＴＥＯＳガス、ＴＭＯＰガス、ＴＥＢガスを高濃度で供給し、Ｏ_3ガスについてはディスパージョンヘッド１５２に供給しない。 - 特許庁