A/C gasとは 意味・読み方・使い方

To provide a C-GIS (Cubicle-type Gas Insulated Switchgear) which has excellent insulation performance and in which electromagnetic force generated at the time of energization is minimized.例文帳に追加

優れた絶縁性能を有すると共に、通電時に発生する電磁力を最小限に抑えたＣ−ＧＩＳを提供する。 - 特許庁

Thus, since thermal decomposition of the material gas can be promoted on the upstream side, a C/Si ratio in the reaction chamber 25 can be made uniform.例文帳に追加

これにより、上流側において、材料ガスの熱分解を促進できるので、反応室２５におけるＣ／Ｓｉ比を均一にできる。 - 特許庁

To provide an apparatus for continuous hot-dip metal plating for a strip, which can adequately correct a C-camber of the strip generating in a gas wiping part.例文帳に追加

ガスワイピング部でのストリップのＣ反りを適切に矯正することのできるストリップの連続溶融金属めっき設備を提供する。 - 特許庁

In this separator 11 for the fuel cell, a water-repellent fluorine containing carbon layer 13 having a C-F bond is arranged on a gas flow passage face 12 formed on the surface.例文帳に追加

表面に形成されたガス流路面１２にＣ−Ｆ結合を有する撥水性のフッ素含有カーボン層１３を有する燃料電池用セパレータ１１。 - 特許庁

To provide an apparatus for plating, which can reliably correct a C-camber generating in a gas wiping nozzle part, even for a thick or soft metal strip.例文帳に追加

板厚が厚い金属帯または軟質な金属帯についても、ガスワイピングノズル部での金属帯のC反りを確実に矯正できるめっき装置を提供する。 - 特許庁

It is found that a temperature range of the high-temperature gas and oxygen concentration in the high-temperature gas capable of simultaneously reducing NOx and CO generated when blowing the high-temperature gas into a combustion chamber in the waste incinerator is limited in an area surrounded by an A line, a B line and a C line in Fig. 1.例文帳に追加

廃棄物焼却炉において、燃焼室内に高温ガスを吹き込む際に発生するＣＯ、ＮＯｘを同時に低減できる高温ガス中の酸素濃度、高温ガスの温度の範囲は、図においてＡ線、Ｂ線、及びＣ線で囲まれた領域に限られることを見いだした。 - 特許庁

A first SiC crystal is formed as a buffer layer, and further a SiC crystal is layered thereon by using a source gas having a C/Si ratio adjusted to be higher than that when forming the buffer layer.例文帳に追加

更にＳｉＣ結晶をバッファー層とし、さらに、Ｃ／Ｓｉ比をバッファー層を形成するときのＣ／Ｓｉ比よりも増加方向に調整された原料ガスを用いた。 - 特許庁

A c-axis oriented crystal niobium oxide is used as a capacity insulating film, and the oxygen content especially during deposition is controlled by, for example, adjusting the oxygen gas ratio in the sputtering gas, thus forming a film where the a-axis orientation peak is not shown but the c-axis orientation peak is preferred.例文帳に追加

容量絶縁膜として、ｃ軸配向した結晶酸化ニオブを用い、特に成膜時の酸素含有量を、例えば、スパッタガスにおける酸素ガス比を調整することで制御して、a軸配向ピークを示さず、ｃ軸配向ピークが優先した膜を形成する。 - 特許庁