描影法の英語

画像生成部１１０は、第１モード、第２モードなど、複数の陰影描画方法を実現する機能を含み、背景画像に応じて陰影描画方法を選択して切り替える。例文帳に追加

In an image generation section 110, a function realizing a plurality of shade drawing methods such as a first mode and a second mode is included, and the shade drawing method is selected and changed according to the background image. - 特許庁

ｎ次元ハイパーキューブの正射影像を描画する際に処理すべきデータ量の増大化を抑制し、描画速度の向上化を図り得る、描画装置、描画方法及びプログラムを提供する。例文帳に追加

To provide a drawing device, drawing method and program capable of suppressing an increase of the data amount to be processed in drawing the orthogonally projected image of an n-dimensional hypercube and improving a drawing speed. - 特許庁

グリッドサイズに影響されず、高い精度でパターンのスケーリング描画を行うことができる電子ビーム描画方法を実現する。例文帳に追加

To realize a drawing method using electron beams whereby the scaling drawing of patterns can be performed at a high accuracy without receiving any effect from grid sizes. - 特許庁

磁気記録媒体、電子線縮小投影描画用レチクルおよび磁気記録媒体の製造方法例文帳に追加

MAGNETIC RECORDING MEDIUM, RETICLE FOR ELECTRON BEAM REDUCED PROJECTION DRAWING AND MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM - 特許庁

こうして生成されたメッシュモデル４を利用して、シャドウボリューム技法による影描画処理が実行される。例文帳に追加

A shadow drawing processing by shadow volume technique is executed by use of the thus-generated mesh model 4. - 特許庁

また、ファンタン＝ラトゥールの絵では遠近法と陰影、細部の描写により立体感を表現している。例文帳に追加

Moreover, Fantin-Latour created a feeling of solidity by using perspective and shading as well as the depiction of detail.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

また、人物の描法には同じ南宋の梁楷の「減筆体」の影響がうかがわれる。例文帳に追加

One can also clearly see the influence of 'Genhitsu-tai (art of simple painting to draw with fewer brush strokes)' by Ryokai (Liang Kai), who was also from the Southern Sung Dynasty, on the people depicted in the painting.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

本発明は、各描画フィールドの境界部分に生じる誤差や描画位置の誤差を正確に測定しながらも、レジスト現像後の形状の影響を把握して描画精度の限界を解消することの可能な測定方法、描画方法、基材の製造方法、および電子ビーム描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a measuring method, a photolithography method, a manufacturing method for base material, and an electron beam lithography system which can grasp the influence of a shape after resist development and eliminate the limit of writing precision while accurately grasping an error generated at a border part between writing fields and an error in writing position. - 特許庁