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Master Solid State Phys Compressed

Das Dokument beschreibt die Vorlesung zur Halbleiter- und Festkörperphysik im Masterstudiengang Elektronik & Informationstechnik an der Johannes Kepler Universität Linz. Es umfasst Themen wie kristalline Festkörper, das Bändermodell, Ladungstransport in Halbleitern sowie deren optische Eigenschaften und enthält eine detaillierte Gliederung der Inhalte sowie empfohlene Literatur. Der Kurs zielt darauf ab, ein tiefes Verständnis der physikalischen Grundlagen von Halbleitern und deren Anwendungen zu vermitteln.

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Halbleiterphysik und Festkörperphysik

(Masterstudiengang Elektronik & Informationstechnik)


LVA 322.004, WS2021/22

Thomas Fromherz

Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik, Johannes Kepler Universität Linz

tel: 0732 2468 9602


email:[email protected]
Vorlesungsgliederung
1. Kristalline Festkörper
1.1. Kristallbindung
1.2. Kristallstruktur
1.3. Reziprokes Gitter
2. Bändermodell
2.1. Bandstruktur im Tight-Binding-Modell
300 mm Silicium Ingot (Wacker Siltronic)
2.2. Bandlücke im fast-freien Elektronenmodell
2.3. Bandstruktur der wichtigsten Halbleiter
2.4. Effektive Masse
2.5. Wasserstoffähnliche (flache) Störstellen
2.6. Trägerstatistik
2.6.1. Zustandsdichte
2.6.2. intrinsische Halbleiter
2.6.3. extrinsische Halbleiter
3. Ladungstransport in Halbleitern Quarz-Einkristall

3.1. Drift (Drude-Modell)


3.2. Diffusion
3.3. Trägerinjektion
3.4. Kontinuitätsgleichung

Zustandsdichte und Bandstruktur von Ge

TFH WS 2021/22 2
Literatur

1. Charles Kittel, Einführung in die Festkörperphysik, Oldenbourg Verlag


2005
2. Rudolf Gross, Achim Marx, Festkörperphysik, Oldenbourg Verlag 2012
3. S. M. Sze, M. K. Lee, Semiconductor Devices: Physics and
Technology, 3 rd Edition, John Wiley and Sons 2012
4. S. M. Sze, K. K. Ng, Physics of Semiconductor Devices, 3 rd Edition,
Wiley Interscience 2007
5. H. Ibach, H.Lüth, Festkörperphysik: Einführung in die Grundlagen,
Springer Verlag 2008
6. Vorlesungsskriptum Prof. Dr. Friedrich Schäffler, JKU, WS2018/19,
zu finden auf den Kusss Seiten zur Vorlesung download

TFH WS 2021/22 3
Inhaltsverzeichnis I
Kristalline Festkörper
Ausflug Quantenmechanik
Die Schrödingergleichnung (SG)
Interpretation
Wellenpakete
Lösungsmethoden für SG
Unendlich tiefer Potentialtopf
Das Wasserstoffatom
Periodensystem der Elemente
Kristallbindungen
Van-der-Waals-Bindung
Kovalente Bindung
Ionenbindung
Metallische Bindung
Kristallstrukturen
Bravaisgitter
Kristallstruktur = Bravaisgitter + Basis
Kristallrichtungen und -ebenen
Reziprokes Gitter (RG)
Vermessung des RG mittels Röntgenstrahlen
Streurichtungen und Ewald-Konstruktion
Die Brillouinzone als Einheitszelle des RG
Basis der Kristallstuktur und Auslöschung von Röntgenreflexen: Der Stukturfaktor
Bändermodell
Bandstruktur im Tight-Binding-Modell
Bandlücke fast-freien Elektronenmodell
Formulierung im Fourier-Raum
Das Bloch Theorem als Konsequenz der Gitterperiodizität

TFH WS 2021/22 4
Inhaltsverzeichnis II
Ausbildung von Bandlücken an den Rändern und im Zentrum der BZ
Bandstruktur wichtiger Halbleiter
Effektive Masse (EM)
EM als träge Masse
Das Löcherkonzept
Isolatoren, Halbleiter, Metalle
Dotierung von Halbleitern zur Einstellung der Leitfähigkeit
Trägerstatistik
Zustandsdichte
Intrinsische Halbleiter
Extrinsische Halbleiter
Ladungsträgertransport
Drift (Drudemodell)
Diffusion
Trägerinjektion
Kontinuitätsgleichung
Der pn-Übergang
Der pn-Übergang im thermisches Gleichgewicht
pn Übergang mit angelegter Spannung
Die ideale Strom-Spannungskennlinie
Rekombination über tiefe Störstellen
Reale Strom-Spannungskennlinie: Generation/Rekombination in RLZ
Magneto-Transport
Bewegungsgleichung für Ladungsträger im Halbleiter im Magnetfeld
Magnetowiderstand und Halleffekt
Optische Eigenschaften
Lichtabsorption und -emission durch Übergänge von Elektonen zwischen VB und LB
TFH WS 2021/22 5
Inhaltsverzeichnis III
Direkte Halbleiter
Indirekte Halbleiter

TFH WS 2021/22 6
Quarz (SiO2 )

VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 2


F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

1. Kristalline Festkörper Kupfer (Cu)


1.1. Kristallbindung Makroskopische Ordnung als Folge von Ord-
1.1.1 Atomare Orbitale nung auf atomarer Skala
Atome und Moleküle sind in der klassischen Physik nicht beschreibbar, weil stabile Gebilde
aus Protonen und Elektronen nicht mit den Maxwell-Gleichungen kompatible sind:
Elektronen auf definierten Bahnen um ein Proton führen eine beschleunigte Bewegung aus
und strahlen daher elektromagnetische Wellen ab. Diese entziehen den Elektronen kinetische
Energie, so daß der Bahndurchmesser immer kleiner wird, bis das Elektron in den Kern stürzt.
Die ad hoc Postulate von Bohr, daß es quantisierte "Bahnen" geben muß, auf denen keine
elektromagnetische Abstrahlung erfolgt, bringen das Dilemma der klassischen Physik im
atomaren Bereich erstmals richtig zum Ausdruck.
Erst die Quantenmechanik kann das Problem stabiler Atome auf der Basis der
Schrödingergleichung widerspruchsfrei beschreiben. Die Elektronen werden dabei durch
Wellenfunktionen (r) beschrieben. Das Quadrat der Wellenfunktion (r)*(r) gibt die
Wahrscheinlichkeit an, das Elektron am Ort r zu finden.
Will man alle Elektronen in einem Atom durch ihre Wahrscheinlichkeitsverteilung
beschreiben, so benötigt man insgesamt vier Quantenzahlen sowie das Pauli-Prinzip, das
besagt, daß Elektronen (allgemein: Fermionen, also Teilchen mit Spin ½) nicht in allen
TFH Quantenzahlen übereinstimmen dürfen. Die Quantenzahlen
WS 2021/22 beschreiben die atomaren Schalen 7
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
▶ Elektronen haben nicht nur Teilchen-, sondern auch Welleneigenschaften
▶ Wir betrachten zunächst ein Teilchen mit Masse m, dass sich nur in
x -Richtung bewegen kann
▶ Die Gleichung, die die Ausbreitung der Teilchenwelle Ψ(x , t) beschreibt ist
die zeitabhängige Schrödingergleichung
−ℏ2 ∂ 2
 

iℏ Ψ(x , t) = + V (x ) Ψ(x , t)
∂t 2m ∂x 2
| {z }
≡H
ℏ = 1.0545718 × 10−34 Js ist das Planck’sch Wirkungsquantum h geteilt
h
durch 2π (ℏ = 2π ) und V (x ) ein externes Potential, in dem sich das
Teilchen bewegt. H definiert den Hamiltonoperator.
▶ Will man ein freies Teilchen beschreiben, setzt man V (x ) = 0.
▶ Wir überprüfen durch Einsetzen in die Schrödingergleichung, dass man für
ein freies Teilchen mit Impuls p und Engerie E als Lösung eine komplexe,
i
ebene Welle Ψ(x , t) = Ae ℏ (px −Et) mit Wellenvektor ℏp und Kreisfrequenz
E

erhält:
−iE ? −ℏ2 ∂ 2 −ℏ2 ℏi (px −Et)
 2
∂ i i i ip
iℏ Ae ℏ (px −Et) = iℏAe ℏ (px −Et) = 2
Ae ℏ (px −Et) = Ae
∂t ℏ 2m ∂x 2m ℏ

TFH WS 2021/22 8
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
▶ Elektronen haben nicht nur Teilchen-, sondern auch Welleneigenschaften
▶ Wir betrachten zunächst ein Teilchen mit Masse m, dass sich nur in
x -Richtung bewegen kann
▶ Die Gleichung, die die Ausbreitung der Teilchenwelle Ψ(x , t) beschreibt ist
die zeitabhängige Schrödingergleichung
−ℏ2 ∂ 2
 

iℏ Ψ(x , t) = + V (x ) Ψ(x , t)
∂t 2m ∂x 2
| {z }
≡H
ℏ = 1.0545718 × 10−34 Js ist das Planck’sch Wirkungsquantum h geteilt
h
durch 2π (ℏ = 2π ) und V (x ) ein externes Potential, in dem sich das
Teilchen bewegt. H definiert den Hamiltonoperator.
▶ Will man ein freies Teilchen beschreiben, setzt man V (x ) = 0.
▶ Wir überprüfen durch Einsetzen in die Schrödingergleichung, dass man für
ein freies Teilchen mit Impuls p und Engerie E als Lösung eine komplexe,
i
ebene Welle Ψ(x , t) = Ae ℏ (px −Et) mit Wellenvektor ℏp und Kreisfrequenz
E

erhält:
−iE ? −ℏ2 ∂ 2 −ℏ2 ℏi (px −Et)
 2
∂ i i i ip
iℏ Ae ℏ (px −Et) = iℏAe ℏ (px −Et) = 2
Ae ℏ (px −Et) = Ae
∂t ℏ 2m ∂x 2m ℏ

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Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
▶ Elektronen haben nicht nur Teilchen-, sondern auch Welleneigenschaften
▶ Wir betrachten zunächst ein Teilchen mit Masse m, dass sich nur in
x -Richtung bewegen kann
▶ Die Gleichung, die die Ausbreitung der Teilchenwelle Ψ(x , t) beschreibt ist
die zeitabhängige Schrödingergleichung
−ℏ2 ∂ 2
 

iℏ Ψ(x , t) = + V (x ) Ψ(x , t)
∂t 2m ∂x 2
| {z }
≡H
ℏ = 1.0545718 × 10−34 Js ist das Planck’sch Wirkungsquantum h geteilt
h
durch 2π (ℏ = 2π ) und V (x ) ein externes Potential, in dem sich das
Teilchen bewegt. H definiert den Hamiltonoperator.
▶ Will man ein freies Teilchen beschreiben, setzt man V (x ) = 0.
▶ Wir überprüfen durch Einsetzen in die Schrödingergleichung, dass man für
ein freies Teilchen mit Impuls p und Engerie E als Lösung eine komplexe,
i
ebene Welle Ψ(x , t) = Ae ℏ (px −Et) mit Wellenvektor ℏp und Kreisfrequenz
E

erhält:
−iE ? −ℏ2 ∂ 2 −ℏ2 ℏi (px −Et)
 2
∂ i i i ip
iℏ Ae ℏ (px −Et) = iℏAe ℏ (px −Et) = 2
Ae ℏ (px −Et) = Ae
∂t ℏ 2m ∂x 2m ℏ
2
! p
E =
2m
TFH WS 2021/22 8
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Interpretation

▶ Schrödingergleichung hat komplexe Koeffizienten. Anders als wir das aus


der klassischen Physik gewohnt sind, sind Re(Ψ) und Im(Ψ) einzeln nicht
Lösung der Schrödingergleichung.
▶ Man kann zeigen:
Z ∞
Ψ∗ (x , t)Ψ(x , t)dx
−∞

ist unabhängig von der Zeit, wenn Ψ(x , t) Lösung der


Schrödingergleichung ist.
▶ Interpretation: Ψ∗ (x , t)Ψ(x , t) ist eine Wahrscheinlichkeitsdichte. Die
Wahrscheinlichkeit dW , das durch die Wellenfunktion Ψ(x , t) beschriebene
Teilchen zur Zeit t in der Umgebung dx um x zu finden ist dann

dW = Ψ∗ (x , t)Ψ(x , t)dx
▶ Das obige Integral ist dann die Wahrscheinlichkeit, das Teilchen irgendwo
entlang der x -Achse gefunden wird. Der Wert des Integrals wird daher
sinnvoller Weise auf 1 gesetzt, wodurch wiederum die Konstante A
(Amplitude) im Ansatz der ebenen Welle bestimmt wird. Die
Zeitunabhängigkeit bedeutet, dass das Teilchen nicht verschwinden kann.

TFH WS 2021/22 9
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Wellenpakete
▶ Die ebene Welle ist eine “langweilige” Lösung der Schrödingergleichung da
i i
Ψ∗ (x , t)Ψ(x , t) = Ae ℏ (px −Et) · A∗ e− ℏ (px −Et) = AA∗ = |A|2
unabhängig vom Ort konstant ist. Das Teilchen kann also überall mit
gleicher Wahrscheinlichkeit aufgefunden werden.
▶ Wir wissen: durch Überlagerung von ebenen Wellen kann ein beliebig
geformtes Wellenpaket synthetisiert werden (Fouriesynthese), z.B:

i p2
1
A(p)e ℏ (px − 2m t) dp
R
Ψ(x , t) = 2π
x [arb.u.]

A(p) beschreibt die Amplitude der zu p gehörigen ebenen Welle in der


(p−p0 )2
Fouriersynthese. Im Bsp. oben wurde A(p) = √ 1 2 e 2σ2 also

2πσ
Gauss-förmig, angenommen.
▶ Heisenberg’sche Unschärfe-Relation:
Einschränkung im Ortsraum ⇔ Verteilung im Impulsraum
TFH WS 2021/22 10
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Systematisches Auffinden der Lösungen der Schrödingergleichung

Wiederholung mathematischer Methoden:


▶ Die Schrödingergleichung ist eine partielle Differentialgleichung, wenn das
Potential V nicht von der Zeit abhängt, kommen in den Faktoren vor Ψ in
der Schrödingergleichung die Variablen t und x und die Ableitungen nach
diesen nur in Summanden vor, nicht in Produkten.
▶ In diesem Fall lässt sich die Lösung über einen Produktansatz

Ψ(x , t) = T (t)ψ(x )

vereinfachen: durch Einsetzen in die Schrödingergleichung erhält man

−ℏ2 ∂ 2
 

iℏψ(x ) T (t) = T (t) + V (x ) ψ(x )
∂t 2m ∂x 2

da ja für die Ableitung nach t die Funktion ψ(x ) und für die Ableitung
nach x die Funktion T(t) Konstanten sind.
▶ Division der Gleichung durch T (t)ψ(x ) führt zur Trennung der Variablen t
und x auf je eine Seite der Gleichung:

−ℏ2 ∂ 2
 
iℏ ∂ 1
T (t) = + V (x ) ψ(x )
T (t) ∂t ψ(x ) 2m ∂x 2
TFH WS 2021/22 11
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Systematisches Auffinden der Lösungen der Schrödingergleichung

Folgerungen aus der Trennung der Variablen


▶ Die Gleichheit beider Seiten für alle möglichen Wertepaare von t, x kann
nur dann gegeben sein wenn beide Seiten konstant sind und den gleichen
Wert haben,1 der im Folgenden mit E bezeichnet wird.
iℏ ∂ ∂
T (t) = E ⇒ iℏ T (t) = ET (t) (1)
T (t) ∂t ∂t
−ℏ2 ∂ 2 −ℏ2 ∂ 2
   
1
+ V (x ) ψ(x ) = E ⇒ + V (x ) ψ(x ) = E ψ(x )
ψ(x ) 2m ∂x 2 2m ∂x 2
▶ Aus der partiellen Dgl. erhält man die zwei gewöhnliche Dgln 1 u. 2, (2)
wovon Dgl. 1 sehr einfach zu lösen ist (die Ableitung der gesuchten
Funktion ist proportional zur Funktion):
i
T (t) ∝ e− ℏ Et .

Dgl. 2 hat die Form einer Eigenwertgleichung. Wir erwarten für


verschieden Werte von E verschieden zu E gehörende Lösungen ψE (x )
▶ Dgl. 2 (Hψ = E ψ) wird zeitunabhängige Schrödingergleichung genannt.
▶ Für diese Lösungen ist Ψ(x , t)∗ Ψ(x , t) = ψ(x )∗ ψ(x ) zeitunabhängig.
1
Besonders klar ist diese Schlussfolgerung für die Fälle t = t0 für all x und x = x0 für alle t.
TFH WS 2021/22 12
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Gebundene Zustände: Teilchen im unendlich tiefen Potentialtopf
Wir suchen physikalisch sinnvolle Lösungen der
zeitungabhängige Schrödingergleichung

−ℏ2 ∂ 2
 
+ V (x ) ψ(x ) = E ψ(x )
2m ∂x 2

mit dem rechts skizzierten Potential:



0 für 0 ≤ x ≤ L
V (x ) =
∞ für x < 0 oder x > L
Bereich 0 ≤ x ≤ L
▶ Wir suchen Lösungen von −ℏ2 ∂ 2
ψ(x )
= E ψ(x ), also Funktionen deren
2m ∂x 2
zweite Ableitung proportional zur Funktion selbst ist. Alle in Frage
kommenden Funktionen können durch eikx mit k ∈ C dargestellt werden2 .
p2

z}|{
−ℏ2 ∂ 2 ikx −ℏ2 2 ikx ℏ2 k 2 ikx ! ikx ℏ2 k 2 2mE
e = (ik) e = e = E e ⇒ E = ⇒ k = ±
2m ∂x 2 2m 2m 2m ℏ
Die allgemeinste, zu E gehörende Lösungen sind also
ψE (x ) = αeik(E )x + βe−ik(E )x
2
cos(kx ) = (eikx + e−ikx )/2, sin(kx ) = (eikx − e−ikx )/2i mit k ∈ R
TFH WS 2021/22 13
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Physikalische Lösungen für Teilchen im unendlich tiefen Potentialtopf

Bereiche x < 0 und x > L


Hier ist V (x ) = ∞, ein Teilchen mit endlicher Aufenthaltswahrscheinlichkeit
ψ ∗ (x )ψ(x ) in diesen Bereichen hätte eine (phyikalisch sinnlose) unendlich
hohe Energie. Daher ist
ψ=0
in diesem Bereichen die einzige physikalisch sinnvolle Lösung.

Randbedingungen
Da ψ ∗ ψ eine beobachtbare Größe (Wahrscheinlichkeitsdichte) ist, muss an
jedem Ort der Wert eindeutig definiert sein. Wir suchen also Lösungen, die
keine Sprünge in ψE (x ) aufweisen, d.h

0 =ψE (0 − dx ) = ψE (0 + dx )
für dx → 0
ψE (L − dx ) = ψE (L + dx ) = 0

Einsetzen in ψE (x ) = αeik(E )x + βe−ik(E )x ergibt


!
ψE (0) = α + β = 0 ⇒ β = −α
! π
ψE (L) = αeikL − αe−ikL = 2iα sin(kL) = 0 ⇒ k(E ) = n mit n ∈ N
L
TFH WS 2021/22 14
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Teilchen im unendlich tiefen Potentialtopf: erlaubte Energien

▶ Die physikalisch motivierten Randbedingungen legen also die erlaubten


Werte für k(E ) und damit für E fest.
▶ Für den unendlich tiefen Potentialtopf erhält man die diskreten Energien
2 2
En = n2 2mL
ℏ π
2 mit n ∈ N (=
ˆ Atomenergieniveaus in 3D)
▶ n = 0 ist nicht erlaubt, weil dann ψn=0 (x ) = 0 überall, also kein Teilchen
vorhanden ist.
▶ Ein Teilchen im Topf hat also mindestens die Energie E1 = ℏ2 π 2
2mL2
1
(Grundzustandsenergie>0, ∼ L2
)
▶ Die klassische Mechanik ergibt für das selbe Problem keinerlei
Einschränkungen für den Impuls p ↔ ℏk und die kinetische Energie p 2 /2m
▶ Das ist ganz allgemein so: Durch Randbedingungen wird der erlaubte
Wertebereich von Erhaltungsgrößen der klassischen Physik eingeschränkt
(quantisiert).
▶ Solche Randbedingungen können sein: ψ ∗ ψ(x → 0) → 0, ψ ∗ ψ ist stetig,
ψ ∗ ψ ist stetig differenzierbar wenn V stetig ist, eine Symmetrieoperation,
die V in sich selbst abbildet muss auch ψ ∗ ψ in sich selbst abbilden.

TFH WS 2021/22 15
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Teilchen im unendlich tiefen Potentialtopf: Energien und Wellenfunktionen

Es fehlt noch die Bestimmung von α: Für die Konsistenz


R∞ mit der
Wahrscheinlichkeitsinterpretation von ψ ∗ ψ muss −∞ ψ ∗ ψdx eins ergeben:
Z ∞
r
2 2 π 1 2 π
4α sin (n x )dx = 1 ⇒ α = √ ⇒ ψ(x ) = sin(n x )

L 2L L L

TFH WS 2021/22 16
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
3
Teilchen im unendlich tiefen Potentialtopf: Energien und Wellenfunktionen

ψ(x ) En ψ∗ ψ

n=1

n=2

n = 20

▶ Zustände mit niedriger Energie: signifikant Unterschiede zur klassischen


Aufenthaltswahrscheinlichkeit (WS) (z.B. n=2: verschwindende WS, das
Teilchen in der Mitte zu finden ( =
ˆ Atombahnen in 3D)
▶ Hohe Quantenzahlen (Energien): Variation der WS wird experimentell
unauflösbar → klassisch WS-dichte
3
Verwendung der Abbildungen unter Lizenz CC BY-NC-SA 3.0, die Originalabbildungen können
hier gefunden werden.
TFH WS 2021/22 17
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Das Wasserstoffatom

▶ H-Atom: ein Elektron (Ladung −e) im Coulombpotential eines viel


schwereren, einfach positiv geladenen (+e) Kerns
▶ zeitunabhängigen Schrödingergleichung in 3D:
" #
ℏ2 ∂2 ∂2 ∂2 e2
 
1
− + + − ψ(x , y , z) = E ψ(x , y , z)
∂x 2 ∂y 2 ∂z 2
p
2m 4πε0 x 2 + y 2 + z 2

▶ analytisch aufwändig lösbar, siehe z.B. Internet


▶ Insgesamt gibt es 4 Quantenzahlen, die den Zustand des Elektrons
vollständig charakterisieren:
Quantenzahl Wertebereich Zuordnung
Hauptquantenzahl n 1,2,3,. . . K-, L-, M-,. . . Schale
Drehimpulsquantenzahl ℓ 0,1,2,. . . n-1 s-, p-, d-, f- . . . Orbital
Magnetquantenzahl m -ℓ, -ℓ+1. . . 0. . . ℓ-1, ℓ
Spinquantenzahl s -1/2, +1/2
(Die grau gedruckten Quantenzahlen reichen für 1D)

TFH WS 2021/22 18
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Eigenenergien und Eigenfunktionen des Wasserstoffatoms
Die Eigenengerien sind

e 4 me 1 1 e2 1
En = − 2 2
· 2 = −Ry · 2 = − ·
2(4πε0 ) ℏ n n 4πε0 2a0 · n2
mit dem Rydberg Ry = 13.6 eV und dem Bohr’schen Atomradius
a0 ≈ 0.53 × 10−10 m = 0.53 Å.
Die Eigenfunktionen ψnlm (r , ϑ, ϕ) zu den ersten Eigenengergien sind:

r r
4 −r /a0 1
ψ100 = e ·
a03 4π
r r
1 r 1
 
ψ200 = − + 2 e −r /2a0 ·
8a03 a0 4π
r r
1 r 3
 
ψ210 = e −r /2a0 · cos ϑ
24a03 a0 4π
r r
1 r 3
 
−r /2a0
ψ2,1,±1 = ∓ e · sin ϑe ±iφ
24a03 a0 8π

Probability densities ψ ∗ ψ
TFH WS 2021/22 19
Kurzer Ausflug in die Quantenmechanik
Eigenfunktionen des Wasserstoffatoms: Polardiagramme

TFH WS 2021/22 20
Wellenfunktionen (r) beschrieben. Das Quadrat der Wellenfunktion (r)*(r) gibt die
Periodensystem
Wahrscheinlichkeit der
an, dasElemente
Elektron am Ort r zu finden.
Will man alle Elektronen in einem Atom durch ihre Wahrscheinlichkeitsverteilung
beschreiben, so benötigt man insgesamt vier Quantenzahlen sowie das Pauli-Prinzip, das
besagt, daß Elektronen (allgemein: Fermionen, also Teilchen mit Spin ½) nicht in allen
Quantenzahlen übereinstimmen dürfen. Die Quantenzahlen beschreiben die atomaren Schalen
und Orbitale sowie bei letzteren deren Orientierung im Raum. Die Quantenzahlen und ihre
Zusammenhänge lassen sich wie folgt darstellen:

Quantenzahl Wertebereich Zuordnung


Hauptquantenzahl n 1, 2, 3, ... K-, L-, M-, ... Schale
Drehimpulsquantenzahl  0, 1, 2, ... n-1 s-, p-, d-, f- .. Orbital

Magnetquantenzahl m -, -+1,... 0 ... -1, 

Spinquantenzahl s +1/2; -1/2

Tab. 1.0A Quantenzahlen, ihre möglichen Werte und Zuordnung zu den Schalen und Orbitalen

Wegen des Pauli-Prinzips und der Einschränkung der möglichen Werte von  und m bei
gegebener Hauptquantenzahl n (Tab. 1.0A) können die Orbitale nur jeweils eine maximale 2n2
Zahl von Elektronen aufnehmen, die in Tab. 1.0B aufgeführt ist.
 Orbital mögliche Werte von m jeweils maximale Zahl von
mögliche Elektronen im
Werte von s jeweiligen Orbital
0 s m = 0; s =  1/2 2
1 p m = -1, 0, 1 s =  1/2 6
2 d m = -2, -1, 0, 1, 2 s =  1/2 10
3 f m = -3, -2, -1, 0, 1, 2, 3 s =  1/2 14

Tab. 1.0B Zuordnung der Magnetquantenzahlbereiche zu jedem Orbital sowie maximal mögliche Zahl von
TFH
Elektronen, die jedes Orbital aufnehmen kann WS 2021/22 21
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 3
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Periodensystem
Für die Hauptquantenzahl n = 1 und die jeweils möglichen Magnetquantenzahlen m, die die
Orientierung der Orbitale im Raum definiert, sind die s-, p-, und d-Orbitale schematisch in
Abb. 1.1 dargestellt. In höheren Schalen (n > 1) kommen zusätzliche radiale Knoten dazu, die
generellen Symmetrien und Orientierung im Raum bleibt dagegen weitgehend erhalten.

Abb. 1.1 s-, p- und d-Orbitale für n=1. Die Magnetquantenzahl m, die die räumliche Ausrichtung der
Orbitale beschreibt, ist als Index zu den jeweiligen Orbitalen angegeben. Das s-Orbital ist kugelsymmetrisch
und hat damit nur eine mögliche Ausrichtung (m = 0). In höheren Schalen (n > 1) weisen die Orbitale
zusätzlich radiale Knoten auf, behalten aber weitgehend ihre axiale Symmetrie.

TFH WS 2021/22 22
zusätzlich radiale Knoten auf, behalten aber weitgehend ihre axiale Symmetrie.
Periodensystem der Elemente
1.1.2 Periodensystems der Elemente
Das Periodensystem der Elemente, das ursprünglich entwickelt wurde, um die Elemente nach
ihrer chemischen Ähnlichkeit zu tabellieren, läßt sich auf der Basis der atomaren
Quantenzahlen außerordentlich einfach verstehen: Jedes Element entsteht aus dem im
Periodensystem vorangehenden, indem man ein Elektron und ein Proton dazugibt (plus bei
Bedarf Neutronen zur Stabilisierung des Kerns). Das zugegebene Elektron besetzt dabei unter
Berücksichtigung des Pauli-Prinzip den energetisch günstigsten der jeweils noch freien
Orbitalzustände. Das allgemeine Füllschema ist in Tabelle 1.0C dargestellt, wobei in der
Nomenklatur zuerst die Hauptquantenzahl n angegeben ist, gefolgt von der
Drehimpulsquantenzahl  in ihrer Orbitalbezeichnung (s, p, d, f). In Klammer ist die
maximale Zahl der Elektronen im Orbital gemäß Tab. 1.0.B aufgeführt, gefolgt von den
Elementen bzw. Elementbereichen. Das vollständige Periodensystem mit der jeweiligen
Valenzbandkonfiguration ist in Tab. 1.1 dargestellt.

Tab. 1.0C Füllschema des Periodensystems beginnend mit n = 1, 2, 3 ...und den jeweils energetisch
günstigsten Orbitalen.

TFH WS 2021/22 23
⊡ Tabelle 17.1 Periodensystem der Elemente

Periodensystem der Periodensystem


Elemente der Elemente
H1
1,008
Fe 26
55,85
Element und Ordnungszahl
Atommasse in AME ; für einige instabile Elemente in Klammern:
He 2
4,0026
Vollständiges Periodensystem
3d 6 Massenzahl des stabilsten Isotops

4s 2 Elektronenkonfiguration; die vollen Schalen der vorhergehenden der Elemente mit der
4p – Perioden sind mitzurechnen, z.B. vollständige Elektronenkonfiguration 2
1s 1 1s

Li 3 Be 4
des Fe: 1s2 2s2 2p6 3s 2 3p6 3d 6 4s 2

Ku wurde zu Rf = Rutherfordium (IUPAC 1997) B5 C6 N7 O8 F9 Ne 10


jeweiligen Valenz-
6,941 9,012 Ha wurde zu Db = Dubnium (IUPAC 1997)
Sg = Seaborgium nach Glenn T. Seaborg *1912
Bh = Bohrium (IUPAC 1997)
10,81 12,01 14,01 16,00 19,00 20,18
Elektronenkonfiguration
2s 1 2 (Niels Bohr, dänischer Physiker 1885–1962) 2 2 2 2 2 2 2s
2p – – Hs = Hassium 1 2 3 4 5 6 2p
(lat. Hassia = Hessen, deutsches Bundesland)
Mt = Meitnerium (Lise Meitner,
Na 11 Mg 12 Al 13 Si 14 P 15 S 16 Cl 17 Ar 18
österreichische Physikerin, 1878 –1968)
23,00 24,31 Ds = Darmstadtium (Sitz der Gesellschaft für Schwerionen-
forschung, GSI, an der die Elemente 107 – 112
26,98 28,09 30,97 32,06 35,45 39,95
Unregelmäßigkeiten“ in der
3s 1 2
synthetisiert wurden)
2 2 2 2 2 2 3s ”
3p – –
Rg = Roentgenium (Wilhelm Conrad Röntgen,
deutscher Physiker, 1845 – 1923) 1 2 3 4 5 6 3p Auffüllsystematik wegen
K 19
39,10
Ca 20 Sc 21
40,08 44,96
Ti 22
47,87
V 23
50,94
Cr 24 Mn 25 Fe 26 Co 27 Ni 28 Cu 29 Zn 30 Ga 31 Ge 32 As 33 Se 34 Br 35 Kr 36
52,00 54,94 55,85 58,93 58,69 63,55 65,39 69,72 72,64 74,92 78,96 79,90 83,80
Wechselwirkung zwischen
3d
4s

1

2
1
2
2
2
3
2
5
1
5
2
6
2
7
2
8
2
10
1
10
2
10
2
10
2
10
2
10
2
10
2
10
2
3d
4s
Elektronen, wichtig v.a. bei
4p – – – – – – – – – – – – 1 2 3 4 5 6 4p

Rb 37 Sr 38 Y 39 Zr 40 Nb 41 Mo 42 Tc 43 Ru 44 Rh 45 Pd 46 Ag 47 Cd 48 In 49 Sn 50 Sb 51 Te 52 J 53 Xe 54
schweren Atomen.
85,47 87,62 88,91 91,22 92,91 95,94 (98) 101,07 102,9 106,4 107,9 112,4 114,8 118,7 121,8 127,6 126,9 131,3
4d – – 1 2 4 5 6 7 8 10 10 10 10 10 10 10 10 10 4d
5s 1 2 2 2 1 1 1 1 1 – 1 2 2 2 2 2 2 2 5s
5p – – – – – – – – – – – – 1 2 3 4 5 6 5p

Cs 55 Ba 56 La 57 Hf 72 Ta 73 W 74 Re 75 Os 76 Ir 77 Pt 78 Au 79 Hg 80 Tl 81 Pb 82 Bi 83 Po 84 At 85 Rn 86
132,9 137,3 138,9 178,5 181,0 183,8 186,2 190,2 192,2 195,1 197,0 200,6 204,4 207,2 209,0 (209,0) (210,0) (222,0)
5d – – 1 2 3 4 5 6 7 9 10 10 10 10 10 10 10 10 5d
6s 1 2 2 2 2 2 2 2 2 1 1 2 2 2 2 2 2 2 6s
6p – – – – – – – – – – – – 1 2 3 4 5 6 6p

Fr 87 Ra 88 Ac 89 Rf 104 Db 105 Sg 106 Bh 107 Hs 108 Mt 109 Ds 110 Rg 111 112 114 116 118
(223,0) (226,0) (227) 261,1 (262,1) (263,1) (262,1) (265,1) (266,1) (269,3) (272) (277) (289) (292) (293)
6d – – 1 2? 3?
7s 1 2 2 2? 2 ? Ce 58 Pr 59 Nd 60 Pm 61 Sm 62 Eu 63 Gd 64 Tb 65 Dy 66 Ho 67 Er 68 Tm 69 Yb 70 Lu 71
7p – – – – –
4f
140,1 140,9 144,2 (145) 150,4 152,0 157,3 158,9 162,5
2 3 4 5 6 7 7 8 10
164,9 167,3 168,9
11 12 13
173,0 175,0
14 14 4f
Meschede D. (2015) Die Elemente
5d – – – – – – 1 1 – – – – – 1 5d und die Chemie. In: Gerthsen
6s 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 6s
Physik. Springer-Lehrbuch. Springer
Th 90 Pa 91 U 92 Np 93 Pu 94 Am 95 Cm 96 Bk 97 Cf 98 Es 99 Fm 100 Md 101 No 102 Lr 103
232,0 231,0 238,0 (237,0) (244,1) (243,1) (247,1) (247,1) (251,1) (252,1) (257,1) (258,1) (259,1) (262,1)
Spektrum, Berlin, Heidelberg
5f – 2 3 5 6 7 7 9 10 11 12 13 14 14 5f doi:10.1007/978-3-662-45977-5 18,
Seite 820
6d 2 1 1 – – – 1 – – – – – – 1 6d
7s 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 7s

TFH WS 2021/22 24
Systematik des Atombaus 820/821

⊡ Tabelle 17.1 Periodensystem der Elemente

TFH
Periodensystem der Elemente
H1 Fe 26 Element und Ordnungszahl He 2
1,008 55,85 Atommasse in AME ; für einige instabile Elemente in Klammern: 4,0026
3d 6 Massenzahl des stabilsten Isotops

4s 2 Elektronenkonfiguration; die vollen Schalen der vorhergehenden


4p – Perioden sind mitzurechnen, z.B. vollständige Elektronenkonfiguration 2
1s 1 1s
des Fe: 1s2 2s2 2p6 3s 2 3p6 3d 6 4s 2

Li 3 Be 4 Ku wurde zu Rf = Rutherfordium (IUPAC 1997) B5 C6 N7 O8 F9 Ne 10


6,941 9,012 Ha wurde zu Db = Dubnium (IUPAC 1997) 10,81 12,01 14,01 16,00 19,00 20,18
Sg = Seaborgium nach Glenn T. Seaborg *1912
Bh = Bohrium (IUPAC 1997)
2s 1 2 (Niels Bohr, dänischer Physiker 1885–1962) 2 2 2 2 2 2 2s
2p – – Hs = Hassium 1 2 3 4 5 6 2p
(lat. Hassia = Hessen, deutsches Bundesland)
Mt = Meitnerium (Lise Meitner,
Na 11 Mg 12 Al 13 Si 14 P 15 S 16 Cl 17 Ar 18
österreichische Physikerin, 1878 –1968)
23,00 24,31 Ds = Darmstadtium (Sitz der Gesellschaft für Schwerionen- 26,98 28,09 30,97 32,06 35,45 39,95
forschung, GSI, an der die Elemente 107 – 112
synthetisiert wurden)
3s 1 2 2 2 2 2 2 2 3s
Rg = Roentgenium (Wilhelm Conrad Röntgen,
3p – – deutscher Physiker, 1845 – 1923) 1 2 3 4 5 6 3p

K 19 Ca 20 Sc 21 Ti 22 V 23 Cr 24 Mn 25 Fe 26 Co 27 Ni 28 Cu 29 Zn 30 Ga 31 Ge 32 As 33 Se 34 Br 35 Kr 36
39,10 40,08 44,96 47,87 50,94 52,00 54,94 55,85 58,93 58,69 63,55 65,39 69,72 72,64 74,92 78,96 79,90 83,80
Periodensystem der Elemente

3d – – 1 2 3 5 5 6 7 8 10 10 10 10 10 10 10 10 3d
4s 1 2 2 2 2 1 2 2 2 2 1 2 2 2 2 2 2 2 4s
4p – – – – – – – – – – – – 1 2 3 4 5 6 4p

Rb 37 Sr 38 Y 39 Zr 40 Nb 41 Mo 42 Tc 43 Ru 44 Rh 45 Pd 46 Ag 47 Cd 48 In 49 Sn 50 Sb 51 Te 52 J 53 Xe 54
85,47 87,62 88,91 91,22 92,91 95,94 (98) 101,07 102,9 106,4 107,9 112,4 114,8 118,7 121,8 127,6 126,9 131,3
4d – – 1 2 4 5 6 7 8 10 10 10 10 10 10 10 10 10 4d
5s 1 2 2 2 1 1 1 1 1 – 1 2 2 2 2 2 2 2 5s
5p – – – – – – – – – – – – 1 2 3 4 5 6 5p

WS 2021/22
Cs 55 Ba 56 La 57 Hf 72 Ta 73 W 74 Re 75 Os 76 Ir 77 Pt 78 Au 79 Hg 80 Tl 81 Pb 82 Bi 83 Po 84 At 85 Rn 86
132,9 137,3 138,9 178,5 181,0 183,8 186,2 190,2 192,2 195,1 197,0 200,6 204,4 207,2 209,0 (209,0) (210,0) (222,0)
5d – – 1 2 3 4 5 6 7 9 10 10 10 10 10 10 10 10 5d
6s 1 2 2 2 2 2 2 2 2 1 1 2 2 2 2 2 2 2 6s
6p – – – – – – – – – – – – 1 2 3 4 5 6 6p

Fr 87 Ra 88 Ac 89 Rf 104 Db 105 Sg 106 Bh 107 Hs 108 Mt 109 Ds 110 Rg 111 112 114 116 118
(223,0) (226,0) (227) 261,1 (262,1) (263,1) (262,1) (265,1) (266,1) (269,3) (272) (277) (289) (292) (293)
6d – – 1 2? 3?
7s 1 2 2 2? 2 ? Ce 58 Pr 59 Nd 60 Pm 61 Sm 62 Eu 63 Gd 64 Tb 65 Dy 66 Ho 67 Er 68 Tm 69 Yb 70 Lu 71
7p – – – – – 140,1 140,9 144,2 (145) 150,4 152,0 157,3 158,9 162,5 164,9 167,3 168,9 173,0 175,0
4f 2 3 4 5 6 7 7 8 10 11 12 13 14 14 4f
5d – – – – – – 1 1 – – – – – 1 5d
6s 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 6s

Th 90 Pa 91 U 92 Np 93 Pu 94 Am 95 Cm 96 Bk 97 Cf 98 Es 99 Fm 100 Md 101 No 102 Lr 103


232,0 231,0 238,0 (237,0) (244,1) (243,1) (247,1) (247,1) (251,1) (252,1) (257,1) (258,1) (259,1) (262,1)
5f – 2 3 5 6 7 7 9 10 11 12 13 14 14 5f
6d 2 1 1 – – – 1 – – – – – – 1 6d
7s 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 2 7s
25
Kristallbindungen
Tab. 1.1 Vollständiges Periodensystem der Elemente mit der jeweiligen Valenz-Elektronenkonfiguration
Bindungstypen
(Quelle: Gerthsen Physik, Springer 2010, Kap. 17; JKU Onlinekatalog)

1.1.3 Bindungstypen
Zwischen benachbarten Atomen wirken elektrostatische Bindungskräfte, die zur
VO 322.130 Halbleiter-
Molekülbildung bzw. inund Festkörperphysik
dichten (Master Elektronik
Atomanordnungen & Informationstechnik)
bei hinreichend tiefen Temperaturen zur 5
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Kondensation in einen geordneten Festkörper führen. Man unterscheidet vier Bindungstypen.
(i) Van-der-Waals-Bindung
Schwächster Bindungstyp, der immer auftritt, auch wenn kein Elektronenaustausch zwischen
benachbarten Atomen stattfindet. Die Van-der-Waals-Bindung beruht auf einer Dipol-Dipol-
Wechselwirkung zwischen benachbarten Atomen. Die elektrischen Dipole entstehen dabei
durch permanente oder induzierte Verschiebungen der Atomhülle gegen den Kern. Die
Bindungsenergie EB hat die charakteristische Abstandsabhängigkeit einer Dipol-Dipol-
Wechselwirkung:
EB  -1/r6 equ. 1.1
wobei r der Abstand benachbarter Atome ist. Bei sehr kleinen Abständen überlappen die
gefüllten Elektronenhüllen benachbarter Atome. Das Pauli-Verbot führt dann zu einer
Abstoßung, die oft  1/r12 angenommen wird. Diese Abstoßung gibt es immer, unabhängig
vom Bindungstyp. Wegen der sehr starken Ortsabhängigkeit der Abstoßung bei kleinen
Abständen geht man bei Kristallmodellen oft davon aus, daß sich die Atome wie starre
Kugeln verhalten.
Das vollständige Potential aus anziehendem
Dipol-Dipol-Anteil und abstoßendem Pauli-
TFH
Anteil bezeichnet man als Lennard-Jones- WS 2021/22 26
gefüllten Elektronenhüllen benachbarter Atome. Das Pauli-Verbot führt dann zu einer
Abstoßung, die oft  1/r12 angenommen wird. Diese Abstoßung gibt es immer, unabhängig
Kristallbindungen
vom Bindungstyp. Wegen der sehr starken Ortsabhängigkeit der Abstoßung bei kleinen
Van-der-Waals-Bindung
Abständen geht man bei Kristallmodellen oft davon aus, daß sich die Atome wie starre
Kugeln verhalten.
Das vollständige Potential aus anziehendem
Dipol-Dipol-Anteil und abstoßendem Pauli-
Anteil bezeichnet man als Lennard-Jones-
Potential der Form
EB = A/r12 – B/r6 equ. 1.2
A und B sind Materialkonstanten. Oft findet
man auch eine Darstellung mit den Parametern
 und , wie in Abb. 1.2 angegeben. Der
Gleichgewichtsabstand der Atome in einem
Kristall, der nur durch die Van-der-Waals-
Bindung zusammengehalten wird, erhält man
Abb. 1.2 Lennard-Jones-Potential für die
dann aus dem Minimum der EB(r)-Kurve in Van-der-Waal-Bindung
equ. 1.2.
Die Van-der-Waals-Bindung ist schwach, mit einer Bindungsenergie von 0.02 - 0.1 eV/Atom.
Dabei gilt 1eV = 1.602∙10-19 J.
Die Van-der-Waals-Bindung tritt immer auf, ist aber wegen ihrer geringen Bindungsenergie
nur relevant in Kristallen aus Atomen mit vollständig gefüllten Schalen, z.B. bei Edelgasen,
bei O2 oder N2 sowie bei Molekülkristallen und Polymeren.
(ii) Kovalente (homöopolare) Bindung
Kovalente Bindung tritt hauptsächlich bei Elementen der III., IV. und V. Hauptgruppe des
Periodensystems auf. Beispiel: Elemente der IV. Hauptgruppe haben je 4 Valenzelektronen in
TFH WS 2021/22 27
Die Van-der-Waals-Bindung tritt immer auf, ist aber wegen ihrer geringen Bindungsenergie
Kristallbindungen
nur relevant in Kristallen aus Atomen mit vollständig gefüllten Schalen, z.B. bei Edelgasen,
bei O
Kovalente 2 oder N2 sowie bei Molekülkristallen und Polymeren.
Bindung
(ii) Kovalente (homöopolare) Bindung
Kovalente Bindung tritt hauptsächlich bei Elementen der III., IV. und V. Hauptgruppe des
Periodensystems auf. Beispiel: Elemente der IV. Hauptgruppe haben je 4 Valenzelektronen in
der äußersten Schale. Mit je einem Elektron aus vier nächsten Nachbarn läßt sich eine
Edelgas-ähnliche Valenzstruktur mit einer vollständig gefüllten äußersten Schale bilden.
Jeweils zwei benachbarte Atome teilen sich ein Elektronenpaar. Dieser Elektronenaustausch
führt zu einer anziehenden Wechselwirkung.
3
Quantenmechanisch
▶ 1D Modellsystem: gesehenZwei
kommt es zur Ausbildung
Quantentöpfe, die von
ausspdem-Hybridorbitalen,
Unendlichen in die zu
einer stark gerichteten Bindung
Kontakt gebracht werden: führen: Die vier nächsten Nachbarn in einer kovalenten
Bindung bilden eine Tetraeder-Konfiguration. Kovalent gebundene Materialien
kristallisieren im Diamant- oder Zinkblende-Gitter (Kap. 2) Bei ersterem sind alle Atome
gleich (Diamant, Si, Ge), bei letzterem sind zwei unterschiedliche Atome beteiligt, z.B. eines
aus der III., das andere aus der V. Hauptgruppe. Die kovalente Bindung ist der
vorherrschende Bindungstyp in allen wichtigen Halbleitern

symmetrische Wellenfunktion

▶ Bei ausreichend kleinem Abstand führt das Eindringen der Wellenfunktion


des einen Quantentopfs in den benachbarten (Tunneln) zur Delokalisierung
des ursprünglich in einem Topf lokalisierten Teilchens.
▶ Delokalisierung führt zum Absenken der Grundzustandsenergie ⇒ Bindung
▶ rein quantenmechanischer Effekt
TFH WS 2021/22 28
Kristallbindungen
Kovalente Bindung im Kristall
▶ Bis jetzt: Wellenfunktionen für isolierte Atome,
Aufenthaltswahrscheinlichkeiten sind unabhängig von Rotation um
z-Achse.
▶ Gibt es Wellenfunktionen, die gerichtet sind und daher ein Eindringen in
das Bindungspotential des Nachbaratoms (d.h. die Delokalisierung)
maximieren?
▶ Bsp: Kohlenstoff (C): 1s 2 , 2s 2 , 2p 2 . Die Aufenthaltswahrscheinlichkeit der
Zustände der zweiten Schale reichen weiter als die der ersten Schale. Für
die kovalente Bindung sind daher die Elektronen in der zweiten Schale
bestimmend (Valenzelektronen).
▶ Die Wellenfunktionen sind (siehe vorher):

r r Polardiagramm für r = const


1 r 1
 
−r /2a0
ψ200 = − +2 e · ψ210 ψ211 − ψ21−1
8a03 a0 4π
r r
1 r 3
 
−r /2a0
ψ210 = e · cos ϑ
24a03 a0 4π
r r ψ211 + ψ21−1
1 r 3
 
−r /2a0
ψ2,1,±1 = ∓ e · sin ϑe ±iφ
24a03 a0 8π

TFH WS 2021/22 29
 und , wie in Abb. 1.2 angegeben. Der
Kristallbindungen
Gleichgewichtsabstand der Atome in einem
Kristall,
Kovalente der nur
Bindung durch die
im Kristall: sp3Van-der-Waals-
Hybridorbitale
Bindung zusammengehalten
Linearkombination wird, erhält
aus Wasserstoff - man Abb. 1.2Polardiagramm fürfür
Lennard-Jones-Potential r die
= a0
dann aus dem Minimum der EB(r)-Kurve in
Wellenfunktionen, die zur selben Eigenenergie Van-der-Waal-Bindung
equ. 1.2.
gehören:
Die Van-der-Waals-Bindung ist schwach, mit einer Bindungsenergie von 0.02 - 0.1 eV/Atom.ψ (2)3
-19 sp
(1) gilt11eV = 1.602∙10
Dabei J.
ψsp 3 = [−ψ200 + ψ210 + ψ2,1,1 + ψ2,1,−1 ]
2
Die Van-der-Waals-Bindung tritt immer auf, ist aber wegen ihrer geringen Bindungsenergie
1 in Kristallen aus Atomen mit vollständig gefüllten Schalen, z.B. bei Edelgasen,
nur(2)relevant
ψsp 3 = [ψ 200 − ψ 210 + ψ 2,1,1 + ψ2,1,−1 ]
bei O2 oder2 N2 sowie bei Molekülkristallen und Polymeren.
(3)
(ii) 1
ψ Kovalente
sp 3
= [ψ (homöopolare)
+ ψ − ψBindung
200 210 +ψ 2,1,1 2,1,−1 ]
Kovalente2Bindung tritt hauptsächlich bei Elementen der III., IV. und V. Hauptgruppe des
(4) 1
Periodensystems
ψ 3 = [ψ200auf. + ψBeispiel: Elemente der IV. Hauptgruppe haben je 4 Valenzelektronen in
210 + ψ2,1,1 − ψ2,1,−1 ]
derspäußersten
2 Schale. Mit je einem Elektron aus vier nächsten Nachbarn läßt sich eine
Edelgas-ähnliche
3 Valenzstruktur mit einer vollständig gefüllten äußersten Schale bilden.
sp Orbitale sind entlang der Raumdiagonale eines Würfels ausgerichtet,
Jeweils zwei benachbarte Atome teilen sich ein Elektronenpaar. Dieser Elektronenaustausch
dehnen
führt zu einer anziehendeninWechselwirkung.
sich aber nur eine Richtung vom Würfelmittelpunkt aus.
Quantenmechanisch gesehen kommt es zur Ausbildung von sp3-Hybridorbitalen, die zu
einer stark gerichteten Bindung führen: Die vier nächsten Nachbarn in einer kovalenten
Bindung bilden eine Tetraeder-Konfiguration. Kovalent gebundene Materialien
kristallisieren im Diamant- oder Zinkblende-Gitter (Kap. 2) Bei ersterem sind alle Atome
gleich (Diamant, Si, Ge), bei letzterem sind zwei unterschiedliche Atome beteiligt, z.B. eines
aus der III., das andere aus der V. Hauptgruppe. Die kovalente Bindung ist der
vorherrschende Bindungstyp in allen wichtigen Halbleitern

TFH WS 2021/22 30
Kristallbindungen
Kovalente Bindung im Kristall: Überlapp und Delokalisierung der sp3 Hybridorbitale

Abb. 1.3 Modell für die kovalente


Bindung am Beispiel des
Abb. 1.3 Modell für die kovalente
Wasserstoffmoleküls.
Bindung am BeispielLage
(a): Geometrische des der Kerne und
eines Elektrons.
Wasserstoffmoleküls.
(a):(b) Bonding- undLage
Geometrische Antibonding-
der Kerne und
Kombination
eines Elektrons. der Wellenfunktionen. Das
(b) Bonding-Orbital führt zur Anhäufung der
Bonding- und Antibonding-
Elektronenladung
Kombination zwischen den Kernen
der Wellenfunktionen. Das
und verringert führt
Bonding-Orbital dadurch
zurdie Coulomb-der
Anhäufung
Abstoßung der Kerne.
Elektronenladung zwischen den Kernen
und(c) Aufspaltung der Energieniveaus in
verringert dadurch die Coulomb-
Bonding- und Antibonding-Niveaus. Die
Abstoßung der Kerne.
größte Bindungsenergie wird erreicht,
(c) wenn
Aufspaltung der Energieniveaus in
der Bonding-Zustand voll besetzt
Bonding-
und derund Antibonding-Niveaus.
Antibonding-Zustand Die
leer ist.
größte Bindungsenergie wird erreicht,
wenn der Bonding-Zustand voll besetzt
und der Antibonding-Zustand leer ist.
Aufspaltung der Energieniveaus in Bonding- und
Antibonding-Niveaus. Die größte Bindungsenergie wird
erreicht, wenn der Bonding-Zustand voll besetzt und der
Antibonding-Zustand leer ist.

Abb. 1.4 Tetraeder-Konfiguration der sp3-Bindung in den Kristallstrukturen von Diamant, Si, Ge, -Sn

TFH
Abb. 1.4 Tetraeder-Konfiguration der sp3-Bindung in den Kristallstrukturen von Diamant, Si, Ge, -Sn
WS 2021/22 31
Abb. 1.4 Tetraeder-Konfiguration der sp3-Bindung in den Kristallstrukturen von Diamant, Si, Ge, -Sn
Kristallbindungen
Kovalente Bindung im Kristall: sp2 Hybridorbitale

Abb. 1.5 Planare sp2-Bindung im Graphit. Der Bindungswinkel in der Ebene beträgt 120°. Die p z-Orbitale
liegen entlang der gestrichelten Linien. Eine einzelne Graphitebene entspricht dem Material Graphen.
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 7
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

a b
Abb. 1.6 Spezielle Formen von sp2-gebundenem Kohlenstoff. (a): C60 (Fulleren); (b): Single-Wall Carbon-
Nanotube (CNT)

TFH (iii) Ionenbindung WS 2021/22 32


a b
(partiellen) Elektronenaustausch erhält man, abhängig
zwischen von der Krisu
den Bindungspartnern
anziehenden Coulomb-Wechselwirkung zwischen den entstehenden
Kristallbindungen
a b Abb. 1.6 Spezielle Formen von sp2-gebundenem Kohlenstoff. (a): C60 (Fulleren); (b): Single-Wall Carbon-
Nanotube (CNT) Beispielsweise gibt in einem Kochsalzkristall das Na aus
der I. Hau
Valenzelektron fast vollständig an das Cl aus der VII. Hauptgruppe
Ionenbindung
Abb. 1.6 Spezielle Formen von sp2-gebundenem Kohlenstoff. (a): C60 (Fulleren); (b): Single-Wall Carbon- wird aus einem
Elektronentransfer wobei  die von
neutralen der jeweiligen
Na-Atom ein positivKr
g
Nanotube (CNT) (iii) Ionenbindung entsprechend aus Cl ein negatives Cl--Ion.
lineare KetteBeide
aus abwechselnd
haben dann eine pos
E
jeweils einer vollständig abgeschlossenen äußeren
einen Kochsalz-Kristall wird  = 1
Schale und ziehe
Ist die Elektronegativität der Atome in einem Kristall stark unterschiedlich, NaClso kommt es zum
(partiellen) ElektronenaustauschDie Bindungsenergie
zwischen beträgt dann:
den Bindungspartnern und in der Folge zu einer
(iii) Ionenbindung anziehenden Coulomb-Wechselwirkung zwischen den entstehenden Ionenrümpfen. 𝑄2 1
Beispielsweise gibt in einem Kochsalzkristall das Na aus der I. Hauptgruppe 𝐸𝐵 = −sein ∙
4𝜋𝜖0 𝑟
Ist die Elektronegativität der Atome in einem Kristall stark unterschiedlich,
Valenzelektron fast vollständig so kommt
an das Cl ausesderzum
VII. Hauptgruppe ab. Durch den
(partiellen) Elektronenaustausch zwischen den Bindungspartnern und in der wobei
FolgeQ die einer
zu effektive Ionenladung der Rümpfe+ ist.
Elektronentransfer wird aus einem neutralen Na-Atom ein positiv geladenes Na -Ion und
anziehenden Coulomb-Wechselwirkung zwischen entsprechend
den entstehenden
aus Cl einIonenrümpfen.
negatives Cl--Ion.
Wegen derBeide
1/r-Abhängigkeit ist die
haben dann eine Ionenbindung langreichweitig
Edelgaskonfiguration mit u
Beispielsweise gibt in einem Kochsalzkristall das Na jeweils
auseiner
der vollständig aus positiväußeren
abgeschlossenen
I. Hauptgruppe sein und negativ
Schalegeladenen
und ziehen Ionen. Summiert manan.
sich elektrostatisch über alle Io
Die Bindungsenergie beträgt dann: erhält man, abhängig von der Kristallstruktur, eine Bindungsenergie
Valenzelektron fast vollständig an das Cl aus der VII. Hauptgruppe ab. Durch den
𝑄2 1 𝑄2 𝛼
Elektronentransfer wird aus einem neutralen Na-Atom ein positiv geladenes Na+-Ion 𝐸𝐵 = und
− 4𝜋𝜖 ∙ 𝑟 𝐸𝐵 = − 4𝜋𝜖 ∙ 𝑟 equ. 1.3
0 0
entsprechend aus Cl ein negatives Cl--Ion. Beide haben dann eine Edelgaskonfiguration
wobei Q die effektive Ionenladung derRümpfe
mit
wobei die vonist.
der jeweiligen Kristallstruktur abhängige Madelun
jeweils einer vollständig abgeschlossenen äußeren Schale und ziehen sich elektrostatisch an.
Wegen der 1/r-Abhängigkeit istlineare Kette aus abwechselnd
die Ionenbindung positiv
langreichweitig und negativ
und besteht geladenen Ionen
abwechselnd
Die Bindungsenergie beträgt dann: einen
aus positiv und negativ geladenen Kochsalz-Kristall
Ionen. Summiert man wird  = Ionen
über alle 1.748,eines
für die Cäsiumchlorid-Stru
CsClKristalls, so
𝑄 2 erhält
1 man, abhängig von der Kristallstruktur, eine Bindungsenergie der Form:
𝐸𝐵 = − 4𝜋𝜖 ∙ 𝑟 equ.
𝑄2
1.3
𝛼
0
𝐸𝐵 = − 4𝜋𝜖 ∙ 𝑟 equ. 1.4
0
wobei Q die effektive Ionenladung der Rümpfe ist.
wobei  die von der jeweiligen Kristallstruktur abhängige Madelung-Konstante ist. Für eine
Wegen der 1/r-Abhängigkeit ist die Ionenbindung langreichweitig und besteht
lineare Kette aus abwechselnd und negativ geladenen Ionen beträgt  = 1.386, für
abwechselnd
positiv
aus positiv und negativ geladenen Ionen. Summierteinen
manKochsalz-Kristall
über alle Ionenwird  = 1.748,
eines Cäsiumchlorid-Struktur gilt  = 1.763.
für dieso
Kristalls,
erhält man, abhängig von der Kristallstruktur, eine Bindungsenergie der Form:
Abb. 1.7
𝑄2 𝛼
𝐸𝐵 = − 4𝜋𝜖 ∙ 𝑟 equ. 1.4 reine Ion
CsCl-Str
0

wobei  die von der jeweiligen Kristallstruktur abhängige Madelung-Konstante ist. Für eine + #−
lineare Kette aus abwechselnd positiv und negativ geladenen Ionen beträgt  = 1.386, für
einen Kochsalz-Kristall wird  = 1.748, für die Cäsiumchlorid-Struktur gilt  = 1.763. Abb. 1.7 Die beiden Kristalltypen für
reine Ionenbindung: (a) NaCl- und (b)
CsCl-Struktur

TFH WS 2021/22 33
Kristallbindungen
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik)
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
8

Metallische Bindung
Ionenbindung tritt in Salzen auf, aber auch in Verbindungshalbleitern. In letzteren ist der
ionische Bindungsanteil um so größer, je weiter die Bindungspartner in den Spalten des
Periodensystems auseinander liegen. Also: II-VI-Halbleiter haben einen höheren ionischen
Bindungsanteil als III-V-Halbleiter. Beide haben zusätzlich eine kovalente
Bindungskomponente (s.o.).
Die ionische Bindung ist ungerichtet und stark, mit Bindungsenergien von 6 – 20 eV/Atom.
(iv) Metallische Bindung
Die metallische Bindung ist ein Extremfall einer durch Elektronenanhäufung zwischen den
Kernen erzeugten Bindung. Im Unterschied zur kovalenten Bindung sind die
Wellenfunktionen sehr ausgedehnt und in der Regel s-artig, d.h. isotrop. So hat etwa die 4s-
Wellenfunktion in Ni noch eine nennenswerte Amplitude beim drittnächsten Nachbaratom
(Abb. 1.6). Man kann sich daher die äußeren Valenzelektronen als so schwach gebunden
vorstellen, daß sie sich im Gitter der Ionenrümpfe fast frei bewegen können. Dadurch erklärt
sich die die hohe elektrische Leitfähigkeit.

Abb. 1.8 Amplituden der 3dzz-


Wellenfunktion und der 4s-Wellenfunktion
von Ni. r1, r2 und r3 sind die halben
Entfernungen zu den nächsten, übernächsten
und drittnächsten Nachbaratomen

TFH WS 2021/22 34
Kristallbindungen
Metallische Bindung

Abb. 1.8 Amplituden der 3dzz-


Wellenfunktion und der 4s-Wellenfunktion
von Ni. r1, r2 und r3 sind die halben
Entfernungen zu den nächsten, übernächsten
und drittnächsten Nachbaratomen

Wegen der ungerichteten Bindung sind Metalle mechanisch leicht verformbar und bilden
leicht Legierungen. Die Bindungsenergien liegen zwischen 1 und 5 eV, können also
vergleichbar groß wie in kovalent gebundenen Kristallen werden.
Einen Sonderfall stellen die Übergangsmetalle dar: Die stark lokalisierten d-Elektronen bilden
ein kovalent gebundenes Gerüst, das einen nennenswerten Beitrag zur
Gesamtbindungsenergie leistet.

1.2 Kristallstruktur
Die Bravais Gitter
Ein Bravais-Gitter (August Bravais 1850) ist eine unendliche Anordnung von Punkten, die
durch einen Satz diskreter Translationen erzeugt wird:
𝑅⃗ = 𝑛1 𝑎1 + 𝑛2 𝑎2 + 𝑛3 𝑎3 equ. 1.5
ni sind ganze Zahlen und die 𝑎𝑖 sind Vektoren, die die Einheitszelle des Gitters aufspannen
und daher in drei verschiedenen Ebenen liegen. Im kubischen Gitter stehen die
Einheitsvektoren senkrecht aufeinander.

TFH WS 2021/22 35
leicht Legierungen. Die Bindungsenergien liegen zwischen 1 und 5 eV, können also
vergleichbar groß wie in kovalent gebundenen Kristallen werden.
Kristallstrukturen
Einen Sonderfall stellen die Übergangsmetalle dar: Die stark lokalisierten d-Elektronen bilden
Bravaisgitter
ein kovalent gebundenes Gerüst, das einen nennenswerten Beitrag zur
Gesamtbindungsenergie leistet.

1.2 Kristallstruktur
Die Bravais Gitter
Ein Bravais-Gitter (August Bravais 1850) ist eine unendliche Anordnung von Punkten, die
durch einen Satz diskreter Translationen erzeugt wird:
𝑅⃗ = 𝑛1 𝑎1 + 𝑛2 𝑎2 + 𝑛3 𝑎3 equ. 1.5
⃗ai : primitive
ni sind ganze Zahlen und die 𝑎𝑖 sind Vektoren, die die Einheitszelle des Gitters aufspannen
und Einheitsvektoren
VO daher
322.130in drei verschiedenen
Halbleiter- Ebenen liegen.
und Festkörperphysik Im kubischen
(Master Elektronik &Gitter stehen die
Informationstechnik) 9
Einheitsvektoren
F. Schäffler, JKU, senkrecht aufeinander.
Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

Im Dreidimensionalen gibt es insgesamt 14 Bravais-Gitter, die in 7 Gittersysteme unterteilt


werden können:

Gittersysteme Bravais-Gitter
primitiv (P) basiszentriert (C) volumenzentriert (I) flächenzentriert (F)
triklin
abc

120°

P C

monoklin
abc
TFH = WS 2021/22 36
Gittersysteme Bravais-Gitter
primitiv (P) basiszentriert (C) volumenzentriert (I) flächenzentriert (F)
Im Dreidimensionalen gibt es insgesamt 14 Bravais-Gitter, die in 7 Gittersysteme unterteilt
Kristallstrukturen
triklin
werden können:
Die 14 Bravais-Gitter
abc in 3D

120°
Gittersysteme Bravais-Gitter
primitiv
P (P) basiszentriert
C (C) volumenzentriert (I) flächenzentriert (F)
triklin
monoklin
abc

abc
=
120°
90°
P C

monoklin P C I F
abc
=
orthorhombisch
90°
abc
=

P C I F
P I
orthorhombisch
abc
=
tetragonal
a=bc
=
P I

tetragonal
a=bc P
TFH =
rhomboedrisch WS 2021/22 37
a=bc
Im Dreidimensionalen gibt es insgesamt 14 Bravais-Gitter, die in 7 Gittersysteme unterteilt
=
werden können:
Kristallstrukturen
Die 14 Bravais-Gitter in 3D
Gittersysteme Bravais-Gitter
primitivP(P) basiszentriert (C) volumenzentriert (I) flächenzentriert (F)
triklin
rhomboedrisch
abc
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik)
(trigonal) 10

F. Schäffler,
a=b=c JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
120°

VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 10
P
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
hexagonal P C
a=bc P

monoklin
hexagonal 

abc
a=bc
=
  sc: simple cubic
90°
 bcc: body centered cubic
P (sc) fcc:I (bcc)
face centered
F (fcc)cubic
P C I F
kubisch
a=b=c P (sc) I (bcc) F (fcc)

orthorhombisch
kubisch
abc
a=b=c
=


P I
Tabelle 1.2 Kristalle kommen nur in Form von Bravais-Gittern vor, deren Gitterpunkte mit einem oder mehreren
Atomen besetzt sind. Sind mehrere Atome pro Gitterpunkt vorhanden, so spricht man von einer Basis. Das
Diamantgitter beispielsweise ist ein fcc-Gitter mit zweiatomarer Basis. Die Basiskoordinaten sind (000)a und
(1/4tetragonal
Tabelle 1.2 Kristalle
1/4 1/4)a. kommen nur besteht
Das Diamantgitter in Formalso
vonaus
Bravais-Gittern vor,verschachtelten
zwei ineinander deren Gitterpunkte mit einem
fcc-Gittern, dieoder mehreren
um 1/4 der
Atomena=bc
besetzt sind.
Raumdiagonalen Sind mehrere
der kubischen Atome progegeneinander
Einheitszelle Gitterpunkt vorhanden,
verschoben sosind.
spricht man von einer Basis. Das
=
Diamantgitter beispielsweise ist ein fcc-Gitter mit zweiatomarer Basis. Die Basiskoordinaten sind (000)a und
(1/4 1/4 1/4)a. Das Diamantgitter besteht also aus zwei ineinander verschachtelten fcc-Gittern, die um 1/4 der
TFH WS 2021/22 38
Kristallstrukturen
Gittersysteme und Bravais-Gitter

▶ Die unterschiedlichen Bravaisgitter, die zu dem selben Gittersystem


gehören, sind ununterscheidbar bezüglich der Symmetrieoperationen, die
keine Translationen sind, und das Gitter trotzdem auf sich selbst abbilden
(Rotationen, Spiegelungen, Inversion, Drehspiegelungen, Drehinversionen)
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 10
▶ Solche Symmetrieoperationen
F. Schäffler, lassen mindestens
JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018 einen Punkt des Gitters
unverändert (Punktsymmetrieoperationen) oder lassen sich darstellen als
P
hintereinander ausgeführte Punktsymmetrieoperation und einer Translation
hexagonal
um einen Gittervektor.
a=bc
▶ Bsp: 
Alle Symmetrieoperationen,
 die einen Würfe (sc) in sich selbst

abbilden, bilden auch den innenzentrierten (bcc) und den flächenzentrierte
(fcc) Würfel in sich selbst ab.
P (sc) I (bcc) F (fcc)
kubisch
a=b=c


Aber: unterschiedliche Translationsoperationen, die die sc, bcc und fcc


Bravaisgitter in sich selbst abbilden:
Tabelle 1.2 Kristalle kommen nur in Form von Bravais-Gittern vor, deren Gitterpunkte mit einem oder mehreren
Atomen besetzt sind. Sind mehrere Atome pro Gitterpunkt vorhanden, so spricht man von einer Basis. Das
Diamantgitter beispielsweise ist ein fcc-Gitter mit zweiatomarer Basis. Die Basiskoordinaten sind (000)a und
TFH (1/4 1/4 1/4)a. Das Diamantgitter besteht also aus zweiWS 2021/22verschachtelten fcc-Gittern, die um 1/4 der
ineinander 39
Kristallstrukturen
Kubisches Gittersystem, unterschiedliche Translationssymmetrien
SC (PC) Bravaisgitter

BCC Bravaisgitter FCC Bravaisgitter

Die unterschiedlichen primitiven Einheitsvektoren sind färbig bzw. fett gezeichnet.


TFH WS 2021/22 40
Kristallstrukturen
Kristallstruktur = Bravaisgitter mit strukturierten Elementen an den Gitterplätzen
▶ Bis jetzt: an den Bravaisgitterplätzen befinden sich Objekte ohne
ausgezeichnete Richtungen (Kugeln, Punkte)
▶ Damit lassen sich nicht alle Kristalle beschreiben, evident bei binären
Ionenkristallen (z.B. NaCl, CsCl..)
▶ Mit ausgedehnten Objekten an den Gitterplätzen lässt sich auch z.B. NaCl
beschreiben:

TFH WS 2021/22 41
Kristallstrukturen
Kristallstruktur = Bravaisgitter mit strukturierten Elementen an den Gitterplätzen
▶ Bis jetzt: an den Bravaisgitterplätzen befinden sich Objekte ohne
ausgezeichnete Richtungen (Kugeln, Punkte)
▶ Damit lassen sich nicht alle Kristalle beschreiben, evident bei binären
Ionenkristallen (z.B. NaCl, CsCl..)
▶ Mit ausgedehnten Objekten an den Gitterplätzen lässt sich auch z.B. NaCl
beschreiben:

TFH WS 2021/22 41
Kristallstrukturen
Kristallstruktur = Bravaisgitter mit strukturierten Elementen an den Gitterplätzen
▶ Bis jetzt: an den Bravaisgitterplätzen befinden sich Objekte ohne
ausgezeichnete Richtungen (Kugeln, Punkte)
▶ Damit lassen sich nicht alle Kristalle beschreiben, evident bei binären
Ionenkristallen (z.B. NaCl, CsCl..)
▶ Mit ausgedehnten Objekten an den Gitterplätzen lässt sich auch z.B. NaCl
beschreiben:

“Basis”

TFH WS 2021/22 41
Kristallstrukturen
Kristallstruktur = Gitter mit Basis
▶ Es existieren auch einatomige, kovalent gebundene Kristalle, die nicht
durch ein Bravaisgitter alleine beschrieben werden können:
▶ Graphen (2-dimensionaler Kohlenstoff-Kristall) weist Bienenwabenstruktur
auf:

TFH WS 2021/22 42
Kristallstrukturen
Kristallstruktur = Gitter mit Basis
▶ Es existieren auch einatomige, kovalent gebundene Kristalle, die nicht
durch ein Bravaisgitter alleine beschrieben werden können:
▶ Graphen (2-dimensionaler Kohlenstoff-Kristall) weist Bienenwabenstruktur
auf:

TFH WS 2021/22 42
Kristallstrukturen
Kristallstruktur = Gitter mit Basis
▶ Es existieren auch einatomige, kovalent gebundene Kristalle, die nicht
durch ein Bravaisgitter alleine beschrieben werden können:
▶ Graphen (2-dimensionaler Kohlenstoff-Kristall) weist Bienenwabenstruktur
auf:

keine Gitterein-
heitsvektoren

Einheitsvektoren des Gitters

TFH WS 2021/22 42
Kristallstrukturen
Kristallstruktur = Gitter mit Basis
▶ Es existieren auch einatomige, kovalent gebundene Kristalle, die nicht
durch ein Bravaisgitter alleine beschrieben werden können:
▶ Graphen (2-dimensionaler Kohlenstoff-Kristall) weist Bienenwabenstruktur
auf:

keine Gitterein-
heitsvektoren

Einheitsvektoren des Gitters

▶ Bravaisgitter + Basis

TFH WS 2021/22 42
Kristallstrukturen
Kristallstruktur = Gitter mit Basis
▶ Es existieren auch einatomige, kovalent gebundene Kristalle, die nicht
durch ein Bravaisgitter alleine beschrieben werden können:
▶ Graphen (2-dimensionaler Kohlenstoff-Kristall) weist Bienenwabenstruktur
auf:

keine Gitterein-
heitsvektoren

Einheitsvektoren des Gitters

▶ Bravaisgitter + Basis
▶ Basisatom-Koordinaten bezüglich
der Einheitsvektoren des zugrunde
liegenden BGs

TFH WS 2021/22 42
Kristallstrukturen
Kristallstruktur = Gitter mit Basis
▶ Es existieren auch einatomige, kovalent gebundene Kristalle, die nicht
durch ein Bravaisgitter alleine beschrieben werden können:
▶ Graphen (2-dimensionaler Kohlenstoff-Kristall) weist Bienenwabenstruktur
auf:

keine Gitterein-
heitsvektoren 2
3
2
3
Einheitsvektoren des Gitters

▶ Bravaisgitter + Basis
▶ Basisatom-Koordinaten bezüglich
der Einheitsvektoren des zugrunde
liegenden BGs
▶ Bienewabengitter: Basis :(0,0)
(gelb), ( 32 , 23 ) (orange)
▶ NaCl: Basis :(0,0,0) Cl− , ( 1 , 1 , 1 )
2 2 2
Na+
TFH WS 2021/22 42
Kristallstrukturen

TFH WS 2021/22 43
Kristallstrukturen

TFH WS 2021/22 44
Tabelle 1.2 Kristalle kommen nur in Form von Bravais-Gittern vor, deren Gitterpunkte mit einem oder mehreren
Kristallstrukturen
Atomen besetzt sind. Sind mehrere Atome pro Gitterpunkt vorhanden, so spricht man von einer Basis. Das
Diamantgitter beispielsweise ist ein fcc-Gitter mit zweiatomarer Basis. Die Basiskoordinaten sind (000)a und
Wichtige
(1/4Kristallstrukturen
1/4 1/4)a. Das Diamantgitter besteht also aus zwei ineinander verschachtelten fcc-Gittern, die um 1/4 der
Raumdiagonalen der kubischen Einheitszelle gegeneinander verschoben sind.

Wichtige Kristallstrukturen
Die wichtigsten der 230 Kristallstrukturen:
i) Natriumchlorid-Struktur (Kochsalzstruktur)

Typ: kubisch flächenzentriert (fcc)


Basis: Na: 0 0 0
Cl: 1/2 1/2 1/2
Koordination: 6
Beispiele: NaCl AgBr
MgO PbS
MnO PbTe
KCl

Ionenkristallstruktur mit unterschiedlich großen Ionen

TFH WS 2021/22 45
Tabelle 1.2 Kristalle kommen nur in Form von Bravais-Gittern vor, deren Gitterpunkte mit einem oder mehreren
Kristallstrukturen
Atomen besetzt sind. Sind mehrere Atome pro Gitterpunkt vorhanden, so spricht man von einer Basis. Das
Diamantgitter beispielsweise ist ein fcc-Gitter mit zweiatomarer Basis. Die Basiskoordinaten sind (000)a und
Wichtige
(1/4Kristallstrukturen
1/4 1/4)a. Das Diamantgitter besteht also aus zwei ineinander verschachtelten fcc-Gittern, die um 1/4 der
Raumdiagonalen der kubischen Einheitszelle gegeneinander verschoben sind.

Wichtige Kristallstrukturen
Die wichtigsten der 230 Kristallstrukturen:
i) Natriumchlorid-Struktur (Kochsalzstruktur)
Basis bezüglich der primitiven
Typ: kubisch flächenzentriert (fcc) fcc Einheitsvektoren, nicht
Basis: Na: 0 0 0
Cl: 1/2 1/2 1/2
bezüglich der primitiv
Koordination: 6 kubischen.
Beispiele: NaCl AgBr
MgO PbS
MnO PbTe
KCl

Ionenkristallstruktur mit unterschiedlich großen Ionen


⇒ Zwei um (1/2,1/2,1/2) verschobene fcc
Gitter.

TFH WS 2021/22 45
Kristallstrukturen
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 11
Wichtige Kristallstrukturen
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

ii) Cäsiumchlorid-Struktur

Typ: einfach kubisch (sc)


Basis: Cs: 0 0 0
Cl: 1/2 1/2 1/2
Koordination: 8
Beispiele: CsCl
CsBr
CsI
viele intermetallische Verbindungen

Ionenkristallstruktur und Metallstruktur mit


vergleichbar großen Ionen/Atomen
⇒ Zwei um (1/2,1/2,1/2) verschobene primitiv kubische Gitter.
iii) Dichteste Kugelpackung

regelmäßige Anordnung starrer Kugeln mit dichtestem


Volumenfüllgrad.
Zwei Lösungen mit identischem Füllgrad von 0.74. Jede
Kugel der ersten Ebene ist von 6 Kugeln umgeben, die
sich alle berühren (Atompositionen A). Kugeln der
zweiten Ebene füllen drei der sechs äquivalenten
Zwischenräume der ersten Ebene aus (Pos. B). Die
dritte Ebene kann entweder über den Pos. A angeordnet
sein, oder über den in der zweiten Ebene nicht benützten
Zwischenräumen C. Die Stapelfolge AB,AB,.. ergibt die
hexagonal dichteste Kugelpackung (hcp), die
Stapelfolge ABC, ABC, ... die fcc-Struktur entlang der
<111>-Richtung.
Ionenkristallstruktur mit vergleichbar großen Ionen

iii a) hcp-Struktur (Abb. links)


hexagonales Gitter mit
TFH WS 2021/22 46
dritte Ebene kann entweder über den Pos. A angeordnet
sein, oder über den in der zweiten Ebene nicht benützten
Kristallstrukturen
Zwischenräumen C. Die Stapelfolge AB,AB,.. ergibt die
hexagonal dichteste Kugelpackung (hcp), die
WichtigeStapelfolge
Kristallstrukturen
ABC, ABC, ... die fcc-Struktur entlang der
<111>-Richtung.
Ionenkristallstruktur mit vergleichbar großen Ionen

iii a) hcp-Struktur (Abb. links)


hexagonales Gitter mit
Basis: 000
2/3 1/3 1/2
Stapelfolge entlang der c-Achse:
AB, AB, ...

Miller Indizes für hcp: (hkil); i = -h-k

iii b) fcc-Gitter (Abb. rechts)


Stapelfolge entlang der <111>-Achse
ABC, ABC, ...

TFH WS 2021/22 47
dritte Ebene kann entweder über den Pos. A angeordnet
sein, oder über den in der zweiten Ebene nicht benützten
Kristallstrukturen
Zwischenräumen C. Die Stapelfolge AB,AB,.. ergibt die
hexagonal dichteste Kugelpackung (hcp), die
WichtigeStapelfolge
Kristallstrukturen
ABC, ABC, ... die fcc-Struktur entlang der
<111>-Richtung.
Ionenkristallstruktur mit vergleichbar großen Ionen

iii a) hcp-Struktur (Abb. links)


hexagonales Gitter mit
Basis: 000
2/3 1/3 1/2 bzw. 1 1 1
3 3 2
Stapelfolge entlang der c-Achse:
AB, AB, ...

Miller Indizes für hcp: (hkil); i = -h-k

iii b) fcc-Gitter (Abb. rechts)


Stapelfolge entlang der <111>-Achse
ABC, ABC, ...

TFH WS 2021/22 47
Kristallstrukturen
Wichtige Kristallstrukturen
iv) Diamant-Struktur
fcc-Gitter mit zweiatomarer
iv) Diamant-Struktur
Basis: 000 v) kub. Zinkblende-Struktur
fcc-Gitter mit zweiatomarer 1/4 1/4 1/4 fcc-Gitter mit zweiatomarer
Basis: 000 3
Basis: Zn: 000
covalente
1/4 1/4sp1/4-Bindungen; tetraedrische S: 1/4 1/4 1/4
Koordination mit 4 NN, 12 NNN
Volumenfüllung: 0.34
covalente sp3-Bindungen; tetraedrische covalente sp3-Bindungen + ionischer
Koordination mit 4 NN, 12 NNN
Beispiele: C (diamond) Bindungsanteil; tetraedrische
Volumenfüllung:
sik (Master Elektronik 0.34
& Informationstechnik) Si 12 Koordination mit 4 NN, 12 NNN
Festkörperphysik W2018 Ge Volumenfüllung: 0.34
Beispiele: C (diamond)-Sn
Si Beispiele: ZnS
Ge GaAs
-Sn InP
v) kub. Zinkblende-Struktur InSb
fcc-Gitter mit zweiatomarer
Basis: Zn: 000
S: 1/4 1/4 1/4

covalente sp3-Bindungen + ionischer


v) kub. Zinkblende-Struktur
Bindungsanteil; tetraedrische
fcc-Gitter mit zweiatomarer
Basis: Koordination
Zn: 000 mit 4 NN, 12 NNN
Volumenfüllung: 0.34
S: 1/4 1/4 1/4
Beispiele: ZnS
covalente sp3-Bindungen + ionischer
GaAs
Bindungsanteil; tetraedrischeInP
Koordination mit 4 NN, 12 NNNInSb

TFH
Volumenfüllung: 0.34 WS 2021/22 48
Kristallstrukturen
Wichtige
VOKristallstrukturen
322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 13
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

vi) hex. Zinkblende-Struktur


(Wurtzite)
hcp-Gitter mit zweiatomarer Basis

covalente sp3-Bindungen + ionischer


Bindungsanteil; tetraedrische
Koordination mit 4 NN, 12 NNN

Beispiele: GaN
ZnO
SiC
CdS
CdSe

Richtungen und Ebenen: Miller Indizes

TFH WS 2021/22 x1, y1 und z1 mit den Achsen


Ebenen in Kristallen können eindeutig durch die Schnittpunkte 49
Kristallstrukturen
Richtungen und Ebenen: die Miller Indizes

Richtungen und Ebenen: Miller Indizes

Ebenen in Kristallen können eindeutig durch die Schnittpunkte x1, y1 und z1 mit den Achsen
des Koordinatensystems definiert werden.
2 0 0
Beispiel: (0) , (1) , (0).
0 0 2
Für Kristalle verwendet man das daraus abgeleitete System der Miller-Indizes nach folgender
Vorschrift:
(1) Schnittpunkte mit den Achsen in Einheiten der Gittervektoren ausdrücken (wie im
Beispiel).
(2) Kehrwerte bilden und mit gemeinsamem Nenner multiplizieren, so daß sich ganze Zahlen
ergeben, die im gleichen Verhältnis zueinander stehen wie die drei Kehrwerte. Die drei so
ermittelten Werte definieren die Ebene (h k l) im Kristall.

Im Beispiel der obigen Achsenabschnitte ergibt sich so die (h k l)-Ebene mit den Miller-
Indizes (1 2 1), die durch Multiplikation der Kehrwerte mit dem gemeinsamen Nenner 2
entsteht.
Liegt eine Ebene parallel zu einer der Koordinatenachsen, dann liegt der Schnittpunkt der
Ebene mit dieser Achse im Unendlichen. Der Kehrwert ist dann Null. Multipliziert man die
h,k,l-Indizes mit einer ganzen Zahl, so erhält man eine Ebene, die parallel zur ursprünglichen
Ebene liegt. Negative Achsenschnittpunkte werden durch einen Querstrich über dem
entsprechenden Miller-Index bezeichnet, z.B. ℎ̅.
TFH WS 2021/22 50
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 14
Kristallstrukturen
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Richtungen und Ebenen: die Miller Indizes

Abb. 1.9 Beispiele für Miller-Ebenen


in einem kubischen Kristall
entsprechend den obigen Definitionen
(Quelle: Felix Kling, Wikipedia)
TFH WS 2021/22 51
(Quelle: Felix Kling, Wikipedia)

Kristallstrukturen
Richtungen und Ebenen: die Miller Indizes

Richtungen in Kristallen werden durch die Gruppe kleinster Zahlen ausgedrückt, die
untereinander dasselbe Verhältnis haben wie die Komponenten eines Vektors in gleicher
Richtung. In kubischen Kristallen stehen die (hkl)-Ebenen  auf den [hkl]-Richtungen.
Nomenklatur
(h k l): Ebene {h k l}: Ebenenklasse
[h k l]: Richtung <h k l>: Richtungsklasse
ℎ̅: negative Komponente
n∙(h k l): parallele Ebene zu (h k l)

Eine Klasse umfaßt alle äquivalenten Ebenen oder Vektoren, die mit der jeweiligen
Kristallsymmetrie verträglich sind.
In einem kubischen Kristall gilt z.B.: {1 0 0} ⇔ (100), (010), (001), (1̅00), (01̅0), (001̅)

Praktisches Beispiel:
Für CMOS-Bauelemente geeignete Silicium-Substrate ("Wafer") haben immer eine {100}-
Oberflächenorientierung wegen der geringeren Defektdichte des thermischen Gate-Oxids auf
dieser Oberfläche. Auf der Packung kann äquivalent als Orientierung (100) oder (001)
angegeben sein. Substrate für Bipolarbauelemente sind dagegen häufig {111} orientiert.
Substrate beider Orientierungsklassen werden großtechnisch hergestellt.

TFH WS 2021/22 52
Beugung an Kristallen,
VO 322.130 Reziprokes
Halbleiter- und Gitter
Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 15
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

1.3 Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter


Die Gitterkonstanten in den meisten Kristallen liegen im Bereich einiger Å (Tab. 1.3).

Material Kristalltyp Gitterkonstante Abstand der (001) Achtung: Es sind die


Gitterkonstanten der
(Å) Netzebenen (Å) konventionellen
Si Diamant 5.43 1.36 (kubischen) Einheitszellen
GaAs Zinkblende 5.65 1.41 angegeben
Tab. 1.3
NaCl Kochsalz 5.63 2.81 Gitterkonstanten
CsCl Cäsiumchlorid 4.11 2.06 wichtiger Kristalle

Zur Bestimmung der Gitterkonstanten wird Beugung von elektromagnetischen Wellen oder
von Partikeln mit Wellenlängen im Bereich der Netzebenenabstände benötigt. Dabei
wechselwirken el.-mag. Wellen und Elektronen mit den Atomhüllen, Neutronen mit den
Atomkernen.
Für el.-mag. Wellen erhält man die Wellenlänge als 𝜆𝑥 (Å) = 12.4/𝐸(𝑘𝑒𝑉), während für
Elektronen aus dem Welle/Teilchen-Dualismus folgt: 𝜆𝑒 = 12/√𝐸(𝑒𝑉). Man benötigt also
Röntgenstrahlung im Energiebereich 10 – 50 keV bzw. Elektronen mit Energien > 100 eV.
Für typische Beugungsexperimente in einem Transmissions-Elektronenmikroskop verwendet
man sehr viel kürzere Wellenlängen bei Energien von typisch 200 keV.

TFH
Braggsche Reflexionsbedingung WS 2021/22 53
Für typische Beugungsexperimente in einem Transmissions-Elektronenmikroskop verwendet
Beugung anvielKristallen,
man sehr Reziprokes
kürzere Wellenlängen Gitter
bei Energien von typisch 200 keV.
Braggsche Reflexionsbedingung
Braggsche Reflexionsbedingung
Jede Netzebene reflektiert einen Bruchteil der
einfallenden Welle elastisch. Der Gangunter-
schied zur reflektierten Welle einer benachbarten 
Netzebene beträgt dann 2(d∙sin). Konstruktive d
Interferenz erhält man genau dann, wenn gilt:
d∙sin
2d∙sin = m∙ ; m: ganze Zahl equ. 1.6
Abb. 1.10 Bragg-Beugung an Netzebenen
Dies ist die Bragg-Bedingung, die ursprünglich im Abstand d
für die Interferenz planparalleler Platten abgeleitet
wurde.
Das Konzept der Netzebenen ist allerdings nur für Ebenen mit niedrigen Miller-Indizes
schlüssig. Will man alle möglichen Bedingungen bestimmen, unter denen konstruktive
Interferenz zwischen einer einfallenden und einer ausfallenden Welle auf einen beliebigen
Kristall auftritt, so ist die Laue-Formulierung des Beugungsproblems zweckmäßiger. Dies
führt zum Begriff des reziproken Gitters, das auch eine große Rolle für die elektronischen und
optischen Eigenschaften eines Kristallgitters spielt.
Laue-Formulierung der Reflexionsbedingung
Man betrachtet zunächst die Atome eines Kristalls als punktförmige Streuzentren auf Bravais-
Gitterplätzen, die einfallende Strahlung als Kugelwellen wieder abstrahlen. (Analogie:
Huygensches Prinzip in der Optik). Scharfe Reflexe ergeben sich dann nur in den
Raumrichtungen mit konstruktiver Interferenz.
Betrachte dazu zunächst zwei Streuzentren auf einem Bravais-Gitter, deren Abstand ein
Gittervektor R ist (Abb. 1.11). Die eingestrahlte Welle sei eine ebene Welle mit Wellenvektor
2𝜋∙𝒏
̂
k, die ausfallende Welle eine ebene Welle mit Wellenvektor k'. Es gilt: 𝒌 = 𝜆 und
TFH WS 2021/22 54
man sehr viel kürzere Wellenlängen bei Energien von typisch 200 keV.

Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter


Braggsche
Huygensches Reflexionsbedingung
Prinzip, Interferenz von Kugelwellen
Jede Netzebene reflektiert einen Bruchteil der
einfallenden Welle elastisch. Der Gangunter-
schied zur reflektierten Welle einer benachbarten 
Netzebene beträgt dann 2(d∙sin). Konstruktive d
Interferenz erhält man genau dann, wenn gilt:
d∙sin
2d∙sin = m∙ ; m: ganze Zahl equ. 1.6
Abb. 1.10 Bragg-Beugung an Netzebenen
Dies ist die Bragg-Bedingung, die ursprünglich im Abstand d
für die Interferenz planparalleler Platten abgeleitet
wurde.
Das Konzept der Netzebenen ist allerdings nur für Ebenen mit niedrigen Miller-Indizes
schlüssig. Will man alle möglichen Bedingungen bestimmen, unter denen konstruktive
Interferenz zwischen einer einfallenden und einer ausfallenden Welle auf einen beliebigen
Kristall auftritt, so ist die Laue-Formulierung des Beugungsproblems zweckmäßiger. Dies
führt zum Begriff des reziproken Gitters, das auch eine große Rolle für die elektronischen und
optischen Eigenschaften eines Kristallgitters spielt.
Laue-Formulierung der Reflexionsbedingung
Man betrachtet zunächst die Atome eines Kristalls als punktförmige Streuzentren auf Bravais-
Gitterplätzen, die einfallende Strahlung als Kugelwellen wieder abstrahlen. (Analogie:
Huygensches Prinzip in der Optik). Scharfe Reflexe ergeben sich dann nur in den
Raumrichtungen mit konstruktiver Interferenz.
Betrachte dazu zunächst zwei Streuzentren auf einem Bravais-Gitter, deren Abstand ein
Gittervektor R ist (Abb. 1.11). Die eingestrahlte Welle sei eine ebene Welle mit Wellenvektor
2𝜋∙𝒏
̂
k, die ausfallende Welle eine ebene Welle mit Wellenvektor k'. Es gilt: 𝒌 = und
𝜆
ebene Welle: E = E 0 ei(kr −ωt)
TFH WS 2021/22 55
Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik)
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
16

Laue Bedingung
2𝜋∙𝒏
̂′ 𝒌 ′
𝒌′ = 𝜆 , wobei 𝒏̂ = 𝑘 und 𝒏′ ̂ = 𝒌 Einheitsvektoren in Richtung der ein- bzw.
𝑘′
ausfallenden Welle sind. Für konstruktive Interferenz muß für den Gangunterschied gelten:
̂ − 𝒏̂′ ) = 𝑚 ∙ 𝜆
𝑹 ∙ (𝒏
Daraus
Wir ergibt
haben sich durch
außerdem Erweitern
verwendet: diemit 2/: ist elastisch, daher ändert sich die Frequenz ω und
Streuung
wegen λ = 2πcω auch die Wellenlänge durch
R(k - k') die Streuung nicht ! (c ist die Lichtgeschwindigkeit)
= 2m equ. 1.7
bzw. als äquivalente Bedingung:
eiR(k - k') = 1 equ. 1.8
(equ. 1.8 ergibt sich auch direkt, wenn man die Ortsanteile der ein- und ausfallenden ebenen
Wellen in der üblichen Exponentialdarstellung schreibt.)
Aus equ. 1.7 bzw. 1.8 erhält man die Laue-Bedingung für konstruktive Interferenz zu:
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 16
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und
R∙G = 2∙m,
Festkörperphysik W2018 equ. 1.9
wobei2𝜋∙𝒏
k ̂-′ k' := G einen sogenannten
𝒌 reziproker

𝒌′ = 𝜆 , wobei 𝒏̂ = und 𝒏′̂ = 𝒌 Einheitsvektoren in Richtung der ein- bzw.
Gittervektor definiert. Die
𝑘 Gesamtheit𝑘aller

ausfallenden Welle sind. Für
reziproken Gittervektoren konstruktive
spannt Interferenz muß für den Gangunterschied gelten:
das reziproke
𝑹 ∙ (𝒏
Gitter − 𝒏̂′Konstruktive
̂ auf. ) = 𝑚 ∙ 𝜆 Interferenz wird also
immer dann erreicht, wenn equ. 1.9 erfüllt ist
Daraus
und G einergibt sich durch
reziproker Erweiternist.
Gittervektor mit 2/:
(k - k') = 2m
Das reziproke Gitter ist nach equ. 1.8Rdie Laue Bedingung equ. 1.7
bzw. als äquivalente Bedingung:
Fouriertransformierte des realen Gitters und
wird, in Analogie zum Realraum-Gitterevon iR(k - k')
=1 equ. 1.8
drei Basisvektoren aufgespannt.
(equ. 1.8 ergibt sich auch direkt, wenn man die Ortsanteile der ein- und ausfallenden ebenen
Die Basisvektoren
Wellen A, B,Exponentialdarstellung
in der üblichen C des reziproken schreibt.)
Gitters lassen sich aus den Basisvektoren a, b, c
TFH Aus equ. 1.7 bzw. 1.8 erhält man die Laue-Bedingung WS 2021/22
für konstruktive Interferenz zu: 56
Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter
▶ Den Vektor der (negativen) Richtungsänderung der ebenen Welle k − k ′
kürzen wir ab mit K ≡ k − k ′
▶ Die größte gestreute Intensität erhält man, wenn die an allen Punkten des
Bravaisgitters R n1 n2 n3 ≡ n1 a 1 + n2 a 2 + n3 a 3 gestreuten Kugelwellen
konstruktiv interferiert: (a i sind die Einheitsvektoren des Bravaisgitters
und ni ∈ Z).
▶ Welche K erfüllen die Laue-Bedingung: Für alle ni ∈ Z existieren
mn1 n2 n3 ∈ Z sodass:
R n1 n2 n3 K = 2πmn1 n2 n3 ?
(n1 a 1 + n2 a 2 + n3 a 3 )K = 2πmn1 n2 n3 (∗)

Die Schnittpunkte der Ebenenscharen senkrecht zu


a 1 , zu a 2 und zu a 3 definiert durch:

a i K = 2πmi , mi ∈ Z

ergeben alle diese K .


▶ Alle K bilden ein Gitter, das man das Reziproke Gitter nennt.
▶ Ist das Reziproke Gitter auch ein Bravais Gitter? Dann müssen
Einheitsvektoren g i für das Reziproke Gitter existieren, sodass alle
Schnittpunkte der 3 Ebenenscharen durch G hkl ≡ hg 1 + kg 2 + lg 3 mit
h, k, l ∈ Z erreicht werden können.
TFH WS 2021/22 57
Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter
▶ Wir konstruieren uns Vektoren g i für die g i a j = 2πδij gilt (δij = 1 für
i = j, andernfalls ist δij = 0)
▶ g 1 steht also senkrecht auf die von a 2 und a 3 aufgespannte Ebene, usw.
▶ mit diesen g i wird:

(n1 a 1 + n2 a 2 + n3 a 3 )G hkl = (n1 a 1 + n2 a 2 + n3 a 3 )(hg 1 + kb 2 + lg 3 )


= 2πn1 h + 2πn2 k + 2πn3 l = 2πM mit M ∈ Z
▶ Gleichung (∗) wird also von K = G hkl erfüllt.
▶ Die Richtungsänderungen in einem Röntgenstreuexperiment, um die die
Röntgenstrahlen abgelenkt werden, bilden also ein Bravaisgitter mit
primitiven Einheitsvektoren g i
▶ Im 3-dimensionalen Raum können wir die Lösungen der drei (j = 1, 2, 3)
Geichungen g i a j = 2πδij je Einheitsvektor g i direkt aus den a i
ausgerechnen:
Zusammenhang mit Miller-Indices:
a2 × a3
g 1 = 2π Die Miller-Indizes einer Realraumebene (hkl)
a 1 (a 2 × a 3 )
sind die Koordinaten des kürzesten reziproken
a3 × a1
g 2 = 2π Gittervektors G hkl senkrecht zu dieser Ebene:
a 1 (a 2 × a 3 )
a1 × a2 hg 1 + kg 2 + lg 3 ⊥ (hkl)
g 3 = 2π
a 1 (a 2 × a 3 )
(Beweis: siehe Übungen)
TFH WS 2021/22 58
Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter
Periodische Funktionen und Reziprokes Gitter
▶ Für eine Funktion, die periodisch auf einem Bravaisgitter variiert gilt:

f (r ) = f (r + R n1 n2 n3 )
▶ Betrachtet man die Fouriertransformierte von f , erhält man:
Z
1
F (k) = f (r )e−ir k d3 r =

Z
1
= f (r + R n1 n2 n3 )e−ir k d3 r =

Z
1
= f (r + R n1 n2 n3 )e−i(r +R n1 n2 n3 )k eiR n1 n2 n3 k d3 (r + R n1 n2 n3 ) =

Z
1
= f (r̃ )e−ir̃ k eiR n1 n2 n3 k d3 r̃ =

Z
1
=e iR n1 n2 n3 k
f (r̃ )e−ir̃ k d3 r̃ = eiR n1 n2 n3 k F (k)

⇒ F (k) = 0 für eiR n1 n2 n3 k ̸= 1
Wenn k nicht aus dem Reziproken Gitter des Bravaisgitters ist, auf dem f (r )
periodisch ist, dann muss in der Fouriertransformierten F (k) = FT[f (r )] der
Fourierkoeffizient F (k) verschwinden.
TFH WS 2021/22 59
Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter
Laue Bedingung und Reflexion an Gitterebene

!
Aus der Laue Bedingung R n1 n2 n3 (k − k ′ ) = 2πmn1 n2 n3 folgt ′
√k − k = G hkl .
Umformen und Ausrechnen des Betrags ergibt (mit |a| = a · a):
VO 322.130 Halbleiter- k ′ und
= |k − G hkl | ⇒(Master
Festkörperphysik k ′2 = k 2 + &GInformationstechnik)
Elektronik 2
hkl − 2k · G hkl
17
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

Wegen k’ = k (elastische Streuung) läßt sich die Laue-Bedingung in der


folgenden Form schreiben
Die Laue-Bedingung equ. 1.9 läßt sich auch in der Form schreiben:
k∙G = G2/2 equ. 1.16
Dazu wurde von der Bedingung elastischer Streuung
Gebrauch gemacht, d.h., k = k'. Es läßt sich zeigen,
daß Equ. 1.16 äquivalent zur Bragg-Bedingung equ. k∙cos = G/2 G
1.6 ist.
Equ. 1.16 hat eine einfache Interpretation: Alle k- 
k1 k ′1
Vektoren, die amStartpunkt
Endpunkt eines reziproken
Gittervektors beginnen und auf einer mittelsenkrechten k2 k ′2
Ebene zu diesem reziproken Gittervektor enden,
erfüllen die Bragg-Bedingung (Abb. 1.12). Auf dieser Abb. 1.12 Darstellung der Laue/
Bragg-Bedingung zur Konstruktion
Eigenschaft des reziproken Gitters beruht die
der Brillouin-Zone. Alle Vektoren ki,
Konstruktion der Brillouin-Zone. die auf der (gestrichelten) mittelsenk-
rechten Ebene enden (im Beispiel k1,
k2), erfüllen die Bragg-Bedingung.

Ewald-Konstruktion

TFH Zur Bestimmung aller möglicher WS 2021/22 60


Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter
Laue Bedingung und Beugungsrichtungen im realen Raum: Die Ewald-Konstruktion

N.W. Ashcroft, N.D. Mermin, Solid State Physics, Saunders College 1976, ISBN 0-03-083993-9

TFH WS 2021/22 61
Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter
Ewald-Konstruktion und Laue Methode

N.W. Ashcroft, N.D. Mermin, Solid State Physics, Saunders College 1976, ISBN 0-03-083993-9

TFH WS 2021/22 62
Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter
Ewald-Konstruktion und Laue Methode

N.W. Ashcroft, N.D. Mermin, Solid State Physics, Saunders College 1976, ISBN 0-03-083993-9

TFH WS 2021/22 63
Beugung an Kristallen, Reziprokes Gitter
Ewald-Konstruktion und Laue Methode

k′
G 140

N.W. Ashcroft, N.D. Mermin, Solid State Physics, Saunders College 1976, ISBN 0-03-083993-9

TFH WS 2021/22 63
1.3.1 Brillouin Zone
Beugung an Kristallen, Brillouin Zone
Statt der üblichen Einheitszelle in einem Bravaisgitter, bei dem die Gitterpunkte auf den
Eckpunkten der Einheitszelle liegen, kann man auch eine sogenannte Wiegner-Seitz-Zelle
konstruieren, bei der ein Gitterpunkt in der Zelle zentriert ist. Die Wiegner-Seitz-Zelle des
reziproken Gitters heißt erste Brillouin-Zone (1. BZ). Sie wird konstruiert, indem man um den
Ursprung des reziproken Gitters die mittelsenkrechten Ebenen aller reziproken Gittervektoren
errichtet. Die 1. BZ ist dann die kleinste Zelle, die vollständig von diesen mittelsenkrechten
Ebenen begrenzt ist. Auf der Berandung der 1. BZ ist daher überall die Bragg-Bedingung
erfüllt. Diese Eigenschaft ist insbesondere für die elektronische Bandstruktur wichtig.

c)
1.BZ

Abb. 1.14 Konstruktion der 1. Brillouin-Zone für ein quadratisches (a) ein hexagonales (b) und ein
TFH schiefwinkliges Gitter in zwei Dimensionen. WS 2021/22 64
1.BZ
Beugung an Kristallen, Brillouin Zone

Für ein bekanntes Realraumgitter mit Einheitsvektoren a i lassen sich die


Einheitsvektoren aus der
Abb. 1.14 Konstruktion g 11. = 2π a 1a[a2 ×a
Brillouin-Zone
3
und aus den
für ein quadratisches
2 ×a 3 ]
(a) ein analoge Ausdrücken
hexagonales (b) und ein mit
schiefwinkliges Gitter in zwei Dimensionen.
zyklisch vertauschte Indizes für g 2/3 bestimmen. Für die wesentlichen
kubischen Gitter findet man dann die in Tab. 1.4 aufgelisteten
Aus der Definition der des reziproken Gitters Realraum reziproker Raum
Transformationseigenschaften.
(equ. 1.10) lassen sich für ein bekanntes sc sc
Realraumgitter einfach die Basisvektoren A, B, C bcc
Realraum reziproker
bestimmen. Für die wesentlichen kubischen Gitter
Raum fcc
fcc bcc
sc
findet man dann die in Tab. 1.4 aufgelisteten sc
Transformationseigenschaften. bcc Tab. 1.4 Transformation kubischer Gitter
fcc vom Realraum in den reziproken Raum
fcc bcc

Die entsprechenden dreidimensionalen Brillouin-Zonen von fcc- und bcc-Gitter sowie des
hexagonalen Gitters sind in den nachfolgenden Abbildungen mit den jeweiligen
Hauptsymmetriepunkten und-richtungen dargestellt. Insbesondere die 1. BZ des fcc-Gitters
(Abb. 1.15) spielt eine wichtige Rolle, da die meisten Halbleiter ein fcc-Gitter (mit
zweiatomarer Basis) besitzen und daher die Bandstrukturen in dieser Brillouin-Zone
dargestellt werden.

TFH WS 2021/22 65
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 19
Beugung an Kristallen
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Erste Brillouin Zonen wichtiger Kristallstrukturen

Abb. 1.15 Die für Halbleiter wichtige erste


Brillouin-Zone des fcc-Gitters ist ein
Oktaeder mit abgeschnittenen Ecken.
Dadurch ergibt sich eine Oberfläche aus
Sechsecken und Quadraten. Die
Hauptsymmetrierichtungen werden mit
 = <100>,  = <110> und  = <111>
bezeichnet.  entsprich dem Zonenzentrum
(000), der -Punkt der Zonengrenze in den
<100>-Richtungen, der -Punkt der
Zonengrenze in den <110>-Richtungen und
der L-Punkt der Zonengrenze in den <111>-
Richtungen.

TFH WS 2021/22 66
Beugung an Kristallen
Erste Brillouin Zonen wichtiger Kristallstrukturen

Abb. 1.16 Analog: Brillouin-Zonen für das bcc (rhombischer Dodekaeder, links) und das hexagonale Gitter
(ebenfalls hexagonales Gitter, rechts). Die entsprechenden Hauptsymmetriepunkte sind mit ihren
gebräuchlichen Bezeichnungen markiert.

TFH WS 2021/22 67
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

Beugung an Kristallen
1.3.2 Auswahlregeln und Kristallographie
Auswahlregeln und Kristallographie
Die Gesamtheit der reziproken Gittervektoren für ein Bravais-Gitter definiert die erlaubten
Beugungsreflexe für dieses Gitter. Eine Basis aus mehreren Atomen in der Einheitszelle führt
zu einer Intensitätsmodulation der erlaubten Reflexe. Bei gleichen Atomen kann es
insbesondere zur vollständigen Auslöschung von Reflexen kommen, die im
zugrundeliegenden Bravaisgitter eigentlich erlaubt wären. Man spricht dann von verbotenen
Reflexen. Die Auslöschung wird durch den sogenannten Strukturfaktor beschrieben (Tab.
1.5). Befinden sich bei sonst gleicher Symmetrie (z.B. Zinkblende im Vergleich zu Diamant)
unterschiedliche Atome in der Einheitszelle, dann kommt es nicht mehr zur vollständigen
Auslöschung der verbotenen Reflexe. Die Streuamplitude wird dann durch die atomaren
Streufaktoren beschrieben, die von der jeweiligen Elektronenzahl und –verteilung der
Atome in der Einheitszelle abhängen.
Bravais-Gitter Abkürzung erlaubte Reflexe verbotene Reflexe
Simple cubic sc alle h, k, l keine
Body-centered cubic bcc h + k + l gerade h + k + l ungerade
h, k, l alle ungerade oder h, k, l gemischt
Face-centered cubic fcc
alle gerade gerade/ungerade
fcc; Basis (000), alle ungerade, oder gerade gemischt, oder gerade &
Diamant
(1/4 1/4 1/4) & h+k+l = 4n h+k+l ≠ 4n
Hexagonal dichteste h + 2k = 3n
hcp l gerade, h + 2k ≠ 3n
Kugelpackung für ungerade l

Tabelle 1.5 Auswahlregeln aufgrund des Strukturfaktors für kubische Kristalle. Die (h k l) beschreiben die
Millerindizes der jeweiligen Kristallebene. "Verbotene Reflexe" führen nur bei gleicher Atomsorte (gleichem
atomaren Streufaktor) zur vollständigen Auslöschung, andernfalls nur zur starken Abschwächung.

TFH WS 2021/22 68
Bsp Strukturfaktor fcc als primitiv kubisch mit Basis

An Tafel vorgerechnet, Strukturfaktor analog zu Streuung an zwei Streuern


eingeführt

TFH WS 2021/22 69
Tabelle 1.5 Auswahlregeln aufgrund des Strukturfaktors für kubische Kristalle. Die (h k l) beschreiben die
Beugung an Kristallen
Millerindizes der jeweiligen Kristallebene. "Verbotene Reflexe" führen nur bei gleicher Atomsorte (gleichem
Auswahlregeln
atomarenund Kristallographie
Streufaktor) zur vollständigen Auslöschung, andernfalls nur zur starken Abschwächung.

Abb. 1.17
Abbildung des Realraumgitters und des reziproken Gitters mit dem Transmissionselektronenmikroskop.
Durch ein (magnetisches) Linsensystem lassen sich im TEM beide Gitter direkt abbilden. Das reziproke
Gitter läßt sich aber auch durch eine Fouriertransformation aus dem realen Gitter erzeugen.
A: Realraum-TEM-Bild des Kristallgitters eines Si-Kristalls. Der einfallende Elektronenstrahl senkrecht
zur Bildebene bewegt sich entlang der [110]-Richtung. Wegen der Auswahlregeln für Diamant werden nur
die {111}-Netzebenen abgebildet.
B: Beugungsbild einer Si/Ge-Heterostruktur im TEM mit Bezeichnung der Beugungsreflexe (Miller-
Indizes der entsprechenden Netzebenen). Wegen der um 4.2% unterschiedlichen Gitterkonstanten von Si
und Ge kommt es zu einer Aufspaltung der jeweiligen Reflexe. Die größere Gitterkonstante von Ge führt zu
kleineren Beugungswinkeln bei den Ge-Reflexen. Quelle: W. Schwinger, Magisterarbeit JKU (2003)

TFH WS 2021/22 70
Beugung an Kristallen
Auswahlregeln und Kristallographie

▶ Der Abstand zwischen benachbarten Netzebenen ⊥ G hkl ist


2π 2π
dhkl = √ = |G hkl |
G hkl G hkl


▶ Achtung: nur im kubischen Bravaisgitter gilt: |G hkl | =
a
h2 + k 2 + l 2
▶ für nicht-kubische Gitter: qP
3
p
|G h1 h2 h3Halbleiter-
VO 322.130
| = Gund h3 G h1 h2 h3 | = (Master
h1 h2Festkörperphysik hi hj g &i gInformationstechnik)
Elektronik
i,j=1 j , weil g i undg j nicht 21
F. Schäffler, JKU, Institut für senkrecht
notwendigerweise Halbleiter- und Festkörperphysik
kann man nicht g i W2018
g j = 0 verwenden !!!
Nützliche Beziehungen:

Aus der Bedingung für Bragg-Reflexe kann man in kubischen Systemen den
Netzebenenabstand d aus der Gitterkonstante a und den Miller-Indizes der Ebene wie folgt
bestimmen:
2𝜋 𝑎
𝑑 = |𝑮⃗⃗ = √ℎ2 equ. 1.17
ℎ𝑘𝑙 | +𝑘 2 +𝑙2

D.h., Ghkl steht senkrecht auf der (hkl)-Ebene und der Netzebenenabstand beträgt 2/Ghkl.

In Kombination mit der Bragg-Bedingung ergibt sich dann:


𝜆 2 𝑠𝑖𝑛2 𝜃
( ) = equ. 1.18
2𝑎 ℎ2 +𝑘 2 +𝑙2

2. Bändermodell
TFH WS 2021/22 71
⃗⃗ ℎ𝑘𝑙 |
|𝑮 √ℎ2 +𝑘 2 +𝑙2

D.h., Ghkl steht senkrecht auf der (hkl)-Ebene und der Netzebenenabstand beträgt 2/Ghkl.
Bändermodell
In Kombination mit der Bragg-Bedingung ergibt sich dann:
𝜆 2 𝑠𝑖𝑛2 𝜃
( ) = equ. 1.18
2𝑎 ℎ2 +𝑘 2 +𝑙2

2. Bändermodell

2.1 Tight-Binding Modell

Die elektronischen Eigenschaften eines Festkörpers hängen von den Energieniveaus der
beteiligten Atome und der Wechselwirkung zwischen den Elektronenzuständen ab. Dabei
spielen für den Elektronentransport und die optischen Eigenschaften i. R. nur die obersten
Elektronenzustände (Valenzelektronen) eine Rolle. Die Valenzelektronen sind i. w. auch für
die Bindung der Atome im Kristall verantwortlich. Tiefer liegende Elektronen sind meist so
stark an den jeweiligen Atomkern gebunden (tight-binding), daß sie weder bei der Bindung
noch bei den Transporteigenschaften eine Rolle spielen.

Leitungsband

Energie
p
Bandlücke s
TFH WS 2021/22 72
die Bindung der Atome im Kristall verantwortlich. Tiefer liegende Elektronen sind meist so
stark an den jeweiligen Atomkern gebunden (tight-binding), daß sie weder bei der Bindung
Bändermodell
noch bei den Transporteigenschaften eine Rolle spielen.
Tight-Binding Modell

12 fache Koordination

Leitungsband
8 fache Koordination

Energie
p
Bandlücke s

Valenzband
4 fache Koordination

0 a
Gitterabstand
0
Abb. 2.1 Schematische Darstellung der Bandentstehung: Haben Atome hinreichend großen Abstand, so
sind ihre Energienieveaus diskret; im Beispiel: s- und p- Elektronen wie bei den Valenzelektronen der Gruppe-
IV-Elemente. Verringert man den Abstand immer mehr, so kommt es zur Aufspaltung in bindende und
antibindende Orbitale (Linearkombinationen der Wellenfunktionen, vgl. Abb. 1.1). Bei typisch 1023 Atomen
pro cm3 gibt es eine sehr große Zahl von Linearkombinationen und damit ein quasi-kontinuierliches Spektrum
von Energieniveaus. Die diskreten Energieniveaus verbreitern sich zu Bändern. Überlappen bei weiterer
Verkleinerung des Atomabstands die Bänder der s- und p-Orbitale, so sind weiter Linearkombinationen der
Wellenfunktionen möglich. Dadurch können Energielücken (verbotene Energiebereiche) entstehen. Sind im
letzten mit Elektronen gefüllte Band alle Zustände gefüllt, und ist dieses Band vom nächsten durch eine Lücke
getrennt, so entsteht ein Isolator oder Halbleiter. Ist das letzte Band teilweise gefüllt, so entsteht ein Metall.
TFH WS 2021/22 73
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 22
Bändermodell
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

2.2 Bandlücke im fast-freien Elektronenmodell

In Metallen und in Halbleitern verhalten sich die obersten besetzten Valenzelektronen fast wie
freie Elektronen. Im periodischen Potential der Atomrümpfe kann man sich das so vorstellen,
daß die obersten Elektronenzustände oberhalb der überlappenden Coulombpotentiale der
Atome liegen. Die zugehörigen Wellenfunktionen sind dann innerhalb des Kristalls delokalisiert

V(r)

e∙

Z+ Z+ Z+ Z+
a r

Abb. 2.2 Schematische Darstellung eines Metalls mit fast freien Elektronen. In den überlappenden
Coulomb-Potentialen eines Festkörpers (hier aus nur 4 Atomen mit Kernladung Z+) gibt es gebundenen
(dünne blaue Linien) und fast freien Elektronen (dicke blaue Linie). Die beiden Coulomb-Potentiale ganz
rechts bzw. links haben nur auf einer Seite nächste Nachbarn. Sie definieren Oberflächenbarrieren, die
bewirken, daß die Elektronen den Kristall nur verlassen können, wenn sie die Austrittsarbeit e∙ aufbringen.

TFH delokalisiert. Die Coulombpotentiale an denWS 2021/22


Kristalloberflächen verhindern, daß diese 74
(dünne blaue Linien) und fast freien Elektronen (dicke blaue Linie). Die beiden Coulomb-Potentiale ganz
rechts bzw. links haben nur auf einer Seite nächste Nachbarn. Sie definieren Oberflächenbarrieren, die
Bändermodell
bewirken, daß die Elektronen den Kristall nur verlassen können, wenn sie die Austrittsarbeit e∙ aufbringen.
Bandlücke im fast-freien Elektronenmodell
delokalisiert. Die Coulombpotentiale an den Kristalloberflächen verhindern, daß diese
Leitungselektronen den Kristall verlassen können: dazu müssen sie die Austrittsarbeit e∙
(typisch 3-5 eV) überwinden (siehe Abb. 2.2).
Für freie Elektronen gilt die klassische Dispersionsrelation zwischen der kinetischen Energie
E und dem Impuls p=mv:
1 𝑝2 ℏ2 𝑘 2
𝐸(𝑘) = 2 𝑚𝑣 2 = 2𝑚 = equ. 2.1
2𝑚

⃗;
Dabei wurde im letzten Schritt vom Welle-Teilchen-Dualismus Gebrauch gemacht: 𝑝 = ℏ𝑘
2𝜋
𝑘 = 𝜆 ist dabei der Betrag des Wellenvektors. Man sieht aus equ. 2.1, daß die Dispersions-
relation eines freien Elektrons im Reziproken (oder k-) Raum eine Parabel ist.
Im klassischen Fall eines freien Elektrons im Vakuum ist der Impuls 𝑝 = ℏ𝑘 ⃗ eine
Erhaltungsgröße. Im periodischen Festkörper gilt das nur noch bis auf Vielfache (modulo)
eines reziproken Gitterimpulses ℏ𝐺 . Man erhält also die gleiche Energie wie in equ. 2.1, wenn
man einen beliebigen Gitterimpuls ℏ𝐺 zu ℏ𝑘 ⃗ addiert. Der Elektronenimpuls im Festkörper
wird daher oft als Quasi-Impuls bezeichnet. Es gilt also
2 𝟐 2 (𝑘+𝐺)2
𝐸(𝑘 ⃗ + 𝐺) = ℏ 𝑘 = ℏ
⃗ ) = 𝐸(𝑘 equ. 2.2
2𝑚 2𝑚

Das quasi-frei Elektron kann also mit dem Gitter Impuls in Einheiten von ℏ𝐺 austauschen.
Wie wir gesehen haben, findet dieser Impulsaustausch auch bei der Röntgen- bzw.
Elektronenbeugung statt, und zwar immer dann, wenn die Bragg-Bedingung erfüllt ist.

TFH WS 2021/22 75
Bandstruktur
Betrachtung im Fourier-Raum

▶ Wegen der Translationsinvarianz von V (r ) unter Verschiebungen um R nml


tragen nur Wellenvektoren des reziproken Gitters zu Fourier-Zerlegung von
V (r ) bei: V (r ) = l VG l eiG l r wobei G l = l1 g 1 + l2 g 2 + l3 g 3 und
P
a i g j = 2πδij
Ck eikr
P
▶ Fourier-Ansatz für ψ =
k
p2
 
▶ Einsetzen in Hψ = + V (r ) ψ = E ψ, p = ℏi ∇:
2m

X ℏ2 k 2 X ′
+G l )r
X
Ck eikr + Ck ′ VG l ei(k =E Ck eikr
2m
k k ′ ,G l k

▶ Umbenennen der Summations-Indices k ′′ ′


= k + G l , umordnen:
" #
ℏ2 k 2
X  X
ikr
e −E Ck + Ck−G l VG l =0
2m
k Gl


▶ gilt für alle r , d.h [·] = 0 für alle k (bzw.: Multiplizieren mit e−ik r
und
Integration über Grundgebiet führt auf δk,k ′ )

TFH WS 2021/22 76
Bandstruktur
Betrachtungh
im Fourier-Raum
 i
ℏ2 k 2
P
(**) 2m
− E Ck + Gl
Ck−G l VG l = 0 ist ein ∞-dimensionales
Gleichungssystem: Wir suchen ∞ viele Koeffizienten Ck , die durch ∞
Gleichungen (für jedes k eine) bestimmt werden.
▶ In einer Gleichung für ein spezielles k kommen allerdings nicht alle
gesuchten Koeffizienten Ck vor, sondern nur jene, für die sich die Indices
um Vektoren G l des reziproken Raums unterscheiden.
▶ Es sind also nicht alle Gleichungen gekoppelt, sondern nur jene, bei denen
sich die k-s um einen Vektor des reziproken Gitters unterscheiden.
▶ für ein k i bilden also die Gleichungen für k = k i − G 0 , k = k i − G 1 , · · ·
schon ein geschlossenes Gleichungssystem:
.. .. ..
.  . .
ℏ2 ki2
h i
P
2m
− E Ck i + Gl
Ck i −G l VG l = 0
(††)
ℏ2 (ki −G 0 )2
h  P i
2m
− E Ck i −G 0 + Gl
Ck i −G 0 −G l VG l = 0
.. .. ..
. . .
das die Bestimmung der Koeffizienten Ck i , Ck i −G l , · · · erlaubt.
(**) zerfällt also in ∞ viele, untereinander ungekoppelte Systeme
(k )
charakterisiert durch ki mit Lösungen CG l i
TFH WS 2021/22 77
Bandstruktur
Das Bloch Theorem im Fourier-Raum
(k )
Ck eikr :
P
Einsetzen der CG l i in die Entwicklung ψ = k
(k ) (k )
X
CG l i ei(k i −G l )r = eik i r CG l i e−iG l r ≡ eik i r uk i (r ) ⇒ Bloch Theorem
P
ψ= Gl
Gl
| {z }
gitterperiodisch
Darstellung von (††) als Matrix Eigenwertgleichung (mit G 0 + G l → G ′l ):
X  ℏ2  
(k )
∀G 0 : (k i − G 0 )2 − E δG 0 G ′ + VG 0 −G ′ CG ′i = 0
2m l l l
G′
l

Beispiel: eindimensionales Potential V (x ) mit Periode a: G l = e
a x
·l
.. .. .. .. ..
 
. .
 
 2 . . .  .. .
 ℏ (k − 4π )2 − E V−1 V−2 V−3 V−4 · · ·  
 2m a   c−2 
ℏ2
 · · · V1 2m
(k − 2π
a
)2 − E V−1 V−2 V−3 · · ·  c 
  −1 
ℏ2 2

 · · · V2 V1 k − E V −1 V −2 · · ·   c0  = 0
2m
ℏ2
  
2π 2   c1 
 · · · V3 V2 V1 2m
(k + a
) − E V −1 · · ·  c 
ℏ2  2 

4π 2
 · · · V4 V3 V2 V1 2m
(k + a
) − E  .
.. .. .. .. ..

..
. . . . .
⇒ En (k), ψnk periodisch im Rez. Raum (k → k + n 2π
a
: nur die Diagonale verschiebt sich:
(k+n 2π ) (k)
E (k + n 2π
n
TFH a
) = En (k), ci+n a
= ci ) WS 2021/22 78
Bandstruktur
Nahezu leeres Gitter, Ausbildung der Bandlücke, eindimensional

V (x ) = 0, aber periodisch
ℏ2 (k−n 2π )2
▶ En (k) = a
2m

TFH WS 2021/22 79
Bandstruktur
Nahezu leeres Gitter, Ausbildung der Bandlücke, eindimensional

V (x ) = 0, aber periodisch
ℏ2 (k−n 2π )2
▶ En (k) = a
2m

−π/a π/a

TFH WS 2021/22 79
Bandstruktur
Nahezu leeres Gitter, Ausbildung der Bandlücke, eindimensional

V (x ) = 0, aber periodisch
ℏ2 (k−n 2π )2
▶ En (k) = a
2m


Nur V−1 = V1 ≳ 0


▶ z.B V (x ) = 2V1 cos x mit
a
ℏ2 π 2

V1 ≪ 2m a
▶ Am Rand der ersten Brillouinzone
(k = π/a − δk): ∼ entartete EW

−π/a π/a

TFH WS 2021/22 79
Bandstruktur
Nahezu leeres Gitter, Ausbildung der Bandlücke, eindimensional

V (x ) = 0, aber periodisch
ℏ2 (k−n 2π )2
▶ En (k) = a
2m


Nur V−1 = V1 ≳ 0


▶ z.B V (x ) = 2V1 cos x mit
a
ℏ2 π 2

V1 ≪ 2m a
▶ Am Rand der ersten Brillouinzone
(k = π/a − δk): ∼ entartete EW

−π/a π/a

. . . .
 
.. .

. . . . . .
 ℏ2 3π . . . . .
 
 2m ( a + δk)2 − E V1∗ 0 0 0···  c−2 
ℏ2 π
+ δk)2 − E
  
 · · · V1 2m ( a V1∗ 0 0···  c−1 
ℏ2 π
− δk)2 − E
 c  = 0
···0 2m ( a V1∗ 0···

 V1  0 
ℏ2 3π 2 ∗
···0 0 2m ( a
 V1 − δk) − E V1 · · ·
  c1 
  
ℏ2 5π 2  c2 
 ···0 0 0 V1 2m ( a − δk) − E  
.

. . . . .. .
TFH . . . WS 2021/22 . 79
Bandstruktur
Nahezu leeres Gitter, Ausbildung der Bandlücke, eindimensional

V (x ) = 0, aber periodisch
ℏ2 (k−n 2π )2
▶ En (k) = a
2m


Nur V−1 = V1 ≳ 0


▶ z.B V (x ) = 2V1 cos x mit
a
ℏ2 π 2

V1 ≪ 2m a
▶ Am Rand der ersten Brillouinzone
(k = π/a − δk): ∼ entartete EW

−π/a π/a

ℏ2 π
  
2m ( a + δk)2 − E V1∗ c−1
=0
ℏ2 π
V1 2m ( a − δk)2 − E c0

TFH WS 2021/22 79
Bandstruktur
Nahezu leeres Gitter, Ausbildung der Bandlücke, eindimensional

V (x ) = 0, aber periodisch
ℏ2 (k−n 2π )2
▶ En (k) = a
2m


Nur V−1 = V1 ≳ 0


▶ z.B V (x ) = 2V1 cos x mit
a
ℏ2 π 2

V1 ≪ 2m a
▶ Am Rand der ersten Brillouinzone
(k = π/a − δk): ∼ entartete EW
Bandlücke 2|V1 |
−π/a π/a

ℏ2 π
  
2
2m ( a + δk) − E V1∗ c−1
=0
ℏ2 π
V1 2m ( a − δk)2 − E c0
h q i
ℏ2 π 2 δk 2 δk 2 2 2
E0,−1 = 2m a2
1 + ( π/a ) ± (2 π/a ) + |V1 |2 /( 2m
ℏ π 2
a2
)
 
1 e−iϕ/2
δk = 0 : c ± = √ wobei V1 = |V1 |eiϕ
2 ±eiϕ/2
TFH WS 2021/22 79
Bandstruktur
Nahezu leeres Gitter, Ausbildung der Bandlücke, eindimensional

12

10 2V6π/a

E [ 2 π 2 /(2ma 2 )]
6
2V4π/a
4

2 2V2π/a

01.0 0.5 0.0 0.5 1.0


k [π/a]
TFH WS 2021/22 80
Offenbar ist es egal, ob und
Elektronen von außen auf den Kristall&auftreffen oder sich im Kristall
Bändermodell
VO 322.130
als
Halbleiter-
quasi-frei-bewegliche
F. Schäffler,
Festkörperphysik
JKU, Institut fürWellen aufhalten.
Halbleiter-
(Master Elektronik
und Festkörperphysik
Informationstechnik)
W2018
23

Bandlücke im fast-freien Elektronenmodell


Trägt man die Dispersionsrelation von freien Elektronen im Kristall gemäß equ. 2.2 auf, so
Offenbar ist es egal, ob Elektronen von außen auf den Kristall auftreffen oder sich im Kristall
erhält man in einer Dimension eine Folge von Parabeln im Abstand G = 2/a (siehe Abb. 2.3
als quasi-frei-bewegliche Wellen aufhalten.
links). Man spricht vom erweiterten Zonenschema. Da man aber zu jedem k beliebige
Trägt manGittervektoren
reziproke die Dispersionsrelation
G addierenvon freien
oder Elektronen
subtrahieren im Kristall
kann, läßt sichgemäß equ. 2.2 auf, so
die Dispersionsrelation
erhält man in
vollständig in einer Dimension
der ersten eine Folge
BZ darstellen. Diesvon
ist Parabeln
rechts in im Abstand
Abb. 2.3 im G = 2/a (siehe Abb.Fall
dreidimensionalen 2.3
links). Man Die
dargestellt. spricht vom erweiterten
entsprechenden ZweigeZonenschema.
der Dispersion Dasind
mandabei
aberdurch
zu jedem k beliebige
Addition bzw.
reziproke Gittervektoren
Subtraktion G addieren
von allen möglichen oderden
Gs aus subtrahieren kann,BZs
angrenzenden läßtinsich
die die Dispersionsrelation
1. BZ verschoben
vollständig
worden. Man in spricht
der ersten
bei BZ darstellen.
dieser Diesvom
Darstellung ist rechts in Abb. Zonenschema.
reduzierten 2.3 im dreidimensionalen
Beide Fall
dargestellt. Diesind
Darstellungen entsprechenden Zweige der Dispersion sind dabei durch Addition bzw.
vollständig äquivalent.
Subtraktion von allen möglichen Gs aus den angrenzenden BZs in die 1. BZ verschoben
worden. Man spricht bei dieser Darstellung vom reduzierten Zonenschema. Beide
Darstellungen sind vollständig äquivalent.

Abb. 2.3 links: Erweitertes Zonenschema der freien-Elektronen im eindimensionalen periodischen Potential
der Stärke null ("leeres" Gitter). Die Dispersionsrelation besteht aus Parabeln, die im Abstand G=2/a auf
der k-Achse wiederholt werden. rechts: Reduziertes Zonenschema eines dreidimensionalen sc-Kristalls
entlang der kx-Richtung. Die verschieden dargestellten Äste rühren von Parabeln her, deren Ursprung im
Abb. 2.3 links: Erweitertes Zonenschema der freien-Elektronen im eindimensionalen periodischen Potential
reziproken Raum durch folgende Miller-Indizes h k l angegeben ist. (—–) 000, (----) 100 ,1̅00, (-·- ) 010,
der Stärke null ("leeres" Gitter). Die Dispersionsrelation besteht aus Parabeln, die im Abstand G=2/a auf
01̅0, 001, 001̅, (···) 110, 101, 11̅0, 101̅, 1̅10, 1̅01, 1̅1̅0, 1̅01
der k-Achse wiederholt werden. rechts: Reduziertes Zonenschema eines dreidimensionalen sc-Kristalls
entlang der kx-Richtung. Die verschieden dargestellten Äste rühren von Parabeln her, deren Ursprung im
TFH WS 2021/22 ̅ 81
der k-Achse wiederholt werden. rechts: Reduziertes Zonenschema eines dreidimensionalen sc-Kristalls
entlang der kx-Richtung. Die verschieden dargestellten Äste rühren von Parabeln her, deren Ursprung im
Bändermodell
reziproken Raum durch folgende Miller-Indizes h k l angegeben ist. (—–) 000, (----) 100 ,1̅00, (-·- ) 010,
Bandlücke01̅im 001̅, (···)Elektronenmodell
fast-freien
0, 001, 110, 101, 11̅0, 101̅, 1̅10, 1̅01, 1̅1̅0, 1̅01

Bisher haben wir die potentielle Energie durch das Coulombpotential der Atomrümpfe
vernachlässigt. Wir haben also, strenggenommen, ein periodisches Potential der Stärke null
betrachtet ("leeres" Gitter), wobei allein die Gitterperiodizität bereits zum Quasi-Impuls
geführt hat. Als nächstes schalten wir ein endliches Coulomb-Potential der Atomkerne zu, das
aber relativ schwach ist, weil es durch die inneren Elektronenschalen teilweise abgeschirmt
ist. Der Einfluß der Atomkerne ist unter diesen Bedingungen nur wichtig, wenn sich die
Elektronen in Kernnähe aufhalten. Das ist insbesondere dann der Fall, wenn der k-Wert die
Bragg-Bedingung erfüllt. k = n/a. Dann und nur dann kann man die Elektronen als
stehende Wellen beschreiben, mit einer Wellenlänge, die ein ganzzahliges Vielfaches des
Gitterabstandes ist. Bei Erfüllen der Bragg-Bedingung gibt es immer genau zwei energetische
Lösungen: Eine gegenüber der freien Elektronendispersion energetisch abgesenkte Lösung,
bei der die Elektronen sich hauptsächlich am Kernort aufhalten, und eine energetisch
angehobene
VO 322.130 Lösung, beiund
Halbleiter- derFestkörperphysik
sich die Elektronen zwischen
(Master den& Kernen
Elektronik aufhalten. Das
Informationstechnik) 24
entspricht
F. Schäffler,wieder Bonding-
JKU, Institut und Antibonding-Lösungen,
für Halbleiter- und Festkörperphysik wieW2018
wir sie von den Molekülen her
kennen. Zwischen den Punkten, an denen die Bragg-Bedingung erfüllt ist (Ränder der
Brillouin-Zonen [BZ]), geht die Dispersion kontinuierlich in die der freien Elektronen über.
Die energetische Aufspaltung der Dispersion auf der BZ-Grenze führt zur Bandlücke.
(Abb. 2.4)

TFH WS 2021/22 82
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

Bändermodell
Brillouin-Zonen [BZ]), geht die Dispersion kontinuierlich in die der freien Elektronen über.
Bandlücke
Dieim fast-freien Elektronenmodell
energetische Aufspaltung der Dispersion auf der BZ-Grenze führt zur Bandlücke.
(Abb. 2.4)

Abb. 2.4 links: periodisches Kernpotential (a) und die Aufenthaltswahrscheinlichkeit der Elektronen für die
beiden Lösungen der Schrödingergleichung bei k = G/2. Lösung (b) ist die Bonding-, Lösung (c) die
Antibonding-Lösung. rechts: Aufspaltung der freien Elektronendispersion (gestrichelt) an und in der
Umgebung der BZ-Grenze. Nur dort wechselwirken die quasi-freien Elektronen nennenswert mit den
Atomrümpfen. Hinreichend weit entfernt von der Zonengrenze nähert sich die Dispersion der von freien
Elektronen an.

TFH WS 2021/22 83
Atomrümpfen. Hinreichend weit entfernt von der Zonengrenze nähert sich die Dispersion der von freien
Bändermodell
Elektronen an.

Bandlücke im fast-freien Elektronenmodell

in units of sc reciprocal lattice 2π/asc


Abb. 2.5 links: Freie Elektronendispersion im reduzierten Zonenschema des Diamantgitters; rechts:
äquivalente Darstellung der Silizium-Bandstruktur mit berechneten Bandlücken. Kleines Bild: 1BZ von
Diamant mit Bezeichnung der Richtungen und Symmetriepunkte.
TFH WS 2021/22 84
Bändermodell
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 25
F. Schäffler,
Bandlücke JKU, Institut
im fast-freien für Halbleiter- und Festkörperphysik
Elektronenmodell W2018

Das periodische Gitterpotential führt in einer Dimension immer zu Energielücken. In drei


Dimensionen wird das Bild komplizierter, weil alle möglichen 3D reziproken Gittervektoren
berücksichtigt werden müssen, und weil die Ausdehnung der BZ in verschiedenen Richtungen
verschieden groß ist (vergleiche auch Abb. 2.3). Für die Bandstruktur von Diamant ergibt sich
dabei das in Abb. 2.5 dargestellte reduzierte Zonenschema für die freie Elektronendispersion
(links ohne Bandlücken, rechts mit berechneten Bandlücken für Si) in der [100] und der
[111]-Richtung im reziproken Raum. Die 1. BZ von Diamant mit der Bezeichnung der
Richtungen und Symmetriepunkte aus Abb. 1.13 ist im kleinen Bild nochmals dargestellt.

2.3 Bandstruktur der wichtigsten Halbleiter


Die drei wichtigsten Halbleiter sind Si, Ge und GaAs, die im Diamant- bzw. Zinkblende-
Gitter kristallisieren. Die Valenzbänder sind dabei in allen drei Fällen sehr ähnlich und
bestehen aus drei nach unten gekrümmten Bändern unterschiedlicher Krümmung. Alle
Valenzbandmaxima liegen am -Punkt bei k=0. Die Leitungsbänder sind nur qualitativ
ähnlich und zeigen insbesondere unterschiedliche Lagen der jeweiligen Minima im k-Raum:
Si hat sechs Leitungsband-Minima in den sechs äquivalenten <100>-Richtungen nahe der BZ-
Grenze (X-Punkt). Ge hat die Leitungsbandminima am L-Punkt, d.h. auf der Zonengrenze in
den acht äquivalenten <111>-Richtungen. GaAs hat ein Leitungsbandminium bei k=0, also
am -Punkt. Nur im GaAs liegen demnach Valenzbandmaximum und Leitungsbandminimum
an der gleichen Stelle im k-Raum. Man spricht von einem direkten Halbleiter, weil optische
Übergänge vom Valenzbandmaximum zum Leitungsbandminimum unter Einhalten von

TFH WS 2021/22 85
den acht äquivalenten <111>-Richtungen. GaAs hat ein Leitungsbandminium bei k=0, also
am -Punkt. Nur im GaAs liegen demnach Valenzbandmaximum und Leitungsbandminimum
Bändermodell
an der gleichen Stelle im k-Raum. Man spricht von einem direkten Halbleiter, weil optische
Übergänge
Bandstruktur vom Valenzbandmaximum
der wichtigsten Halbleiter zum Leitungsbandminimum unter Einhalten von

Abb. 2.6 Bandstrukturen von Ge, Si und GaAs. Die Bandlücke EG separiert die nach unten gekrümmten
Valenzbänder von den nach oben gekrümmten Leitungsbändern. GaAs ist ein direkter Halbleiter, Si und
Ge sind indirekte Halbleiter.
TFH WS 2021/22 86
[111]-Richtung im reziproken Raum. Die 1. BZ von Diamant mit der Bezeichnung der
Bändermodell
Richtungen und Symmetriepunkte aus Abb. 1.13 ist im kleinen Bild nochmals dargestellt.
Bandstruktur der wichtigsten Halbleiter

2.3 Bandstruktur der wichtigsten Halbleiter


Die drei wichtigsten Halbleiter sind Si, Ge und GaAs, die im Diamant- bzw. Zinkblende-
Gitter kristallisieren. Die Valenzbänder sind dabei in allen drei Fällen sehr ähnlich und
bestehen aus drei nach unten gekrümmten Bändern unterschiedlicher Krümmung. Alle
Valenzbandmaxima liegen am -Punkt bei k=0. Die Leitungsbänder sind nur qualitativ
ähnlich und zeigen insbesondere unterschiedliche Lagen der jeweiligen Minima im k-Raum:
Si hat sechs Leitungsband-Minima in den sechs äquivalenten <100>-Richtungen nahe der BZ-
Grenze (X-Punkt). Ge hat die Leitungsbandminima am L-Punkt, d.h. auf der Zonengrenze in
den acht äquivalenten <111>-Richtungen. GaAs hat ein Leitungsbandminium bei k=0, also
am -Punkt. Nur
VO 322.130 im GaAs
Halbleiter- und liegen demnach Valenzbandmaximum
Festkörperphysik und Leitungsbandminimum
(Master Elektronik & Informationstechnik) 26
an der gleichen
F. Schäffler, JKU,Stelle
Institutim
fürk-Raum. Man
Halbleiter- undspricht von einem direkten
Festkörperphysik W2018 Halbleiter, weil optische
Übergänge vom Valenzbandmaximum zum Leitungsbandminimum unter Einhalten von
Energie- und Impulserhaltung möglich sind. Bei Si und Ge ist das nicht der Fall: Man spricht
von indirekten Halbleitern, bei denen ein zusätzliches Teilchen (in der Regel eine
quantisierte Gitterschwingung = Phonon) zur Impulserhaltung bei optischen Übergängen
benötigt wird. Dadurch wird die optische Übergangsrate um vier bis sechs Größenordnungen
reduziert. Indirekte Halbleiter sind daher für lichtemittierende Bauelemente nicht geeignet.
Dagegen lassen sich indirekte Halbleiter für Photodioden und Solarzellen nutzen. Die
geringere Lichtabsorption pro Länge führt zwar zu einer größeren Lichteindringtiefe, läßt sich
aber effizient in Strom umwandeln, wenn die Ladungsträgerlebensdauer nur hinreichend lang
ist. Si ist das mit Abstand am weitest verbreitete Material für Solarzellen.

TFH WS 2021/22 87
Dagegen lassen sich indirekte Halbleiter für Photodioden und Solarzellen nutzen. Die
geringere Lichtabsorption pro Länge führt zwar zu einer größeren Lichteindringtiefe, läßt sich
Bändermodell
aber effizient in Strom umwandeln, wenn die Ladungsträgerlebensdauer nur hinreichend lang
Bandstruktur
ist. Sider
ist wichtigsten Halbleiter
das mit Abstand am weitest verbreitete Material für Solarzellen.

Abb. 2.7 Typische Details


von Halbleiterbandstrukturen.
Die entarteten Leitungs-
bänder von Si und Ge sind in
der BZ von Diamant gezeich-
net, um die Richtungen
zuzuordnen. Für InSb ist die
Nicht-Parabolizität des
Leitungsbandes gezeigt. Die
Entartung der Valenzbänder
am -Punkt gilt für alle
Gruppe-IV und alle III-V-
Halbleiter.

2.4 Effektive Masse und Löcherkonzept


Für freie Elektronen der Masse me gilt die parabolische Dispersionsrelation
TFH 𝑝2
WS 2021/22 ℏ2 𝑘 2 88
Halbleiter.

Bändermodell
2.4 Effektive Masse und Löcherkonzept
Für freie Elektronen der Masse me gilt die parabolische Dispersionsrelation
𝑝2 ℏ2 𝑘 2
𝐸𝑘𝑖𝑛 = 2𝑚 = 2𝑚𝑒
equ. 2.3
𝑒

daraus erhält man die Elektronenmasse:


𝑑2 𝐸𝑘𝑖𝑛 1 ℏ2
𝑑𝑝2
=𝑚 bzw. 𝑚𝑒 = 𝑑 2 𝐸 2 equ. 2.4
𝑒 𝑘𝑖𝑛 /𝑑𝑘

Durch die Bandaufspaltung ändert sich in Halbleitern die Bandkrümmung in der Nähe der
BZ-Grenzen. Allerdings zeigt sich, daß nahe der Bandlücken die Dispersion parabolisch
bleibt, jedoch mit geänderter Krümmung. Das nutzt man zur Definition der analog
abgeleiteten effektiven Masse m*:
ℏ2
𝑚∗ = 𝑑2 𝐸/𝑑𝑘 2 equ. 2.5

Die effektive Masse spiegelt die Wechselwirkung zwischen den Elektronen und dem
Kristallgitter nahe der BZ-Grenze wider, wo wegen der Erfüllung der Bragg-Bedingung
Impuls mit dem ganzen (unendlich ausgedehnten) Kristallgitter ausgetauscht werden kann.
VO*
322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 27
m wird in Halbleitern
F. Schäffler, JKU, Institutmit entartetenund
für Halbleiter- Bändern (z. B. Leitungsbänder
Festkörperphysik W2018 in Si und Ge)
*
richtungsabhängig. In den Valenzbändern wird m formell negativ. Dies vermeidet man,
indem man im Valenzband die fehlenden Elektronen (Defektelektronen oder Löcher)
betrachtet, die sich wie positiv geladene Teilchen mit positiver Masse verhalten.
Tabelle 2.1 führt wichtige Parameter verschiedener Halbleitern an, darunter die Bandlücken
und die effektiven Massen.
TFH WS 2021/22 89
Bändermodell
Effektive Masse
▶ Um ein Extremum kann E (k) in folgende Taylorreihe entwickelt werden
(eindimensional bzw. richtungsunabhängig):

∂E 1 ∂2E
E (k) = E0 + k+ k2
∂k 0 2 ∂k 2 0
| {z }
=0 (Extr.)

▶ Mit der Definition für die effektive Masse

1 ∂2E

m∗ ℏ2 ∂k 2 0
2 2
wird daraus E (k) = E0 + ℏ2mk∗ und mit dem Impuls p = ℏk die selbe
Energie - Impulsrelation wie in der klassischen Mechanik.
▶ Die Definition der effektive Masse ist nicht nur eine Abkürzung, sie hat
auch eine tiefer physikalisch Bedeutung als träge Masse:
Wenn das Potential einer externen Kraft F auf ein Elektron zwischen r
und r + a i nur wenig variiert, gilt weiterhin die Bewegungsgleichung
∂p ∂k
=ℏ = F,
∂t ∂t
durch Lösen erhält man k(t).
TFH WS 2021/22 90
Bändermodell
Effektive Masse als träge Masse
▶ Die Geschwindigkeit eines Elektrons v ist durch die
Gruppengeschwindigkeit seiner Wellenfunktion im Kristall gegeben:
∂ω 1 ∂E
v= = .
∂k ℏ ∂k
Für die Beschleunigung ergibt sich damit:
∂v 1 ∂ ∂E 1 ∂ ∂E ∂k 1 ℏ∂k 1
a= = = ◦ = ∗ = ∗ F.
∂t ℏ ∂t ∂k ℏ ∂k ∂k ∂t m ∂t m
Die effektive Masse definiert über die Krümmung der Dispersionsrelation
E (k) beschreibt also auch die träge Masse der Elektronen.
▶ Die effektive Masse, d.h die Krümmung der Dispersionsrelation kann
negativ werden (z.B bei k = 0 für das zweite, vierte . . . Band und am
Rand der Brillouinzone für das erste, dritte, . . . Band )
▶ Bedeutung: am Rand der Brillouinzone ist die Gruppengeschwindigkeit 0
(stehende Elektronenwellen). Eine wirkende Kraft vergrößert z.B k in
Richtung näher zur Grenze der Brillouinzone, die Erhöhung der
Rückstreuwahrscheinkichkeit (Erfüllung der Braggbedingung an der
Zonengrenze !) führt zur Abbremsung eines Elektrons, die Masse eines
sich im Festkörper bewegenden Elektrons erscheint in dieser Situation
also negativ.
TFH WS 2021/22 91
Bändermodell
Volle Bänder und fast volle Bänder: das Löcherkonzept
▶ Wegen fundamentaler Symmetrieeigenschaften gilt E (k) = E (−k).
▶ Der elektrische Strom j , der von einem Elektron mit Wellenvektor k 0
transportiert wird ist j = −ev 0 = − ℏe ∂E
∂k k 0
▶ Sind alle Zustände in einem Energieband besetzt, fließt kein Strom :
 
X e X ∂E e X ∂E ∂E
j tot = −e vi = − =− + =0
ℏ ∂k ki ℏ ∂k ki ∂k −k i
i ki ki,xyz >0 | {z }
=0
▶ Sind alle Elektronenzustände bis auf den bei k 0 besetzt, wird der Beitrag
∂E
∂k −k 0
in der Summe oben nicht mehr kompensiert. Daher wird
e ∂E e ∂E
j tot = − = ,
ℏ ∂k −k 0 ℏ ∂k k0

d.h. der unbesetzte Zustand bei k 0 ruft den gleichen Strom hervor, den ein
bis auf ein positiv geladenes “Elektron” im Zustand k 0 leeres Band
hervorrufen würde. Alle Elektronen in diesem Band verhalten sich
hinsichtlich des Stroms also zusammen genau so, wie dieses positiv
geladene, virtuelle Teilchen (Loch).
▶ analog kann man an Hand der Beschleunigung argumentieren, dass ein
Loch im Zustand k 0 eine effektive Masse umgekehrten Vorzeichens
verglichen zum Vorzeichen des Elektrons in diesem Zustand hat.(→ Übung)
TFH WS 2021/22 92
betrachtet, die sich wie positiv geladene Teilchen mit positiver Masse verhalten.
Bändermodell
Tabelle 2.1 führt wichtige Parameter verschiedener Halbleitern an, darunter die Bandlücken
Tabelle und
wichtige ParameterMassen.
die effektiven verschiedener Halbleiter

Tab. 2.1 Wichtige Halbleiterparameter

TFH 2.5 Wasserstoffähnliche (flache, seichte) Störstellen


WS 2021/22 93
Bändermodell
Metall, Halbleiter, Isolatoren

▶ Die Elektronen besetzen die Energiebänder nach dem Pauliprinzip, nach


dem jeder erlaubte Energiezustand höchstens doppelt mit Elektronen
unterschiedlichen Spins besetzt werden kann. Die Auffüllung beginnt beim
energetisch niedrigsten Zustand. Das Valenzband ist das energetisch
höchste, vollständig mit Elektronen besetzte Band. Die Elektronen eines
voll besetzten Valenzbands nehmen nicht an der elektrischen Stromleitung
teil. Oberhalb des Valenzbandes liegt das Leitungsband. Gelangen
Elektronen dorthin, nimmt die elektrische Leitfähigkeit zu.

▶ Ist ein Band unvollständig besetzt, so verhalten sich die Elektronen dort
praktisch wie freie Elektronen. Ein von außen einwirkendes elektrisches
Feld verschiebt die Elektronen durch das Atomgitter und verursacht den
elektrischen Strom. Das gilt für die meisten Metalle (Bild A). Bei einigen
Metallen überlappt sich Bänder, es wird das bei höher Engerie beginnenden
Band besetzt, bevor das bei kleiner Energie beginnende Band voll ist.
Elektronen in beiden Bändern tragen zum Stromtransport bei (Bild B).
TFH WS 2021/22 94
Bändermodell
Metall, Halbleiter, Isolatoren: Vergleich der Leitfähigkeiten

▶ Halbleiter haben eine schmale Bandlücke zwischen einem vollständig


besetzten Valenzband und dem leeren Leitungsband (Bild C). Die
elektrische Leitfähigkeit nimmt zu, wenn Elektronen aus dem Valenzband
in das Leitungsband angeregt werden (z.B thermisch, optisch..). Sowohl
die Elektronen als auch die Löcher tragen dann zur Leitfähigkeit bei. Bei
typischen Halbleitern mit einer Energielücke von etwa 1 eV sind
Valenzelektronen schon bei Raumtemperatur über Energielücke angeregt.
Die Löcher- und Elektronenkonzentrationen sind dann gleich, beide
Ladungsträgertypen tragen etwa gleich zur Eigenleitfähigkeit bei.
▶ Ein Isolator zeichnet sich durch ein besetztes Valenzband und ein leeres
Leitungsband aus. Beide Bänder sind energetisch durch eine relativ breite
Bandlücke (> 3 eV), voneinander getrennt (Bild D). Die thermische
Energie bei Raumtemperatur reicht nicht aus, um eine signifikante
Konzentration von Elektronen aus dem Valenzband in das Leitungsband zu
anzuregen und der elektrische Strom kann nicht fließen.

TFH WS 2021/22 95
Bändermodell
Metall, Halbleiter, Isolatoren

TFH WS 2021/22 96
Bändermodell
Metall, Halbleiter, Vergleich Leitfähigkeit vs. Temperature

TFH WS 2021/22 97
Bändermodell
Seichte Störstellen

2.5 Wasserstoffähnliche (flache, seichte) Störstellen


Bringt man Atome substitutionell (anstelle eines Gitteratoms) in ein Halbleiterkristallgitter
ein, so bilden sich Störstellen mit definierten Energieniveaus aus. Besonders wichtig sind
sogenannte flache (seichte) Störstellen, deren energetische Lage knapp unterhalb bzw.
oberhalb des Leitungs- bzw. Valenzbandes liegen (flach!). Erstere heißen Donatoren, letztere
Akzeptoren.. Typische Vertreter in einem Si-Kristall sind Elemente aus der Gruppe V
[Donatoren: P, As, (Sb)] bzw. III [Akzeptoren: B, (Al, Ga)] des Periodensystems. Sie haben
entweder ein Elektron + Proton mehr (Donatoren) bzw. weniger (Akzeptoren) als das Gruppe
IV-Element Si (gilt auch für Ge). Da sich die Atomhülle der genannten Elemente nur um ein
Elektron unterscheiden, werden die Dotieratome versuchen, sich in die kovalente Bindung der
benachbarten Si-Atome einzubringen. Dabei bleibt entweder ein ungebundenes
Valenzelektron übrig (Donatoren), oder aber es fehlt eines (Akzeptoren). Die Donatoren
geben dieses überschüssige Valenzelektron mit geringer Bindungsenergie leicht an das
Leitungsband ab, während die Akzeptoren leicht ein Elektron aus dem Valenzband
aufnehmen, um eine Si-ähnliche Valenzelektronenkonfiguration zu erhalten.
Die Bindungsenergien der Donatoren und Akzeptoren erhält man aus der einfachen
Überlegung, daß das Elektron/Protonpaar, das ein Donator über die Si-Konfiguration hinaus
enthält sich ähnlich wie ein im Halbleiter auf einem Gitterplatz fixiertes Wasserstoffatom
verhält. Dabei ist gegenüber dem freien Wasserstoffatom die effektive Elektronenmasse im
Halbleiter und die Abschirmung der Coulombpotentiale durch die Elektronen zu
hberücksichtigen.
2
  i
∂2 ∂2 ∂2 1 √ e2
− 2m

∗ ∂x 2
+ ∂y 2
+ ∂z 2
− 4πε0 ε
ψ(x ) = E ψ(x )
x 2 +y 2 +z 2
zeitunabhängige SG im Kristall
TFH WS 2021/22 98
jeweils die
Bindungsenergien
Bändermodell
VO 322.130
in eV Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 28
Seichte F. Schäffler,
Störstellen JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik
Flache Störstellen W2018
befinden sich in
Mander
erhält
Nähe dann
der für die Bindungszustände des Donators das modifizierte Wasserstoff-
Bandkanten, tiefe
Termschema:
Störstellen in der
Nähe der m * / me 1
En   Ry  2 ; equ. 2.6
Bandmitte. Bei
letzteren ist
 2
n
die Rydbergenergie: 1 Ry= 13,6 eV;  ist die Dielektrizitätskonstante des Halbleiters;
jeweils
Ry ist
angegeben, ob sie
m*/m e ist die effektive Masse bezogen auf die freie Elektronenmasse. Setzt man für typische
sich wie
Halbleiter
Donatoren (D) e 0.1 und   10 ein, so erhalt man für das Grundniveau (n=1) eines
m*/m
Donators eine Bindungsenergie von E1  13,6 meV unterhalb des Leitungsbandes.
oder Akzeptoren
(A) verhalten.
Dieser Wert für die Donator-Bindungsenergie ist sehr viel kleiner als die Bandlücke
(Eg  1 eV, vgl. Tab. 2.1) und immer noch kleiner als die thermische Energie bei
Zimmertemperatur: kBT = 26 meV bei 300K. Flache, wasserstoffähnliche Donatoren geben
ihr überschüssiges Elektron daher sehr leicht ans Leitungsband ab, wo es frei beweglich ist.
Das überschüssige, positiv geladene Proton bleibt dagegen an den Donatorkern gebunden und
bleibt ortsfest an der Stelle des Donators im Kristallgitter.
As als Beispiel der Elemente der B als Beispiel der Elemente der
Hauptgruppe V: Hauptgruppe III:

TFH WS 2021/22 99
Dieser Wert für die Donator-Bindungsenergie ist sehr viel kleiner als die Bandlücke
(Eg  1 eV, vgl. Tab. 2.1) und immer noch kleiner als die thermische Energie bei
BändermodellZimmertemperatur: kBT = 26 meV bei 300K. Flache, wasserstoffähnliche Donatoren geben

Bindungsenergien verschiedener Störstellen

Abb. 2.8
Störstellen in Si,
Ge und GaAs.
Angegeben sind
jeweils die
Bindungsenergien
in eV
Flache Störstellen
befinden sich in
der Nähe der
Bandkanten, tiefe
Störstellen in der
Nähe der
Bandmitte. Bei
letzteren ist
jeweils
angegeben, ob sie
sich wie
Donatoren (D)
oder Akzeptoren
(A) verhalten.

TFH WS 2021/22 100


Bändermodell
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 29
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik
Störstellen W2018

Alle Überlegungen gelten entsprechend für Akzeptoren, die durch Aufnahme eines Elektrons
aus dem Valenzband ein freies Loch erzeugen und selbst eine negative, ortsfeste Ladung
binden. Das Akzeptorniveau ist auf das Valenzband bezogen.
Flache Störstellen spielen eine zentrale Rolle bei allen Halbleiterbauelementen. Sie erst
erlauben es, den Ladungsträgertyp eines Halbleiters einzustellen und so z. B. p/n-Übergänge
für Gleichrichterdioden, Solarzellen und Bipolartransistoren herzustellen.
Neben flachen Störstellen gibt es auch tiefe Störstellen, die energetisch tief in der Bandlücke
liegen (Bindungsenergie  ½ Bandlückenenergie). Sie spielen für die Trägerstatistik keine
wesentliche Rolle, beeinflussen aber die Generation und Rekombination von
Elektron/Lochpaaren (s. u.).

2.6 Trägerstatistik
2.6.1 Zustandsdichte
Die Zahl der Quantenzustände in einem Band ist abzählbar. Das liegt daran, daß der Impuls
der Elektronen durch die endliche Ausdehnung des Kristalls und die damit verbundenen
Randbedingungen an der Kristalloberfläche nur in zwar sehr dicht liegenden, aber diskreten
Werten auftreten kann. Im einfachsten Fall nimmt man eine unendlich hohe Austrittsarbeit an
der Kristalloberfläche an. Dann muß die Elektronenwellenfunktion an der Oberfläche einen
Knoten (Nullstelle) besitzen. Diese Bedingung wird erfüllt, wenn die Elektronenwellen-
funktionen die Form 𝜓𝐸𝑘 ∝ sin(𝑘 ⃗ 𝑟) hat und die Komponenten von 𝑘⃗ die Bedingung erfüllen:

TFH 2 
WS 2021/22 101
Bändermodell
Trägerstatistik: Zustandsdichte
▶ Sind in der Bandstruktur En (k) alle k-Werte aus der 1. BZ erlaubt?
▶ zu jedem k gehörten die Wellenfunktion ψn,k (r ) = un,k (r )eikr (Bloch
Theorem, siehe Seite 78), wobei n die Nummer des Energiebands angibt.
▶ Kristall mit endlicher Ausdehnung Lx , Ly , Lz in e x , e y , e z Richtungen,
aber: ψn,k (r ) ist unendlich ausgedehnt.
▶ Ausweg: wir berücksichtigen nur Wellenfunktionen, die periodisch in Lx ,
Ly , Lz sind. Man füllt also den ∞en Raum durch Wiederholung mit einem
endlichen Kristall aus. So ergeben sich aus der ∞en Ausdehnung der
Wellenfunktionen keine Eigenschaften, die nicht auch im endlichen Kristall
vorhanden sind.
▶ Die geforderte Periodizität ψn,k (r ) = ψn,k (r + e i Li ) ist nicht für beliebige
k gegeben:
ψn,k (r +e i Li ) = un,k (r +e i Ni ai )eik(r +e i Ni ai ) = un,k (r )eikr e2πiγi Ni = e2πiγi Ni ψn,k (r )
Also nur für
m
mit m ∈ Z
γi =
Ni
ist die geforderte Periodizität der Gesamtwellenfunktion erfüllt.4
4
In der Ableitung haben wir Li durch die Anzahl Ni der Einheitszellen mit Gitterkonstante
P ai in
i-Richtung ausgedrückt, die Gitterperiodizität der Blochfunktion un,k verwendet und k = γj g j
j
im Reziproken Gitter dargestellt.
TFH WS 2021/22 102
Bändermodell
Trägerstatistik: Zustandsdichte DOS (density of states)
▶ ein erlaubter k Wert pro k-Raumvolumen
1 8π 3 8π 3
vk = g (g 2
N1 N2 N3 1
× g 3) = N1 N2 N3 VEZ
= VKristall
(2π)3 (2π)3
(da g 1 (g 2 × g 3 ) = a 1 (a 2 ×a 3 )
= VEinheitszelle , siehe Übungen) g3
▶ zwei erlaubte Spinzustände pro k Wert
d3 n VKristall
⇒ gk = dk 3
= 2/vk = 4π 3
(k-Raum DOS).
g2

|g3 |/N3
▶ In einer Kugel im k-Raum mit Radius k gibt es daher pro
. 3 3
1 4πk v⃗k k
Kristallvolumen VKristall 3 2
= 3π 2
erlaubte g1
|g1 |/N1
Elektronenzustände.
▶ Im Energiebereich, in dem ein Energieband mit E = ℏ2 k 2
2m∗ m0
angenähert werden kann, gibt es daher pro VKristall
 3/2
1 2me∗ m0 E
3π 2 ℏ2
Zustände mit Energie kleiner als E (k).
▶ analog zur Definition der Massendichte ρ über
Massezunahme ∆m
∆m = ρ∆V als Volumszunahme ∆V
gibt die Zustandsdichte
g(E ) die Zunahme der Anzahl der Zustände (pro VKristall )
dN bei Zunahme der Energiegrenze um dE an:
 3/2
1 dN 1 2me ∗ m0 √
g(E ) = = E − EC
VKristall dE 2π 2 ℏ2
TFH WS 2021/22 103

Masse hoch 3/2 und der Wurzel aus der Energie. In zwei Dimensionen (z.B. im Kanal eines
Bändermodell
MOSFET) ist N(E) konstant und in einer Dimension (z.B. in einem Kohlenstoff-
Trägerstatistik: DOS von
Nanoröhrchen) Ge
divergiert 𝑁(𝐸)~1/√𝐸 .

Abb. 2.9 Bandstruktur (rechts) und


Zustandsdichte (links) von Ge. Für die
Zustandsdichte N(E) gilt nur in Bereichen
parabolischer Bänder die
charakteristische √𝐸-Abhängigkeit aus
equ. 2.13, wie man im alleruntersten
Band und in unmittelbarer Nähe des
Valenzbandmaximums und des
Leitungsbandminimums sehen kann.
Dazwischen gibt es ausgeprägte Maxima
der Zustandsdichte, die immer dann
auftreten, wenn die Banddispersion sehr
flach wird. Dann nimmt die Zahl der
Zustände pro Energieintervall stark zu
und divergiert an Stellen, an denen die
Banddispersion eine horizontale Steigung
aufweist. Solche Bereiche unendlicher
effektiver Masse heißen van-Hoove-
Singularitäten der Zustandsdichte.

TFH WS 2021/22 104


VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik n  (Master 
n( E )dEElektronik & Informationstechnik)
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik
Ec W2018
equ. 2.14
31

Bändermodell
mit
2.6.2n(E) = N(E)·F(E);
Intrinsische N(E) ist die o.a. Zustandsdichte, F(E) ist die
Halbleiter
Besetzungswahrscheinlichkeit eines Zustandes. Elektronen sind Fermionen (d.h., sie dürfen
Im undotierten(intrinsischen
nicht in allen Quantenzahlen Halbleiter) erhält man
übereinstimmen). für die
Für die Zahl der Elektronen im
Besetzungswahrscheinlichkeit von
Leitungsband:
Fermionen gilt die Fermi-Dirac-Verteilungsfunktion:
Ec max
1
1Ec e ( E EF ) / kBT
F ( En) n( E )dE equ. 2.15
2.14

mit
mit der
n(E)Fermi-Energie
= g(E )
N(E)·F(E); (= chemisches
g(E
N(E) Potential)
) ist die o.a. EF. Die Fermi-Energie
Zustandsdichte, F(E) ist die ist ein statistischer
Parameter, dessen Lage sich aus
Besetzungswahrscheinlichkeit der Zustandes.
eines Randbedingung der Ladungsneutralität
Elektronen ergibt.sie dürfen
sind Fermionen (d.h.,
nicht
In deninmeisten
allen Quantenzahlen übereinstimmen).
Fällen kann F(E) durch die Boltzmann-GleichungFür die Besetzungswahrscheinlichkeit
genähert werden: von
Fermionen gilt die Fermi-Dirac-Verteilungsfunktion:
 e  ( E  E F ) / k BT
für : ( E  EF )  3k BT
F (E)    ( E F  E ) / k BT 1 equ. 2.16
1  e F ( E )  für : ( E  EF )  3k BT
( E  EF ) / k BT
equ. 2.15
1 e
mit der Fermi-Energie (= chemisches Potential) EF. Die Fermi-Energie ist ein statistischer
Parameter, dessen Lage sich aus der Randbedingung der Ladungsneutralität ergibt.
In den meisten Fällen kann F(E) durch die Boltzmann-Gleichung genähert werden:
 e  ( E  E F ) / k BT für : ( E  EF )  3k BT
F (E)   equ. 2.16
Abb. 2.10 Fermiverteilung als  e ( EF  Evon
1Funktion
) / k BT
für : ( E  EF )  3k BT
(E-EF) für verschiedene Temperaturen. Bei T=0
wird die Fermiverteilung zur Sprungfunktion:
Alle Zustände unterhalb EF sind besetzt, alle
oberhalb unbesetzt. Mit zunehmender
Temperatur verschmiert die Fermiverteilung so,
daß die Flächen beidseits EF gleich sind. F(E) =
1/2 für E=EF gilt für alle Temperaturen.

TFH Abb. 2.10 Fermiverteilung als Funktion von WS 2021/22 105


(E-EF) für verschiedene Temperaturen. Bei T=0 1  e ( E EF ) / kBT
wird die Fermiverteilung zur Sprungfunktion:
Bändermodell
mit derAlleFermi-Energie (= chemisches
Zustände unterhalb EF sind besetzt,Potential)
alle EF. Die Fermi-Energie ist ein statistischer
oberhalb
Parameter, unbesetzt.
dessen LageMitsich
zunehmender
aus der Randbedingung der Ladungsneutralität ergibt.
Trägerstatistik: Intrinsische Halbleiter
Temperatur verschmiert die Fermiverteilung so,
In dendaßmeisten Fällen
die Flächen kannEF(E)
beidseits durch
F gleich sind. dieF(E)Boltzmann-Gleichung
= genähert werden:
1/2 für E=EF gilt für alle Temperaturen.
 e ( E  E ) / k T
F B
für : ( E  EF )  3k BT
F (E)    ( E F  E ) / k BT
equ. 2.16
1  e für : ( E  EF )  3k BT

2me* 3 / 2
N ( E))  4  (
Mit g(E )  E (equ. 2.13) und F ( E )  e( EEF ) / kBT (equ. 2.16) erhält man für
h2
die Elektronendichte im Leitungsband:
 (*)  2m*k T  3/ 2

n   n( E )dE  2 e B
  e ( EC EF ) / kBT  N C  e ( EC EF ) / kBT , equ. 2.17
Abb. 2.10 Fermiverteilung
EC
h 2 von
als Funktion
(E-EF) für verschiedene Temperaturen. Bei T=0
mit der effektiven
wird Leitungsbandzustandsdichte:
die Fermiverteilung zur Sprungfunktion:
Alle Zustände unterhalb EF sind besetzt, alle 3/ 2
oberhalb unbesetzt. Mit zunehmender  2m*k T 
N C : 2 so, e2 B
Temperatur verschmiert die Fermiverteilung  . equ. 2.18
 =h
daß die Flächen beidseits EF gleich sind. F(E) 
1/2 für E=EF gilt für alle Temperaturen.
Anmerkung: Für Mehrtalhalbleiter ist Nc mit dem Leitungsband-Entartungsfaktor gv zu
multiplizieren. Für Si gilt: gv = 6, für Ge: gv = 4.
 3/2 R √
2m0 me∗ ∞
(*) 4π h2
E − Ec e−(E −EF )/kT dE =
2m* Ec  ( E EF ) / kBT
  ( 2 e )3 / 2  E (equ. 2.13) Zund
Mit N ( E )∗43/2 ∞ F (E)  e
√ −x (equ. 2.16) erhält man für
2m0 me h−(Ec −EF )/kT 3/2
4π 2
die Elektronendichte
h
e (kT
im Leitungsband:
) x e dx

|0
3/ 2
 2me*k BT  √
{z }
n   n( E )dE  2 2
  e ( EC π/2
 EF ) / kBT
 N C  e ( EC EF ) / kBT , equ. 2.17
TFH E  h  WS 2021/22 106
Bändermodell
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 32
Trägerstatistik: Intrinsische
F. Schäffler, Halbleiter
JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

Völlig analog erhält man für die Löcherdichte p durch Integration über das Valenzband:
 3/ 2
 2mh*k BT 
p  p( E )dE  2
Ev
h2
 e ( EF Ev ) / kBT  NV  e ( EF Ev ) / kBT


equ. 2.19
Für die Besetzungswahrscheinlichkeit
Fh (E ) der Lochzustände haben wir
mit der effektiven Valenzbandzustandsdichte
Fh (E ) = 1 − F (E ) ≈ e−(EF −E )/kB T
 2mh* k BT 
3/ 2
verwendet
NV : 2 2
 . equ. 2.20
 h 
Aus der Neutralitätsbedingung n = p := ni ergibt sich Lage der Fermi-Energie.
Setzt man n = p und löst nach EF auf, so ergibt sich:
Ec  Ev k BT  NV  Ec  Ev 3k BT  mh* 
E F : Ei   ln     ln  *  , equ. 2.21
2 2  NC  2 4  me 
D.h., die Fermi-Energie im intrinsischen Halbleiter Ei liegt nahe der Mitte der Bandlücke,
korrigiert um einen logarithmischen Term, der die unterschiedlichen Zustandsdichten von
Valenz und Leitungsband berücksichtigt.
Die intrinsische Ladungsträgerdichte ni ergibt sich dann aus dem Massenwirkungsgesetz, das
auch bei dotierten Halbleitern gültig bleibt:
n  p  ni2 . equ. 2.22
Eingesetzt:
TFH 2  Eg / kBT
WS 2021/22 107
auch bei dotierten Halbleitern gültig bleibt:
Bändermodell n  p  ni2 . equ. 2.22
Trägerstatistik: Intrinsische Halbleiter
Eingesetzt:
 Eg / kBT
n  p  ni2  NC NV e , equ. 2.23
wobei die Bandlücke Eg := Ec - Ev verwendet wurde.
Für ni ergibt sich dann als (temperaturabhängige) charakteristische Materialgröße eines
undotierten Halbleiters:
 Eg / 2 kBT
ni  NC NV  e . equ. 2.24

g(E )
Abb. 2.11 Schematische Darstellung der Trägerstatistik in einem Halbleiter mit Bandlücke Eg.
Aufgetragen sind von links nach rechts die Bandkanten, die Zustandsdichten, die Fermi-Verteilung und
das Produkt N(E)F(E) für Valenzband und Leitungsband. Die Dichte der Elektronen und Löcher
(schraffierte Flächen im Bild ganz rechts) sind wegen der Ladungsneutralität gleich. Daraus ergibt sich die
Lage der Fermienergie nahe der Bandlücken-Mitte. Ladungsträger werden wegen des exponentiellen
Abfalls der Fermi-Verteilung nur in einem ganz kleinen Energiebereich oberhalb der Leitungsbandkante
TFH und unterhalb der Valenzbandkante besetzt. WS 2021/22 108
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 33
Bändermodell
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Trägerstatistik: Extrinsische Halbleiter
Eg (eV) ni (cm-3) NV (cm-3) NC (cm-3)
10 19
1.1242 2.86·1019
10 19 19
Si∗) 1.12 1.07·10
1.4510 3.10·10
1.0410 2.810
13 18
Ge 0.66 2.210 3.9210 1.051019
6 18
GaAs 1.43 1.7910 7.010 4.71017
∗)
M. A. Green, J. Appl. Phys. 67, 2944 (1990)
Tab. 2.2 Charakteristische Kenngrößen für die Trägerstatistik wichtiger undotierter Halbleiter bei 300K

2.6.2 Extrinsische Halbleiter

Das Vorhandensein von Dotieratomen ändert die Besetzung der Bänder grundlegend:
Ladungsträger können thermisch nicht nur über die relativ große Bandlücke (typisch: 1eV
gegen kBT= 26 meV bei 300K) angeregt, wie beim intrinsischen Halbleiter. Zusätzlich können
Elektronen aus den bzw. in die flachen Störstellen (ED EA  kBT) angeregt werden. Für
Donatoren erhält man dann die Neutralitätsbedingung:
n  N D  p , equ. 2.25
wobei ND+
die Dichte der positiv geladenen, ortsfesten Donatorrümpfe ist. ND+ ergibt sich aus
der Wahrscheinlichkeit, daß ein Donatoratom nicht mit einem Elektron besetzt ist zu:
 1 
N D  N D  1  ( ED  EF ) / k BT 
, equ. 2.26
 1  (1 / g D )  e 
mit der Grundzustandsentartung (1/g )e(ED −EF )/kB T N1D.
= gND = 2 für DDonatoren und der Donatorendichte
D =N D
D 1+(1/g )e(ED −EF )/kB TD einem Elektron g e(EF −ED )/kB T +1
Entsprechend gibt sich für Akzeptoren die Wahrscheinlichkeit, daß sie mit
TFH WS 2021/22 109
der Wahrscheinlichkeit, daß ein Donatoratom nicht mit einem Elektron besetzt ist zu:
Bändermodell  1 
N D  N D  1  ( ED  EF ) / k BT 
, equ. 2.26
Trägerstatistik: Extrinsische Halbleiter  1  (1 / g D )  e 
mit der Grundzustandsentartung gD = 2 für Donatoren und der Donatorendichte ND.
Entsprechend gibt sich für Akzeptoren die Wahrscheinlichkeit, daß sie mit einem Elektron
(aus dem Valenzband, das dort ein Loch hinterläßt) besetzt sind:
 1 
N A  N A   ( E A  EF ) / k BT 
, equ. 2.27
1  (1 / g A )  e 
mit gA = 4 und der Akzeptorendichte NA.

Ausgeschrieben für Donatoren ergibt sich daraus die Neutralitätsbedingung:


 1 
N C  e ( EC EF ) / kBT  N D    NV  e ( EF  EV ) / kBT ; equ. 2.28
1  2  e F D B 
( E E ) / k T

der Term für ND+ wurde dabei auf einen gemeinsamen Nenner gebracht und n bzw. p wurden
durch die statistischen Ausdrücke für die freien Ladungsträgerdichten (wie im intrinsischen
Halbleiter: equ. 2.17 bzw. 2.19) ersetzt.
Diese Neutralitätsbedingung für einen Halbleiter mit einer Donatorendichte ND ist eine
implizite Gleichung zur Bestimmung der Fermi-Energie, die numerisch gelöst wird. Eine
graphische Lösung findet sich in der folgenden Abbildung:

TFH WS 2021/22 110


VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 34
Bändermodell
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Trägerstatistik: Extrinsische Halbleiter

Abb. 2.12 Graphische Lösung der


Neutralitätsbedingung. Die drei Terme
der Neutralitätsbedingung (equ. 2.25)
sind in einem halblogarithmischen
Diagramm dargestellt. Die Lage der
Fermi-Energie ergibt sich als
Schnittpunkt der fetten Linie (positive
Ladungen: p + ND+) und der Geraden für
die freien Elektronen (n). Mit
zunehmender Dotierung nähert sich EF
immer mehr dem Doantorniveau ND. Für
Dotierkonzentrationen > NC liegt das
Fermi-Niveau im Leitungsband: Der
Halbleiter wird metallisch.
Mit zunehmender Temperatur nimmt die
intrinsische Ladungsträgerkonzentration
ni exponentiell zu, d.h., die untere Spitze
des Dreiecks, das die n- und p-Geraden
bilden, steigt an. Bei hinreichend hoher
Temperatur gibt es keinen Schnittpunkt
mehr mit der von den ionisierten
Donatoren gebildeten Kurve ND+: jeder
Halbleiter wird bei hinreichend hohen
Temperaturen intrinsisch.

TFH WS 2021/22 111


Bändermodell
Trägerstatistik: Extrinsische Halbleiter

Abb. 2.13 Schematische Darstellung der Trägerstatistik in einem n-dotierten Halbleiter mit Bandlücke
Eg und Donatorniveau ND. Aufgetragen sind von links nach rechts die Bandkanten, die Zustandsdichten,
die Fermi-Verteilung und das Produkt N(E)F(E) für Valenzband und Leitungsband. Die Dichte der
Elektronen und Löcher (schraffierte Flächen im Bild ganz rechts) ist zugunsten der Elektronen erhöht.
Die ionisierten Donatoren ND+, die hier nicht eingetragen sind, da ortsfest, sorgen weiterhin für
Ladungsneutralität. Die Fermi-Energie ist in Richtung Donatorniveau verschoben. Ist EF < (ED - 3kBT),
so sind alle Donatoren ionisiert. Diese Bedingung ist für die meisten Halbleiterbauelemente im Bereich
ihrer zulässigen Betriebstemperatur erfüllt.

TFH WS 2021/22 112


Bändermodell
Trägerstatistik: Extrinsische Halbleiter
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Abb. 2.14 Verschiebung


der Fermi-Energie als
Funktion der Temperatur
(in K) für verschiedene
n- und p-
Dotierkonzentrationen.
Mit zunehmender
Temperatur bewegt sich
EF auf das intrinsische
Fermi-Niveau Ei zu und
zwar um so eher, je
kleiner die
Dotierkonzentration ist.
T (K)

2.15 Elektronendichte in einem


mit ND = 1015 cm-3 dotierten
Halbleiter als Funktion der
TFH WS 2021/22 113
109
b 0.2 0.4 ,E)20.6 0.8 EL^^^ 1.0 ' E,
EV EF (ev)
Bändermodell Fig. 12 Graphical method to determine the Fermi energy level EF and electron conc
Trägerstatistik: Extrinsische Halbleiter n, when ionization is not complete. Examples with two different values of impurity
are shown.
n einem
erten 500 T (K)
der 10001 300 200 100 75
schen 1017

EI
-
Si
Dichte
en und
Intrinsic range A1 - 1A15 ,.
von der

logarithmic concentration scale !


Bereich
emente
öheren
linear concentration scale !

Extrinsic region or
.h., die CX 1015
onentiell
eraturen
er in die
T=0
m
der
n

linear temperature scale ! reciprocal temperature scale !


1

Elektronendichte in einem mit ND = 10Fig. 15 cm


13 −3 dotierten
Electron density as Halbleiter als Funktion
a function of temperature for a Si der
sample with donor
Temperatur. Im extrinsischen Bereich ist concentration of 1015~ r n - ~
die Ladungsträgerdichte (After
. Ref. 5 .durch
) die Dichte der
Dotieratome gegeben und weitgehend unabhängig von der Temperatur. In diesem
Bereich können Halbleiterbauelemente 26 betrieben werden. Bei höheren Temperaturen
wird der Halbleiter intrinsisch, d.h., die Trägerdichte steigt exponentiell an. Bei
niedrigen Temperaturen frieren die Ladungsträger in die Dotierzustände aus. Bei
T = 0 wird der Halbleiter zum Isolator. Gestrichelt ist der Verlauf der intrinsischen
Trägerdichte ni gezeigt.
TFH WS 2021/22 114
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Bändermodell
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Trägerstatistik: Extrinsische Halbleiter
2.6.3 Näherungsweise analytische Berechnung der Lage des Fermi-Niveaus
In beliebig dotierten Halbleitern mit nicht zu hoher Dotierkonzentrationen und nicht zu tiefen
Temperaturen gilt in guter Näherung NA-  NA und ND+  ND. Dazu muß erfüllt sein, daß EF
um mehr als  3kBT unterhalb des Donatorniveaus und  3kBT oberhalb des Akzeptorniveaus
liegt (vergleiche Abb.2.12)
2.7). Unter diesen Bedingungen, die meist erfüllt sind, sind demnach
alle Störstellen ionisiert. Damit gilt für die Neutralitätsbedingung:

𝑛 + 𝑁𝐴 = 𝑝 + 𝑁𝐷 equ. 2.29
Es gilt unverändert das Massenwirkungsgesetz
n  p  ni2 . equ. 2.22
Löst man equ. 2.22 nach p auf und setzt das Ergebnis in equ. 2.29 ein, so erhält man eine
quadratische Gleichung für die Dichte der freien Elektronen n:
𝑛2 − 𝑛(𝑁𝐷 − 𝑁𝐴 ) − 𝑛𝑖2 = 0 equ. 2.30
mit der Lösung
1
𝑛 = 2 [(𝑁𝐷 − 𝑁𝐴 ) + √(𝑁𝐷 − 𝑁𝐴 )2 + 4𝑛𝑖2 ] equ. 2.31

Analog läßt sich equ. 2.22 auch nach n auflösen und in equ. 2.29 einsetzen. Dann erhält man
eine quadratische Gleichung für die Löcherkonzentration p der völlig äquivalenten Form
1
𝑝 = 2 [(𝑁𝐴 − 𝑁𝐷 ) + √(𝑁𝐴 − 𝑁𝐷 )2 + 4𝑛𝑖2 ] equ. 2.32

TFH Im n-dotierten Halbleiter gilt ND ≫ NA und inWS Regel auch |𝑁𝐷 − 𝑁𝐴 | ≫ 𝑛𝑖 . Dann erhält
der2021/22 115
1
Bändermodell 𝑝 = 2 [(𝑁𝐴 − 𝑁𝐷 ) + √(𝑁𝐴 − 𝑁𝐷 )2 + 4𝑛𝑖2 ] equ. 2.32
Trägerstatistik: Extrinsische Halbleiter
Im n-dotierten Halbleiter gilt ND ≫ NA und in der Regel auch |𝑁𝐷 − 𝑁𝐴 | ≫ 𝑛𝑖 . Dann erhält
man aus equ. 2.31 für die Elektronendichte (Majoritätsträger im n-dotierten Material):
𝑛𝑛0 ≅ 𝑁𝐷 equ. 2.32
und mit equ. 2.22 für die Minoritätsträger im n-typ Material
𝑛2 𝑛2
𝑝𝑛0 ≅ 𝑛 𝑖 = 𝑁𝑖 equ. 2.33
𝑛0 𝐷

Dabei steht der Buchstabe jeweils für den Trägertyp, der jeweils erste Index für den Dotiertyp
und der zweite Index 0 für den Gleichgewichtszustand. nn0 in equ. 2.32 beschreibt demnach
Elektronen in einem n-typ Halbleiter im Gleichgewicht, also die Majoritätsträger, pn0 die
Löcher in einem n-typ Halbleiter im Gleichgewicht, also die Minoritätsträger. Analog ergibt
sich für die beiden Trägertypen in einem p-typ Halbleiter:
𝑝𝑝0 ≅ 𝑁𝐴 equ. 2.34
𝑛𝑖2 𝑛𝑖2
𝑛𝑝0 ≅ 𝑝 =𝑁 . equ. 2.35
𝑝0 𝐴

Daraus lassen sich analytische Gleichungen für die Lage des Fermi-Niveaus bei gegebener
Dotierkonzentration ableiten. Setzt man nämlich im n-Halbleiter für die Majoritätsträger die
statistische Gleichung equ. 2.17 ein:
𝑛𝑛0 ≅ 𝑁𝐷 = 𝑁𝑐 ∙ 𝑒 −(𝐸𝑐−𝐸𝐹 )⁄𝑘𝐵 𝑇 equ. 2.36
so läßt sich nach Ec – EF auflösen mit dem Ergebnis:
𝑁
𝐸𝑐 − 𝐸𝐹 = 𝑘𝐵 𝑇 ∙ 𝑙𝑛 (𝑁 𝐶 ) equ. 2.37
𝐷

TFH WS 2021/22 116


Bändermodell
Trägerstatistik: Extrinsische Halbleiter

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oder, mit equ. 2.24


2.17, bezogen auf das nahe der Bandlückenmitte liegende Fermi-Niveau Ei im
intrinsischen Halbleiter
𝑁
𝐸𝐹 − 𝐸𝑖 = 𝑘𝐵 𝑇 ∙ 𝑙𝑛 ( 𝑛𝐷) equ. 2.38
𝑖

folgt auch aus ND = nn0 = NC e−(Ec −EF )/kB T


und ni = NC e−(Ec −Ei )/kB T
Analog erhält man wieder die Ausdrücke für den p-dotierten Halbleiter als:
𝑁
𝐸𝐹 − 𝐸𝑣 = 𝑘𝐵 𝑇 ∙ 𝑙𝑛 (𝑁 𝑣 ) equ. 2.39
𝐴

𝑁
und 𝐸𝑖 − 𝐸𝐹 = 𝑘𝐵 𝑇 ∙ 𝑙𝑛 ( 𝑛𝐴) equ. 2.40
𝑖

Die Gleichungen 2.37 – 2.40 sind äußerst nützlich für die analytische Bestimmung der Lage
von EF in der Bandlücke bei gegebener Dotierkonzentration. Erst wenn sich EF auf weniger
als 3kBT der Akzeptor- oder Donatorbindungsenergie annähert, muß man equ. 2.28 numerisch
nach EF lösen.

3. Ladungsträgertransport
3.1 Drift im äußeren elektrischen Feld: Drude Modell

Freie Elektronen im Vakuum erfahren im äußeren elektrischen Feld E die Coulomb-Kraft:
TFH WS 2021/22 117
nach EF lösen.
Ladungsträgertransport

3. Ladungsträgertransport
3.1 Drift im äußeren elektrischen Feld: Drude Modell

Freie Elektronen im Vakuum erfahren im äußeren elektrischen Feld E die Coulomb-Kraft:
  
d 2r ∗
F  eE  me*  2 , ( ) equ. 3.1
dt
die zu ihrer Beschleunigung führt.
Im Festkörper gibt es zahlreiche Mechanismen, die zu einer Streuung der Elektronen führen.
Das können elastische oder inelastische Streumechanismen sein, die bei jedem Streuvorgang
zu Änderungen von Energie und Impuls führen. Die wichtigsten Streumechanismen sind
Streuung an Kristallgitterschwingungen (dominiert bei Zimmertemperatur) und Streuung an
den Coulomb-Potentialen der ionisierten Dotieratome (dominiert bei niedrigen Temperaturen,
bei denen Gitterschwingungen ausfrieren). Zusätzlich gibt es in MOSFETs noch Streuung an
Grenzflächenladungen und an der Grenzflächenrauhigkeit zwischen dem Halbleiter und dem
SiO2-Isolator. In Metallen mit ihrer hohen Elektronendichte spielt auch die Wechselwirkung
zwischen den Elektronen eine Rolle, die bei nicht zu hoch dotierten Halbleitern vernachlässigt
werden kann.
Die Berechnung der Beiträge der unterschiedlichen Streumechanismen und deren Energie-
und Impulsabhängigkeit kann näherungsweise im Rahmen der Boltzmann-Theorie erfolgen.
In vielen Fällen kommt man allerdings mit dem sehr einfachen, phänomenologischen Drude-
2
d2 E dkwird angenommen,
1 d2 E
) ddt 2r zu
(∗Modell dv
= guten
dt
1 d dE
= Ergebnissen. 1Dabei
ℏ dt dk = ℏ dk 2 dt = ℏ2 dk 2 F = m∗ F
1daß die Ladungsträger zwischen

zwei Stößen im E -Feld genau wie im Vakuum beschleunigt werden. Nach jedem Stoß
TFH
verlieren sie im Mittel ihre gesamte Impulsinformation
WS 2021/22
(mittlerer Impuls nach dem Stoß 118
zu Änderungen von Energie und Impuls führen. Die wichtigsten Streumechanismen sind
Streuung an Kristallgitterschwingungen (dominiert bei Zimmertemperatur) und Streuung an
Ladungsträgertransport
den Coulomb-Potentialen der ionisierten Dotieratome (dominiert bei niedrigen Temperaturen,
Drift im äußeren elektrischen Feld: Drude Modell
bei denen Gitterschwingungen ausfrieren). Zusätzlich gibt es in MOSFETs noch Streuung an
Grenzflächenladungen und an der Grenzflächenrauhigkeit zwischen dem Halbleiter und dem
SiO2-Isolator. In Metallen mit ihrer hohen Elektronendichte spielt auch die Wechselwirkung
zwischen den Elektronen eine Rolle, die bei nicht zu hoch dotierten Halbleitern vernachlässigt
werden kann.
Die Berechnung der Beiträge der unterschiedlichen Streumechanismen und deren Energie-
und Impulsabhängigkeit kann näherungsweise im Rahmen der Boltzmann-Theorie erfolgen.
In vielen Fällen kommt man allerdings mit dem sehr einfachen, phänomenologischen Drude-
Modell zu guten Ergebnissen. Dabei wird angenommen, daß die Ladungsträger zwischen

zwei Stößen im E -Feld genau wie im Vakuum beschleunigt werden. Nach jedem Stoß
verlieren sie im Mittel ihre gesamte Impulsinformation (mittlerer Impuls nach dem Stoß

m *  v  0 ), starten also mit dem Beschleunigungsvorgang nach jedem Stoß neu. Der
gesamte Stoßvorgang wird mit einem einzigen Parameter beschrieben, der mittleren Stoßzeit
. Die Stöße lassen sich, ähnlich wie beim gedämpften harmonischen Oszillator, in der
Bewegungsgleichung mit einem Reibungsterm beschreiben, der proportional zur
 
Geschwindigkeit v  dr / dt ist:

TFH WS 2021/22 119


VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 38
Ladungsträgertransport
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Drift im äußeren elektrischen Feld: Drude Modell
   
d 2 r m* dr
F  eE  me*  2  e  equ. 3.2
dt  dt
Im stationären Zustand wird die äußere Kraft durch die Reibung vollständig kompensiert,

d 2r
d.h., der Beschleunigungsterm verschwindet: me*  2  0 . Daraus folgt:
dt
  me* dr
F  eE   . equ. 3.3
 dt
Nach dem Impuls aufgelöst ergibt sich (für Elektronen):
 
me*  v  eE  equ. 3.4

Der der mittlere Elektronenimpuls ist demnach gleich der Kraft (  eE ) multipliziert mit der
mittleren Zeit zwischen zwei Stößen . Daraus erhält man die mittlere Geschwindigkeit der
Elektronen:
 e  
v   *   E :  e  E equ. 3.5
me 
Die Proportionalitätskonstante zwischen der mittleren Elektronengeschwindigkeit und dem
äußeren elektrischen Feld ist die Beweglichkeit µ:
e  cm 2 
e :  V s  equ. 3.6
me*   
TFH Im Drude-Ansatz (equ. 3.5) ist also die mittlere Ladungsträger-Geschwindigkeit proportional
WS 2021/22 120
äußeren elektrischen Feld ist die Beweglichkeit µ:

Ladungsträgertransport e  cm 2 
e :  V s  equ. 3.6
Drift im äußeren elektrischen Feld: Drude Modell e 
*
m  
Im Drude-Ansatz (equ. 3.5) ist also die mittlere Ladungsträger-Geschwindigkeit proportional
zum äußeren Feld. Dies ist der Kern des Ohmschen Gesetzes, das im Drude-Ansatz mit einem
einzigen Parameter, der mittleren Streuzeit , beschrieben wird. Um das zu sehen, führt man

die Stromdichte jn ein (für Elektronen):
   
jn  n  e  v  n  e  e  E    E equ. 3.7

n ist die Elektronendichte und  ist die Leitfähigkeit. Es gilt:  = neµ


µe = 1/, wobei  der
spezifische Widerstand ist. Rechnet man die Stromdichte auf den absoluten Strom I um, so
ergibt sich direkt das Ohmsche Gesetz: I = V/R. mit E = −V /L, I = Aj und R = AL ρ
Der Strom bzw. die Stromdichte im äußeren elektrischen Feld wird als Driftstrom bezeichnet.
Sind die Ladungsträger Löcher, so erhält man analoge Ausdrücke, bei denen die
Elektronenladung -e durch die Löcherladung +e zu ersetzen ist. Die Stromrichtung hängt
nicht vom Ladungsträgertyp ab, da j proportional zu e2 ist.
Für die Gesamtstromdichte in einem Halbleiter mit Elektronen und Löchern erhält man dann:
  
jn  n  e  v  n  e  e  E    
    j  jn  j p equ. 3.8
j p  p  e  v  p  e  h  E 

  e(n  e  p  h ) equ. 3.9

TFH WS 2021/22 121


VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 39
Ladungsträgertransport
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Drift im äußeren elektrischen Feld: Drude Modell

Abb. 3.1 Beweglichkeiten für Elektronen und


Löcher als Funktion der Dotierkonzentration
bei 300K für Ge, Si und GaAs. Wegen der
Zunahme der ionisierten Störstellenstreuung
nimmt die Beweglichkeit generell mit
zunehmender Dotierung ab. Für intrinsische
Halbleiter (näherungsweise bei der
niedrigsten Dotierkonzentration gültig) stellt
die Beweglichkeit ein Maß für die
Transportgeschwindigkeit im jeweiligen
Material dar. Demnach sind Elektronen im
intrinsischen GaAs besonders schnell (wegen
der geringen effektiven Masse), während
Löchertransport am schnellsten im Ge ist.

TFH WS 2021/22 122


Ladungsträgertransport
3.2 Ladungsträgerdiffusion
Existiert im Halbleiter ein Gradient der Ladungsträgerdichte (durch inhomogene Dotierung,
insbesondere im p/n-Übergang), so ergibt sich ein zusätzlicher Strombeitrag durch
Ladungsträgerdiffusion. Diffusionsströme dominieren in Bipolarbauelementen (p/n-
Übergang, Bipolartransistoren, Thyristoren und Triacs).

F1 F2
n(x)

n(0) n(l)
n(-l)

Abb. 3.2 Schematische Darstellung eines


inhomogenen Ladungsträgerverlaufs in einer
Dimension. Gesucht sind die Ladungsträger-
Flüsse F1 und F2 and der Stelle x=0, aus denen
sich der Netto-Strom berechnet.
-l 0 l x

Man betrachte den Stromfluß bei x=0 in einer Dimension (1D) ohne äußeres Feld. Die
Ladungsträger besitzen die thermische Geschwindigkeit vth bei z. B. 300K. Die mittlere freie
Weglänge l ergibt sich dann zu l = vth, wobei  die mittlere Streuzeit aus dem Drude-Modell
ist. Für die Elektronenflußdichte F1 von links nach rechts erhält man dann:

TFH WS 2021/22 123


VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 40
Ladungsträgertransport
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Ladungsträgerdiffusion
1 / 2  n(l )  l 1
F1   n(l )    vth , equ. 3.10
 2

wobei der Faktor 1/2 daher kommt, daß in 1D die Wahrscheinlichkeit, daß Ladungsträger sich
in eine der beiden x-Richtungen bewegen gerade 1/2 ist. Für die Flußdichte F2 von rechts
nach links erhält man den entsprechenden Ausdruck, in dem n(-l) durch n(+l) zu ersetzen ist.
Der Nettofluß F = F1 - F2 ergibt sich dann zu:

F = (1/2)·vth·(n(-l) - n(l)) equ. 3.11

Da l klein ist (ca. 100 nm bei typischen Dotiergradienten), kann man die
Trägerkonzentrationen bei l in eine Taylorreihe entwickeln, die man nach dem ersten Glied
abbricht:

1  dn   dn  
F  vth  n(0)  l    n(0)  l    . equ. 3.12
2  dx   dx  
Die Konzentration n(0) kürzt sich heraus, so daß man schließlich erhält:
dn dn
F  vth  l  :  Dn  . equ. 3.13
dx dx
Dn ist die Elektronen-Diffusionskonstante in Einheiten [cm²/s].
Aus F erhält man die Diffusionsstromdichte für Elektronen und Löcher durch Multiplizieren
mit der Ladung e:
TFH WS 2021/22 dn 124
mit derdie
Dn ist Ladung e:
Elektronen-Diffusionskonstante in Einheiten [cm²/s].
Ladungsträgertransport dn und Löcher durch Multiplizieren
Aus F erhält man die Diffusionsstromdichte für Elektronen
j  e  F  e  D  equ. 3.14
mit der Ladung e:
Ladungsträgerdiffusion
n n
dx
dn
dp
j pn  e  F  
e  Dnp  3.14
equ. 3.15
dx
dp
Die Stromrichtung ist dabei immer von der höheren Ladungsträgerkonzentration
j p +
e  F   e  D p  equ. 3.15
weggerichtet. dx
Da
Diebeiden Stromtypen
Stromrichtung das Drudemodell
ist dabei zugrunde
immer von der höherenliegt, ergibt sich aus den Definitionen von
Ladungsträgerkonzentration
Drift- und Diffusionsstrom ein einfacher Zusammenhang zwischen der Diffusionskonstante
weggerichtet.
und der Beweglichkeit:
Da beiden Stromtypen das Drudemodell zugrunde liegt, ergibt sich aus den Definitionen von
k T
Drift- und Diffusionsstrom ein einfacher Zusammenhang zwischen der Diffusionskonstante
D B  equ. 3.16
und der Beweglichkeit: e
k BT k T
Zur Erinnerung: D B 
 26 mV bei 300K. equ. 3.16
e e
k BT
Zur Erinnerung:  26 mV bei 300K.
e

Si GaAs
µn [cm²/Vs] 1500 8000
Dn [cm²/s] Si
39 GaAs
210
Tab. 3.1 Beweglichkeiten und µ
µn [cm²/Vs]
[cm²/Vs] 1500
450 8000
400
p
Diffusionskonstanten für Elektronen und
Löcher in undotiertem Si und GaAs bei 300K. D
Dnp [cm²/s]
[cm²/s] 39
12 210
10.5
Tab. 3.1 Beweglichkeiten und µp [cm²/Vs] 450 400
Diffusionskonstanten für Elektronen und
TFH WS 2021/22 125
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F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018
Ladungsträgertransport
Trägerinjektion
Für den Gesamtstrom im elektrischen Feld und in Anwesenheit von Ladungsträgergradienten
ergibt sich dann:
  dn 
jn   n  e   e  E  e  Dn     
dx j  jn  j p
dp 
  equ. 3.17
j p   p  e  h  E  e  Dp  
dx 

3.3 Trägerinjektion
Im thermischen Gleichgewicht gilt n·p = ni2. Ist n·p > ni2, d.h im Nichtgleichgewichtsfall,
spricht man von Trägerinjektion. Beispiele für Trägerinjektion sind optische Anregung und
Stromfluß durch einen p/n-Übergang.
Beispiel optische Anregung: Es werden gleich viele Elektronen und Löcher durch Anregung
über die Bandlücke erzeugt. Sei nn0 = ND = 1015 cm-3 und damit pn0 = ni2/nn0 = 1.45²·105 cm-3.
Die zusätzlichen Ladungsträger durch optische Anregung seien n = p = 1012 cm-3. Damit
ändert man die Majoritätsträgerkonzentration nn0 um 0.1%, die Minoritätsträgerkonzentration
pn0 aber um 7 Größenordnungen. (mit ni = 1010 cm−3 für Si)
Offenbar spielen die Minoritätsträger bei Ladungsträgerinjektion eine große Rolle, während
die Majoritätsträgerkonzentration in den meisten Fällen (sog. schwache Injektion:
n = p << ND) in vernachlässigbarem Umfang geändert wird. Für den seltenen Fall der
starken Injektion (z. B. bei Halbleiterlasern) gilt n = p  ND.
;
Trägerinjektion führt zu Nichtgleichgewichtszuständen. Wird die Injektion abgeschaltet, so
TFH bringen zwei Mechanismen das System wieder ins Gleichgewicht, nämlich Generation und
WS 2021/22 126
die Majoritätsträgerkonzentration in den meisten Fällen (sog. schwache Injektion:
n = p << ND) in vernachlässigbarem Umfang geändert wird. Für den seltenen Fall der
Ladungsträgertransport
starken Injektion (z. B. bei Halbleiterlasern) gilt n = p  ND.
Trägerinjektion
Trägerinjektion führt zu Nichtgleichgewichtszuständen. Wird die Injektion abgeschaltet, so
bringen zwei Mechanismen das System wieder ins Gleichgewicht, nämlich Generation und
Rekombination von Ladungsträgern über die Bandlücke. Am einfachsten sind Generation und
Rekombination in direkten Halbleitern, weil Überschußladungsträger direkt (ohne eine
zusätzliche Gitterschwingung oder eine tiefe Störstelle) rekombinieren können. Die
Rekombinationsrate R ist dann direkt proportional zum Produkt der Elektronen- und
Löcherkonzentrationen:
R = ·n·p equ. 3.18
wobei  eine materialspezifische Proportionalitätskonstante ist.

Im Gleichgewicht ist die thermische Generation EC


Gth von Ladungsträgern über die Bandlücke gleich
der thermischen Rekombination:
Gth Rth

Gth = Rth = ·nn0·pno equ. 3.19


EV
Abb. 3.3 Generation und Rekombination
im thermischen Gleichgewicht

TFH WS 2021/22 127


Ladungsträgertransport
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Trägerinjektion W2018

Schaltet man jetzt einen zusätzlichen Generations-


mechanismus ein, z. B. e/h-Paarerzeugung durch EC
Licht: GL, so erhält man:

G = GL + Gth equ. 3.20 GL Gth R

R = ·nn pn equ. 3.21


EV
mit nn = nn0 + n equ. 3.22 Abb. 3.4 Generation und
Rekombination im Injektionsfall
und pn = pn0 + p; equ. 3.23

Für Generation mit Licht gilt (s.o.) gilt: n = p.

Für die Änderung der Minoritätsträgerkonzentration durch Licht ergibt sich dann:

dpn
 G  R  GL  Gth  R equ. 3.24
dt

Im stationären Zustand ist dpn/dt = 0 und folglich:

GL  R  Gth : U equ. 3.25

TFH mit der Netto-Rekombinationsrate U. Eingesetzt:


WS 2021/22 128
Im stationären Zustand ist dpn/dt = 0 und folglich:

Ladungsträgertransport GL  R  Gth : U equ. 3.25


Trägerinjektion
mit der Netto-Rekombinationsrate U. Eingesetzt:
U = βnn pn − βnn0 pn0 = β[(nn0 + ∆p)(pn0 + ∆p) − nn0 pn0 ]
U    (nn0  pn0  p)  p equ. 3.26

für schwache Injektion [(pn0, p) << nn0] erhält man dann näherungsweise:

pn  pn 0
U    nn 0  p  equ. 3.27
1
  nn 0

Die Netto-Rekombinationsrate ist also proportional zur Überschuß-Minoritätsträgerkonzen-


tration: U  p. Darin liegt die Bedeutung der Minoritätsträger: Ihre Konzentration ist so
klein, daß sie den Flaschenhals für die Rekombination darstellt. Im Gleichgewicht ist U = 0.

Die Proportionalitätskonstante im Nenner von equ. 3.27 hat die Dimension einer Zeit und
steht für die Minoritätsträgerlebensdauer p:

1
:  p equ. 3.28
  nn 0
und damit:
pn  pn 0
U equ. 3.30
p

TFH WS 2021/22 129


Ladungsträgertransport
Trägerinjektion
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Physikalische Bedeutung von p: Betrachte einen homogen mit Licht beleuchteten
Halbleiter. Die Generationsrate durch Beleuchtung sei GL. Im stationären Zustand erhält man
dann:
p n  pn 0
GL  U  equ. 3.31
p
bzw. pn  pn0  GL p equ. 3.32
Schaltet man jetzt zum Zeitpunkt t = 0 das Licht ab, so führt Rekombination zurück zum
Gleichgewicht:
dpn p  pn 0
 Gth  R  U   n equ. 3.33
dt p
Mit den Randbedingungen pn(t=0) = pn0 + GLp und pn(t) = pn0 ergibt sich als Lösung
von equ. 3.33:
t /  p
pn (t )  pn0  GL p  e equ. 3.34

pn(t)

TFH p
WSn 2021/22 130
t /  p
pn (t )  pn0  GL p  e equ. 3.34
Ladungsträgertransport
Trägerinjektion

pn(t)

pn
Abb. 3.5 Überschußladungsträgerdichte
unter stationärer Beleuchtung (t < 0) und
nach Abschalten der Beleuchtung bei t =
0. p ergibt sich aus der linearen
Extrapolation des exponentiellen Abfalls
der Ladungsträgerdichte. pn0

0 p t

In indirekten Halbleitern ist die Rekombination komplizierter und hängt meist von der Dichte
und energetischen Lage von tiefen Störstellen ab, die als Rekombinationszentren wirken. p
ist in indirekten Halbleitern in der Regel viel größer (typisch: 0.1 µs) als in direkten
Halbleitern (typisch: ps).

TFH WS 2021/22 131


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Ladungsträgertransport
3.4 Kontinuitätsgleichung
Liegen Drift, Diffusion, Generation und Rekombination gleichzeitig vor, so hat man generell
die Kontinuitätsgleichung für Elektronen und Löcher jeweils für Majoritätsträger und
Minoritätsträger zu lösen. Wegen der viel stärkeren Änderungen der
Minoritätsträgerkonzentrationen, kann man sich meist auf die Minoritätsträger beschränken.

Abb. 3.6 Stromfluß durch einen Halbleiter


mit Querschnitt A. Betrachtet wird das
Volumen Adx in dem Generation und
jn(x) Rn jn(x+dx) A
Rekombination stattfinden. Die Richtung des Gn
Stroms wird durch ein angelegtes elektrisches
Feld definiert. Gezeigt sind die
Elektronenströme.
x x+dx

Betrachte die Änderung der Ladungsträgerdichte (hier: Elektronen) im infinitesimal kleinen


Volumenelement Adx:
n  j ( x)  A jn ( x  dx)  A 
 Adx   n    (Gn  Rn )  Adx equ. 3.35
t  e e 
Der Strom wird Taylor-entwickelt bis zur ersten Ordnung:
jn
jn ( x  dx)  jn ( x)  dx      equ. 3.36
x
TFH Daraus ergibt sich (das Volumen Adx kürz sich heraus):
WS 2021/22 132
Der Strom wird Taylor-entwickelt bis zur ersten Ordnung:

Ladungsträgertransport jn
jn ( x  dx)  jn ( x)  dx      equ. 3.36
Kontinuitätsgleichung x
Daraus ergibt sich (das Volumen Adx kürz sich heraus):
n 1 jn
   Gn  Rn equ. 3.37
t e x

jn  dn
setzt man für den Elektronenstrom (equ. 3.17) von oben:   n( x)  e  E ( x)  e  Dn 
e dx
ein, so ergibt sich für Minoritätsträger:

n p E ( x)  n  2n n  np0
 n p  e   E ( x)  e  p  Dn  2p  Gn  p equ. 3.38
t x x dx n

pn E ( x)  p 2 p p  pn 0
analog:   pn  h   E ( x)  h  n  D p  2n  G p  n
− equ. 3.39
t x x dx p
Zusätzlich muß die Poisson-Gleichung erfüllt sein (Gaußscher Satz in 1D):

E ( x) 
 ; equ. 3.40
x s
mit s = 0 im Halbleiter und der Gesamtladungsdichte  = e(p - n + ND+ - NA-)

TFH WS 2021/22 133


Ladungsträgertransport
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Beispiele für Kontinuitätsgleichung


1. Stationäre Trägerinjektion von einer Seite
Keine Generation im Halbleitervolumen, halbunendlicher n-Halbleiter, kein äußeres Feld.
Aus der Kontinuitätsgleichung erhält man für die Minoritätsträger im stationären Zustand:
pn  2 pn p n  p n 0
 0  Dp  equ. 3.41
t x 2 p
alle Terme, die das elektrische Feld enthalten verschwinden. Mit den Randbedingungen:
(x → ∞)
pn(x=0)=const. und pn(x) = man
erhält pn0 erhält man die Lösung:
die Lösung:
 +pn[p n p
x/ L
x))=pp
pnn ((x n 0n0  p−
(0n)(0) en0 ]ep−x /Lp equ. 3.42

mit der Diffusionslänge L p : D p p .

µ für n- bzw. p-Si.


Typische Diffusionslängen in undotiertem Si liegen zwischen 6 und 11µm

Abb. 3.6 Stationäre Trägerinjektion durch Licht von


einer Seite. Die Absorptionslänge von Licht sei
vernachlässigbar klein. Für die Minoritätsträger-
konzentration erhält man dann einen exponentiellen
Abfall ins Halbleiterinnere, der durch Diffusion und
TFH
gleichzeitige Rekombination erzeugt wird. Die WS 2021/22 134
alle Terme, die das elektrische Feld enthalten verschwinden. Mit den Randbedingungen:
Ladungsträgertransport
pn(x=0)=const. und pn(x) erhält man die Lösung:
Stationäre Injektion von einer Seite
pn ( x)  pn0   pn (0)  pn  e
 x / Lp
equ. 3.42

mit der Diffusionslänge L p : D p p .

Typische Diffusionslängen in undotiertem Si liegen zwischen 6 und 11µm für n- bzw. p-Si.

Abb. 3.6 Stationäre Trägerinjektion durch Licht von


einer Seite. Die Absorptionslänge von Licht sei
vernachlässigbar klein. Für die Minoritätsträger-
konzentration erhält man dann einen exponentiellen
Abfall ins Halbleiterinnere, der durch Diffusion und
gleichzeitige Rekombination erzeugt wird. Die
extrapolierte Anfangssteigung der e-Funktion ergibt die
Diffusionslänge Lp.
Das gezeigte Verhalten ist typisch für Diffusionsvor-
gänge und tritt in ähnlicher Form z.B. bei der Diffusion
von Dotieratomen in Halbleitern bei hohen Tempe-
raturen auf. Die Diffusionskonstante hängt in letzterem
Fall exponentiell von der Temperatur ab.

2. Haynes-Shockley-Experiment (1951)
Ein Stück Halbleiter wird lokal durch eine Schlitzblende mit einem Lichtpuls beleuchtet.
Entlang des Halbleiters kann ein Spannungspuls angelegt werden. Mit einem verschiebbaren
Kontakt kann als Funktion des Ortes und der Zeit die Ladungsträgerverteilung gemessen
werden.

TFH WS 2021/22 135


mit der Diffusionslänge L p : D p p .
Ladungsträgertransport
Typische Diffusionslängen in undotiertem Si liegen zwischen 6 und 11µm für n- bzw. p-Si.
Stationäre Injektion von einer Seite
Abb. 3.6 Stationäre Trägerinjektion durch Licht von
einer Seite. Die Absorptionslänge von Licht sei
vernachlässigbar klein. Für die Minoritätsträger-
konzentration erhält man dann einen exponentiellen
Abfall ins Halbleiterinnere, der durch Diffusion und
gleichzeitige Rekombination erzeugt wird. Die
extrapolierte Anfangssteigung der e-Funktion ergibt die
Diffusionslänge Lp.
Das gezeigte Verhalten ist typisch für Diffusionsvor-
gänge und tritt in ähnlicher Form z.B. bei der Diffusion
von Dotieratomen in Halbleitern bei hohen Tempe-
raturen auf. Die Diffusionskonstante hängt in letzterem
Fall exponentiell von der Temperatur ab.

Einschub: Lösung inhomogener linearer Differentialgleichungen


2p p−p0
Die Dgl. D ∂ 2 − τ = 0 nennt man inhomogen, weil sie eine Term unabhängig von der
∂x
2. Haynes-Shockley-Experiment (1951) p
gesuchten Funktion p(x ) enthält. In unserer Dgl. ist der Term sehr einfach, weil konstant ( τ0 ). Ist
die
EinDgl.
Stücklinear (d.h kommen
Halbleiter die Abl.
wird lokal durch dereine
gesuchten Fkt. jeder
Schlitzblende mitOrdnung (0 · · · n) beleuchtet.
einem Lichtpuls nur linear vor),
kann die des
Entlang allgemeinste
HalbleitersLösung allg (x
kann pein ) der Dgl. als Summe
Spannungspuls angelegtder allgemeinsten
werden. Mit einemLösung der
verschiebbaren
dazugehörigen homogenen Dgl. ph (x ) und einer speziellen, möglichst einfachen Lösung der
Kontakt kann als Funktion des Ortes und der Zeit die Ladungsträgerverteilung gemessen
inhomogenen Dgl. pih s
(x ) gefunden werden (Methode funktioniert auch bei komplizierteren
werden.
inhomogenen Termen, die z.B noch von x abhängen könnten). Für unsere Dgl. heißt das:
∂ 2 ph ph ∂ 2 pih
s
p s − p0
D − = 0 und D − ih =0
∂x 2 τ ∂x 2 τ

mit Lsg. ph (x ) = Pe−x / Dτ
und z.B. konstantem pih
s
, also aus Dgl: pih
s
(x ) = p0 . Damit:

−x /
pallg (x ) = Pe Dτ
+ p0 . Aus Randbed. für x = 0 folgt P = p(0) − p0 und damit equ. 3.42

TFH WS 2021/22 135


gänge und tritt in ähnlicher Form z.B. bei der Diffusion
von Dotieratomen in Halbleitern bei hohen Tempe-
Ladungsträgertransport
raturen auf. Die Diffusionskonstante hängt in letzterem
Fall exponentiell von der Temperatur ab.

2. Haynes-Shockley-Experiment (1951)
Ein Stück Halbleiter wird lokal durch eine Schlitzblende mit einem Lichtpuls beleuchtet.
Entlang des Halbleiters kann ein Spannungspuls angelegt werden. Mit einem verschiebbaren
Kontakt kann als Funktion des Ortes und der Zeit die Ladungsträgerverteilung gemessen
werden.

Abb. 3.7 Haynes-Shockley-


Anordnung zur Bestimmung der
Trägerverteilung in einem lokal
beleuchteten Halbleiter mit
angelegter Spannung.

Zur experimentellen Bestimmung von µ, τ , D

TFH WS 2021/22 136


Ladungsträgertransport
Haynes-Shockley-Experiment
VO 322.130 Halbleiter- und Festkörperphysik (Master Elektronik & Informationstechnik) 46
F. Schäffler, JKU, Institut für Halbleiter- und Festkörperphysik W2018

Nach dem Lichtpuls ergeben sich für die Kontinuitätsgleichung folgende Bedingungen:

E
 0 und GL = 0. Es bleiben daher in equ. 3.39 folgende Terme für die Minoritätsträger in
x
einem n-Halbleiter:
pn  p 2 p p  pn 0
 E ( x)  h  n  D p  2n  n equ. 3.43
t x dx p
Betrachtet man zunächst die Lösung ohne elektrisches Feld (kein Spannungspuls von außen),
d.h., der erste Term auf der rechten Seite verschwindet. Damit erhält man folgende
zeitabhängige Lösung der Diffusionsgleichung mit Rekombination
x2 2t
 − x − t
pn (x
pn,(t) )  ppn,0
x, t = + √N N  eeD t Dp t τp
n0 
p p
equ. 3.44
4D pt p
4πD t

N ist hier die Zahl der erzeugten e/h-Paare pro Einheitsfläche.


Die Lösung stellt eine Gaußfunktion dar, die mit der Zeit durch Diffusion verbreitert (erster
Term in der exp-Funktion) und gleichzeitig durch Rekombination zerfällt (zweiter Term in
der exp-Funktion)

TFH WS 2021/22 137


Term in der exp-Funktion) und gleichzeitig durch Rekombination zerfällt (zweiter Term in
der exp-Funktion)
Ladungsträgertransport
Haynes-Shockley-Experiment

Abb. 3.8 Lösung der Kontinuitätsgleichung


für das Haynes-Shockley-Experiment ohne
äußeres elektrisches Feld.

Läßt man zusätzlich ein konstantes elektrisches Feld zu, so ist in equ. 3.45 die x-Koordinate
in der exp-Funktion zu ersetzen durch:

x  x  h  E  t equ. 3.45
Die verbreiternde und zerfallende Gaußfunktion driftet demnach noch zusätzlich mit der
Minoritätsträgerbeweglichkeit nach rechts.

Abb. 3.9 Lösung der


Kontinuitätsgleichung für das Haynes-
Shockley-Experiment mit konstantem
äußerem elektrischem Feld.

TFH WS 2021/22 138


Der pn- Übergang
11.1 pn-Übergänge
Physikalisches Modell R. Sauer, Halbleiterphysik
Als leicht rechenbares Modell wird der abrupte Übergang gewählt; bei ihm ändert sich die
Dotierung ND(x) – NA(x) von der n-Seite zur p-Seite sprunghaft. Solche steilen Profile lassen
sich angenähert durch MBE-Wachstum oder durch Legierung erreichen. • Abrupter Übergang
Ebenfalls analytisch rechenbar – aber mit größerem Aufwand – ist der linear gradierte Über-
gang; bei ihm ändert sich das Dotierprofil von der n-Seite zur p-Seite linear. Dotierprofile bei
2
Diffusion folgen einer Gauß-Funktion (Typ: e − x ) oder einer erfc(x)-Funktion; beide kön-
nen im wesentlichen Teil grob durch eine lineare Funktion angenähert werden.
Für das physikalische Verständnis von pn-Übergängen und bipolaren Transistoren ist der
genaue Verlauf des Dotierprofils nicht wichtig.
Weitere Modellannahmen:
• Die Dotierprofile ND(x), NA(x) sind konstant (homogene Dotierung).
• Völlige Störstellenerschöpfung: ND = ND+ = nno, NA = NA- = ppo.
• In einem Bereich um x = 0, der Raumladungszone (RLZ), sind Elektronen und Löcher
vollständig rekombiniert.

Bemerkungen zum Modell:


Im Übergangsgebiet von n- zu p-Dotierung, der Verarmungszone („depletion layer“) oder
auch Raumladungszone (RLZ), sind Elektronen und Löcher rekombiniert. Die Raumladung
in dieser Zone wird durch die übrigbleibenden ortsfesten Rümpfe von Donatoren und Akzep-
toren verursacht. Die Konzentrationen n und p von Elektronen und Löchern in der Raumla-
dungszone werden im einfachen Modell zu Null gesetzt. Das ist streng genommen falsch, da
n no ⋅ p no = n po ⋅ p po = n i2 (vgl. „saubere“ Lösung der Poissongleichung ohne diese Annah-
me auf S. 152
293). Der abrupte Sprung der Raumladungsdichte ρ(x) von der RLZ zu den Neu-
tralgebieten ist durch die kleine Abschirmlänge/Debye-Länge LD gerechtfertigt (siehe Zu-
sammenhang zwischen Raumladungszonenweite W und LD auf S. 146 285).
TFH WS 2021/22 139
Der pn-Übergang
Physikalisches Modell

selpicnirP
+
n selpicnirP p
As B−
h+

e−
M
Metallurgical junction

Neutral n-region E0 Neutral p-region

M f
Space charge region
Wn Wp n
Stationäre Gleichgewichtsraumladungszone: e/h-Diffusionsströme und Driftströme heben sich für
beide Ladungsträgersorten auf. EF wird ortsunabhängig.

TFH WS 2021/22
ni
140
Der pn-282Übergang 11 Gleichrichtende Übergänge
Physikalisches Modell R. Sauer, Halbleiterphysik
Abrupter pn-Übergang
mit Raumladungsdichte,
elektrischem Feld, elektro-
statischem Potential und
Bandschema. Die Indizie-
rung n und p bezieht sich
auf die n- bzw. p-Gebiete,
der Index 0 auf das ther-
mische Gleichgewicht.

Diffusionsspannung
(“built-in voltage”) Vbi :
Vbi = Vn − Vp =
 
kT nn0 pp0
= ln + ln
|e| ni ni
pp0 n kT ND NA
Ei − EF = kT ln n EF − Ei = kT ln nn0 , Seite 117, (2.38), (2.40)
i = ln
ni2
i
|e|
Beispielwerte für Si:
ND = 1015 cm−3 ,
-|e|Vp Ei NA = 1020 cm−3 ,
-|e|Vn
ni = 1.07 × 1010 cm−3 →
qVbi = 0.89 eV.
Die gewählten Werte ent-
sprechen einem einseiti-

gen“ pn-Übergang;

TFH WS 2021/22 141


qVbi liegt in der Regel knapp unter dem Wert von Eg. Für ND = NL und NA = NV (Grenzfall
entarteter Dotierung) ist qV
Der pn-Übergang bi = Eg. Siehe zum Entartungsfall aber die obige Bemerkung bzgl.
der Gültigkeit der benutzten Formeln.
Quantitative Darstellung R. Sauer, Halbleiterphysik
Mit dem Massenwirkungsgesetz nnopno = npoppo = ni2 folgt

n po = n no e −qVbi / kT
kT n no kT p po
Vbi = ln = ln oder
q n po q p no p no = p poe − qVbi / kT

Physikalisch bedeuten diese Gleichungen „Aktivierungs“- oder Arrhenius-Gesetze bzgl. der


Barriere qVbi. Sie verknüpfen n und p auf beiden Seiten der Raumladungszone.

Quantitative Darstellung des pn-Übergangs:


Berechnung von Feld E(x) und Potentialverlauf V(x) aus der gegebenen Raumladungsdichte
ρ( x ) durch Lösen der Poisson-Gleichung.

Poisson-Gleichung:
∂E ρ(x )

∂ 2V
∂x 2
=
∂x
= =
q
εε 0 εε 0
{ p(x ) − n(x ) + N D − NA } mit p(x), n(x) = 0 in der RLZ.

284Voraussetzung des abrupten Übergangs gilt:


Nach 11 Gleichrichtende Übergänge

 ∂E q
 ∂x = − εε N A für - x p ≤ x ≤ 0
 0

 ∂E q
 ∂x = + εε N D für 0 ≤ x ≤ x n
 0

Integration der Gleichungen führt zum elektrischen Feld E(x)

TFH WS 2021/22 142



 ∂E q
Der pn-Übergang  ∂x = + εε N D für 0 ≤ x ≤ x n
 0
Quantitative Darstellung R. Sauer, Halbleiterphysik
Integration der Gleichungen führt zum elektrischen Feld E(x)

E( x ) = −
qN A
εε 0
(
x + xp ) für − x p ≤ x ≤ 0

qN D
E( x ) = (x − x n ) für 0 ≤ x ≤ xn
εε0

− qN D x n −qN A x p
Die Feldstärke ist maximal bei x = 0: Em = =
εε0 εε0
und stetig für ND xn = NA xp
Das Potential ergibt sich durch nochmalige Integration mit den Randbedingungen:

( )
V − x p = 0

V(0 ) : Forderung nach stetigem Anschluß von der n - und der p - Seite her

Daraus folgt:

 qN A
(
V(x ) = 2εε x + x p
2
) für - x p ≤ x ≤ 0
 0

 qN D  1 2  qN A 2
V(x ) = − εε  2 x − x n x  + 2εε x p für 0 ≤ x ≤ x n
 0   0

− xn )2 +
qN qND 2 qNA 2
V (x ) = − 2εεD (x x
2εε0 n
+ x
2εε0 p
für 0 ≤ x ≤ xn
0
Diffusionsspannung
qN D qN A
TFH Vbi = V(x n ) = x 2n + 2
x p 2021/22
WS 143
 qN A
(
V(x ) = 2εε x + x p
2
) für - x p ≤ x ≤ 0
Der pn-Übergang  0

Quantitative Darstellung  qN D  1 2  qN A 2 R. Sauer, Halbleiterphysik
V(x ) = − εε  2 x − x n x  + 2εε x p für 0 ≤ x ≤ x n
 0   0

Diffusionsspannung
qN D 2 qN A 2
Vbi = V(x n ) = xn + xp
2εε 0 2εε 0

Die Neutralitätsbedingung NDxn = NAxp ist eine zweite Beziehungsgleichung für xn und xp,
so daß man nach xn und xp auflösen kann:

2εε0 NA 2εε0 ND
xn = Vbi und x p = Vbi
11.1 pn-Übergänge q N D (N D + N A ) q N A (N D + N A ) 285

2εε0 N D + N A
Daraus folgt die Weite W = xn+xp der RLZ: W= ⋅ ⋅ Vbi
q ND ⋅ NA

2εε 0 1
Für den einseitigen pn-Übergang mit NA >> ND: W= ⋅ ⋅ Vbi
q ND

Bei externer Vorspannung (Sperrspannung) Vext ist Vbi durch (Vbi+Vext) zu ersetzen.
Zahlenbeispiel:
Zahlenbeispiel:15ND-3= 1015 cm −3
, NA = 1020 (wie vorher) → W = 1.05 µm.
ND = 10 cm , NA = 1020cm-3 (wie oben):
W = 1,05 µ
Eine genauere Betrachtung nimmt die Ab-
schirmung der festen Ionenladungen durch
TFH
die Majoritätsträger in den Übergangsgebie-
WS 2021/22 144
n p bi
q ND ⋅ NA

Der pn-Übergang 2εε 0 1


Für den einseitigen pn-Übergang mit NA >> ND:
Quantitative Darstellung W= R.⋅ Sauer,
⋅ Vbi Halbleiterphysik
q ND

Bei externer Vorspannung (Sperrspannung) Vext ist Vbi durch (Vbi+Vext) zu ersetzen.
Zahlenbeispiel:
ND = 1015cm-3, NA = 1020cm-3 (wie oben):
W = 1,05 µ
Eine genauere Betrachtung nimmt die Ab-
schirmung der festen Ionenladungen durch
die Majoritätsträger in den Übergangsgebie-
ten von der Raumladungszone zu den Neu-
tralgebieten bei xn und –xp mit. Die freien
Ladungsträger schirmen die Raumladungen
innerhalb der Debye-Länge LD ab, so daß
folgt:

2εε0  2kT 
q
 qV  εε0 kT
W=  Vbi −  = L D 2 bi − 2  für NA >> ND mit LD =
qN D  q   kT  q 2 ND

„Aufweichung“ des für die Weite W verantwortlichen Gebiets der RLZ


15 −3 20
D L=
Wert für Si mit L DN=
Zahlenbeispiel: Di 10
n i ncm
no und,NA≈
LDi =4010µm: , LW
D = 0.13µµm (wie vorher) → W = 1.02 µm.
= 0,89

Raumladungszonenkapazität des pn-Übergangs


In Sperrrichtung hat der pn-Übergang eine Verar-
mungskapazität („depletion capacitance“). Der pn-
Übergang kann als Kondensator betrachtet wer-
den: Zwischen leitenden Bereichen (den Neutral-
TFH gebieten) befindet sich ein nichtleitendes
WSDielek-
2021/22 145
Der pn-Übergang
11.1 pn-Übergänge 287
Quantitative Darstellung R. Sauer, Halbleiterphysik
Zusammenhang von W und LD
2εε 0 1
W= ⋅ ⋅ Vbi für den einseitig abrupten Übergang, NA >> ND
q ND

kT n no p po
Mit ND = n0 und Vbi = ⋅ ln folgt:
q n i2

εε 0 kT 1 n no p po
W= ⋅ ⋅ 2 ln
q2 n no n i2

LD,no
Die zweite Wurzel besitzt eine sehr schwache Dotierabhängigkeit wegen der ln-Funktion,
wie man aus dem folgenden Beispiel sieht:
nno = 1015 cm-3 nno = 1020 cm-3
ppo = 1020 cm-3 ≈ 8,2 ppo = 1020 cm-3 ≈ 9,5

Daher hat man die Relation: W ≈ (8...10)× L D, no

Diese Relation begründet die frühere Annahme sprunghaften Verhaltens von ρ( x ) bei den
Übergängen von der Raumladungszone zu den Neutralgebieten im Vergleich zu der Weite
der Raumladungszone.

2 2
Für einen nicht-einseitig abrupten Übergang erhält man: W ≈ (8...10) × L D, no + L D, po .

TFH Charakterisierung tiefer DefekteWSdurch


2021/22Kapazitätsspektroskopie: 146
11.2 Gepolter pn-Übergang:
Der pn-Übergang Strom-Spannungs-Kennlinie (ideal)
. . . bei angelegter Spannung: Die ideale Strom-Spannungs-Kennlinie R. Sauer, Halbleiterphysik
Wir behandeln den gepolten pn-Übergang nach dem idealisierten Shockley-Modell, basie-
rend auf folgenden Annahmen:
(1) Abrupter Übergang (wie bisher)
(2) Boltzmann-Näherung
(3) „Low injection“ (kleine Ströme): np << pp und pn << nn
(4) Weder Generation noch Rekombination in der RLZ außerdem: stationär ⇒ ∇j n/p = 0 in RLZ

Es wird ferner vorausgesetzt, daß die angelegte Spannung nur an der Raumladungszone
abfällt, nicht dagegen an den genügend leitend vorausgesetzten n- und p-Gebieten. Dort hat
man also den Flachbandfall. In der Raumladungszone herrscht bei Gültigkeit von Annahme
(4) Quasi-Gleichgewicht, die Quasi-Ferminiveaus EFe und EFh sind also konstant.
Im Quasi-Gleichgewicht gilt:

n = n i ⋅ e φn / kT φ n oder φ e = E eF − E Fi

− φp / kT
p = ni ⋅ e φ p oder φ h = E hF − E Fi

Das Massenwirkungsgesetz heißt dann


qV
(φ n − φ p )/ kT
np = n i2e = n i2e kT

da φn - φp = ΔE F = qV
ni2 qV qV
Daraus folgt: np = e kT = np0 e kT da pp ≈ pp0 Wichtige Randbedingungen bei
Daraus folgt: pp xn und –xp , die wesentlich in die
ni2 qV qV Strom- Spannungs-Kennlinie des
n i2pn kT= n e kT
qV qV = p e kT da n ≈ n
n0 da p ≈ p n n0 gepolten pn-Übergangs eingehen.
np = e = nnpo e kT p po

TFH
pp WS 2021/22 147
Der pn-Übergang
292
. . . bei angelegter Spannung: Die ideale Strom-Spannungs-Kennlinie 11 Gleichrichtende Übergänge
R. Sauer, Halbleiterphysik

Bandschema desBandschema
Abb. 11.4 in Vorwärtsrichtung gepolten
des in Vorwärtsrichtung gepolten pn- Übergangs.
pn-Übergangs. Der Bandverlauf
Der Bandverlauf in der
in der Raumladungszo-
Raumladungszone (RLZ)gezeichnet;
ne (RLZ) ist schematisch ist schematisch
dort trennt diegezeichnet; dortV die
angelegte Spannung trennt die angelegte
Quasi-Ferminiveaus Spannung
von Elektronen
V die Quasi-Ferminiveause h
von
und Löchern, E F und E F , um denElektronen und Löchern,
Betrag qV. Die Diffusionslängen EFeLpund
Ln und in den E F , um
h
beiden den Betrag
Neutralgebieten wer- qV .
Die Diffusionslängen
den durch Diffusion L
und und Lp in der
n Rekombination den beiden
jeweiligen Neutralgebieten
Überschuß-Minoritäten werden durch Diffusion
bestimmt.
und Rekombination der jeweiligen Überschuß-Minoritäten bestimmt.

Gedankengang im idealisierten Shockley-Modell zur Ableitung der


Strom-Spannungs-Kennlinie:
TFH
Die Elektronen- und Löcherströme sind in jedem Querschnitt des pn-Übergangs konstant.
WS 2021/22 148
Der pn-Übergang
. . . bei angelegter Spannung S. M. Sze, Kwok K. Ng, Physics of Semiconductor Devices

Ladungsträgerkonzentrationsprofile unter Vorwärts- und Rückwärtsspannung


92 CHAPTER 2. p-n JUNCTIONS

1 1

P"0

Fig. 8 Energy-band diagram, with quasi-Fermi levels for electrons and holes, and carrier dis-
tributions under (a) forward bias and (b) reverse bias.

Eqs. 48a and 48b, and to the current as given by Eqs. 50 and 5 1. Inside the depletion
region, EFn and EFpremain relatively constant. This comes about because the carrier
TFH WS 2021/22
concentrations are relatively much higher inside the depletion region, but since the 149
Der pn-Übergang
. . . bei angelegter Spannung: Die ideale Strom-Spannungs-Kennlinie

▶ Elektronen- und Löcherströme sind


in jedem Querschnitt des
pn-Übergangs (d.h. zwischen −xp
und xn ) konstant, s. Seite 147, (4).
▶ Berechnung an solchen Stellen, wo
die physikalischen Verhältnisse
einfach überschaubar sind: an den
Rändern der RLZ. −xp xn
▶ Elektronen die aus dem n-Gebiet über die durch äußere Spannung
verringerte Barriere q(Vbi –V ) fließen, sind bei –xp Minoritäten.
▶ Diffusion und Rekombination der Minoritäten (Elektronen) mit den
Majoritäten (Löcher) im feldfreien p-Gebiet, stationäre
Minoritätenkonzentration bei −xp (siehe Bsp Seite 134):
dnp ∆np d2 np
=− + Dn =0
dt τn dx 2
x +xp
mit Lösung:
√ np (x ) = np0 + ∆np (−xp )e Ln mit der Diffusionslänge
Ln = Dn τn der Elektronen im feldfreien p-Gebiet.
▶ Minoritätselektronenstrom bei −xp (rein diffusiv):
dn |e|Dn ∆np (−xp ) |e|Dn np0 |e|V
 
jn = |e|Dn = = e kT −1
TFH dx −xp L n
WS 2021/22 Ln 150
Der pn-Übergang
. . . bei angelegter Spannung: Die ideale Strom-Spannungs-Kennlinie
x −x
− L n
▶ Analog für Minoritätslöcherstrom bei xn : pn (x ) = pn0 + ∆pn (xn )e p

dp |e|Dp ∆pn (xn ) |e|Dp pn0 |e|V


 
jp = −|e|Dp = = e kT −1
dx xn Lp Lp

▶ Gesamtstromdichte j = jn + jp :
 |e|V
 5e-06 10 -5
NA = 1020 cm−3
j = js e kT −1 ND = 1015 cm−3 10 -6
4e-06
pn0 = 7.7 × 104 cm−3
10 -7
mit der Sättigungsstromdichte 3e-06 np0 = 0.77 cm−3

|Current| (A)
Dn = 33.7 cm2 /Vs

Current (A)
10 -8
2e-06 Dp = 12 cm2 /Vs
|e|Dn np0 |e|Dp pn0
js = + τn = τp = 10−6 s 10 -9
Ln Lp 1e-06 T = 300 K
10 -10
(Shockley Equation 1949) 0e+00 10 -11
bzw. 3kT/q
-1e-060.3 0.2 0.1 0.0 0.1 0.2 0.310
-12

Bias voltage (V)


r
Dn ni2 Dp ni2
r
js = |e| + |e|
τ n NA τ p ND
Eg
Temperaturabhängigkeit von js dominiert durch die von ni2 ∝ e− kT
TFH WS 2021/22 151
pn-Übergangφ(x) = qV(x) und Elektronenkonzentration n(x)
DerBandverbiegung
Exakte Lösungen der Poissongleichung R. Sauer, Halbleiterphysik
in der Raumladungszone: Exakte Lösung der Poisson-Gleichung
Bandverbiegung ϕ(x ) = qV (x ) und Elektronenkonzentration n(x ) in der Raumladungszone
▶ Die Näherung
n = p = 0 in der RLZ
ist umso besser, je
höher die Dotierung
der n- und p- Gebiete
ist. Für kleine
Dotierungen
(n, p → ni ) ergeben
sich erhebliche
Abweichungen von der
exakten Lösung.
▶ In der exakten
Rechnung gibt es
keine scharf definierten
Grenzen xn und –xp
... Näherung n = p = 0 in RLZ der RLZ.
⎯ Exakte Lösung Poisson-Gl. ▶ Im Injektionsfall ist
- - - Injektion mit qVext/kT = 10, ϕ(x ) zu lesen als
also Vext = 0,26 V bei R.T. ϕn (x ).

n2 n2 ∆EF
▶ Da
Abb. 11.5 p(x
Exakte ) =dern(x
Lösung i bzw. p(xfür
Poissongleichung
)
) einen
= n(x im therm.
i e kTÜbergang
abrupten
)
Glgw.
mit ND=1016 cm-3 und bzw.
NA= für Injektion, erhält man aus
4x1016cm-3 (konstantes Dotierprofil) im Vergleich zur Näherungslösung mit n=p=0 in der RLZ sowie bei Injektion
p(x ) p(x ) ∆E
dem Spannung
durch eine äußere Diagramm Vext=0,26 ) gemäß
V bei
p(x ln n = −u(x ) bzw. ln n = −u(x ) + kTF .
Raumtemperatur.
i i
.
Die Dotierungen ND und NA sind relativ ähnlich gewählt, damit man die Bandverbiegung
TFH
u(x) überschaubar graphisch darstellen kann. WS 2021/22 152
p( x ) p( x )
von p(x) erfaßt, nämlich als ln = − u ( x ) bzw. ln = − u ( x ) + ΔE F / kT .
ni ni
Der pn-Übergang
Reale Strom-Spannungskennlinie R. Sauer, Halbleiterphysik
11.3 Reale Strom-Spannungs-Kennlinie

Abb. 11.6 Reale Strom-Spannungs-Kennlinie in Abweichung vom idealen Schockley-Modell. Nach S.M. Sze,
Physics of Semiconductor Devices, 2nd edition, J. Wiley and Sons, 1981.

Es werden jetzt Effekte berücksichtigt, die bisher ausgelassen waren:


(1) Generation/Rekombination in der RLZ
(2) Hohe Injektion
(3) Serienwiderstand
(4) Durchbruch

TFH WS 2021/22 153


andere Bauelemente)
7.6
Der pn-Übergang Rekombinationsmechanismen GaAs, intrins. ≈ 1000 µm

Rekombination über
Wirtiefe Störstellen
behandeln R. Sauer, Halbleiterphysik
hier vorzugsweise die drei wesentlichen Rekombinationsmechanismen:
Rekombinationsmechanismen
•7.6 Rekombinationsmechanismen
Rekombination über Prozeß 1. Ordnung in der Teilchendichte,
Störstellen
▶ Klassifizierung nichtstrahlend
der Rekombinationsmechanismen
• Band-Band-Rekombination
in Potenzen der
Prozeß 2. Ordnung in der Teilchendichte, strahlend
Wir behandeln hier vorzugsweise die drei wesentlichen Rekombinationsmechanismen:
Teilchendichte:
• Auger-Rekombination Prozeß 3. Ordnung in der Teilchendichte, nichtstrahlend
• Rekombination über Prozeß 1. Ordnung in der Teilchendichte,
Störstellen nichtstrahlend
•7.6.1 RekombinationProzeß
Band-Band-Rekombination über 2.tiefe Störstellen
Ordnung in der Teilchendichte, strahlend
• Auger-Rekombination Prozeß 3. Ordnung in der Teilchendichte, nichtstrahlend
(Fallenzustände, Haftstellen, „Traps“)
Rekombination über tiefe Störstellen (Traps)
7.6.1
Literatur Rekombination über tiefe Störstellen
(Fallenzustände,
W. Shockley, W.T. Haftstellen,
Read, Phys. Rev. 87 , 835 (1952) „Traps“)
R.N. Hall, Phys. Rev. 87, 387 (1952)
Literatur
Betrachtet werden folgende Teilprozesse von Elektronen und Löchern unter Beteiligung
W. Shockley,
einer W.T. Read,
tiefen Störstelle Phys. Rev. 87,N
mit Konzentration 835 (1952)
t bei der Energie Et:
R.N. Hall, Phys. Rev. 87, 387 (1952)
1 Elektroneneinfang
Betrachtet werden folgende Teilprozesse von Elektronen und Löchern unter Beteiligung
2 thermische Emission von Elektronen
einer tiefen Störstelle mit Konzentration Nt bei der Energie Et:
3 Locheinfang
4 thermische Emission von Löchern
1 Elektroneneinfang
2 thermische Emission von Elektronen
3 Locheinfang
4 thermische Emission von Löchern
TFH WS 2021/22 154
198 7 Nichtgleichgewichtsprozesse
Der pn-Übergang
Rekombination über tiefe Störstellen R. Sauer, Halbleiterphysik
Rekombination findet statt bei Elektroneneinfang in ein Trap, das bereits von einem Loch
besetzt ist oder umgekehrt (Kopplung der Prozesse 1,2 und 3,4).

Formulierung der Prozesse für Elektronen (Index n)


 Einfangrate („capture rate“) Rcn = cn ⋅ n · Nt ⋅ (1 – ft)
 Emissionsrate („emission rate“) Ren = en ⋅ Nt ⋅ ft
Nt: Dichte der Traps;
cn,en: Einfang- bzw. Emissionskoeffizient (Einheit cm3/s bzw. 1/s)
ft: Besetzungswahrscheinlichkeit des Traps für Elektronen.
−1
 E t −E F 
Im thermischen Gleichgewicht gilt Rcn,0 = Ren,0, und es ist f t 0 =  e kT + 1 .
 
 

(
Daraus folgt der Zusammenhang zwischen en und cn: e n c n = n 0 1 − f t 0 f t 0 = n t .)
Die zur Vereinfachung gesetzte Größe nt kann man in Boltzmann-Näherung auch ausdrücken
als:
E t −EF E t −EL EF −EL
1 − ft0
n t = n0 ⋅ = n 0e kT = NL ⋅ e kT , wobei n 0 = N Le kT .
ft0

Es ist also nt die Dichte der Elektronen im Leitungsband, wenn das Ferminiveau bei der
Energie des Traps liegt, EF = Et.
TFH WS 2021/22 155
E t −EF E t −EL EF −EL
Der pn-Übergang 1 − ft0
n t = n0 ⋅ = n 0e kT = NL ⋅ e kT , wobei n 0 = N L e kT .
Rekombination über tiefe Störstellen f t 0 R. Sauer, Halbleiterphysik

Es ist also nt die Dichte der Elektronen im Leitungsband, wenn das Ferminiveau bei der
Energie des Traps liegt, EF = Et.
Im Experiment beobachtbar ist bei Anregung des Systems die Netto-Einfangrate:
R cn,net = R cn − R en = c n N t [n (1 − f t ) − n t ft]

Für Löcher findet man bei völlig analoger Betrachtung für die Netto-Einfangrate:
R cp,net = R cp − R ep = c p N t [p f t − p t (1 − f t )]

(E t − E F )
fto −
Hier wurde gesetzt: p t = p 0 = p0e kT
1 − fto

Im stationären Gleichgewicht (zeitlich konstante Anregung des Systems) sind die Netto-
Einfangraten von Elektronen und Löchern gleich groß:
Rcn,net = Rcp,net = R
Dies ist eine Verknüpfung der Prozesse 1,2 und 3,4.

TFH WS 2021/22 156


Der pn-Übergang
Rekombination über tiefe Störstellen R. Sauer, Halbleiterphysik
7.6 Rekombinationsmechanismen 199

Daraus ergibt sich als Zwischenergebnis


cn n + cpp t
ft =
c n (n + n t ) + c p (p + p t )

und nach Einsetzen dieses Ausdrucks in R unter Beachtung von ntpt = n0p0

R = Nt ⋅
(
c n c p np − n 0 p 0 ) = Nt ⋅
np − n 0 p 0
(‡)
c n (n + n t ) + c p (p + p t ) c p−1 (n + n t ) + c n−1 (p + p t )

Hier sind n = n0 + Δn und p = p0 + Δp die Gesamtkonzentrationen. Interessant sind aber die


Überschußkonzentrationen Δn, Δp. Unter der Annahme Δn = Δp (z.B. bei optischer Anre-
gung) und für kleine Anregung Δn << n0, Δp << p0 folgt:

R = Nt ⋅
n 0 Δn + p 0 Δn + Δn 2
≈ Nt ⋅
(n 0 + p0 ) Δn
c −p1 (n 0 + n t + Δn ) + c −n1 (p 0 + p t + Δn ) c −p1 (n 0 + n t ) + c −n1 (p 0 + p t )

Der Beifaktor von Δn auf der rechten Seite ist also bei kleiner Anregung konstant, und man
kann daher eine Trap-bestimmte Lebensdauer definieren als:

1 n 0 + p0
= Nt ⋅
τ trap  n 0 + n t   p0 + p t
 +  (*)

 c p   c n 
 

Grenzfälle
1 1
TFH (a) n-Typ-Halbleiter n0 >> p0, nt WS →
2021/22 = = N t ⋅ cp 157
1 n 0 + p0
Der pn-Übergang τ trap
= Nt ⋅
 n 0 + n t   p0 + p t
 + 
Rekombination über tiefe Störstellen  R. Sauer, Halbleiterphysik
 c p   c n 
 

Grenzfälle
1 1 1
(a) n-Typ-Halbleiter n0 >> p0, nt → = = N t ⋅ c p ⇒ cp = Nt τp0
τ trap τ p 0

1 1
(b) p-Typ-Halbleiter p0 >> n0, pt → = = N t ⋅ c n ⇒ cn = 1
τ trap τ n 0 Nt τn0

Einsetzen in (*)
n0 + nt p + pt
Mit dieser Notation kann man allgemein schreiben τ trap = τp 0 + τn 0 0
n 0 + p0 n 0 + p0

Weitere Betrachtungen
Es sei hier cn = cp angenommen; dann folgt τno = τpo = τo und

 E t −EF

n 0 + p0 + n t + p t n t = n 0 e kT

τ trap = τ0 mit den Abkürzungen von oben 
n 0 + p0  − (E t − E F )
p t = p 0 e kT

TFH WS 2021/22 158


Fall (1): Ferminiveau in Bandmitte (E F = E i , n 0 = p 0 )
Der pn-Übergang
Rekombination über200
tiefe Störstellen 7 Nichtgleichgewichtsprozesse
2n 0 + n 0 {exp[(E t − E i ) / kT ] + exp[− (E t − E i ) / kT ]} R. Sauer, Halbleiterphysik
τ trap = τ 0
2n 0
Fall (1): Ferminiveau in Bandmitte (E F = E i , n 0 = p 0 )
200 7 Nichtgleichgewichtsprozesse
 E − Ei 
τ trap = τ 0 1 + cosh t 
Fall (1): Ferminiveau in Bandmitte (E FkT = E i , n0 = p 0 )
2n + n 0 {exp[(E t − E i ) / kT ] + exp[− (E t − E i ) / kT ]}
τ trap = τ 0 0
Über E2Fnwurde
τ trap = τ 0 0
verfügt
+ n 0 {exp [(E t − E imit
) / kTE
] +i,exp [−2(nEkann
also 0 − E )man
t i / kT ]}
noch τtrap diskutieren als Funktion von Et. Für
Silizium bei Raumtemperatur 2n 0 ergibt sich das folgende Diagramm:
 E t − Ei 
τ trap = τ 0 1E+ cosh 
 t i  kT 
−E
τ trap = τ 0 1 + cosh
 kT 
Über
Über EF EF wurde
wurde verfügtverfügt mitkann
mit Ei, also Ei, man
alsonoch
kannτtrapman nochals
diskutieren τtrap diskutieren
Funktion als
von Et. Für Funktion von Et. Für
Silizium
Silizium bei Raumtemperatur
bei Raumtemperatur ergibt sichergibt sich Diagramm:
das folgende das folgende Diagramm:

Die Halbwertbreite der Funktion


τ0
τtrap ist ∆Et = 3.5kT ≪ Eg bei
Raumtemperatur, die Funktion ist
also recht scharf. Dieser Sachver-
halt wird oft kurz und prägnant
durch den Merksatz ausgedrückt:

“Midgap-Traps sind die effizientes-


ten Rekombinationszentren”

Abb.
Abb. 7.47.4 Reziproke
Reziproke Trap-bestimmte
Trap-bestimmte Lebensdauer Lebensdauer τ0/τtrap von Überschußladungsträgern
τ0/τtrap von Überschußladungsträgern in Silizium als Funktion der in Silizium als Funktion der
energetischen Traplage Et in der Bandlücke bei konstantem EF = Ei..
energetischen Traplage Et in der Bandlücke bei konstantem EF = Ei..

Die Halbwertbreite der Funktion τ0/τtrap ist ΔEt = 3,5kT << Eg bei Raumtemperatur, die
TFH WS 2021/22 159
Der pn-Übergang
7.6 Rekombinationsmechanismen 201
Rekombination über tiefe Störstellen R. Sauer, Halbleiterphysik
Fall (2): Ferminiveau variabel entsprechend n- oder p-Dotierung;
Et fest gewählt, z.B. in Bandmitte
Nach ähnlicher Betrachtung und Rechnung wie in Fall (1) ergibt sich ein Resultat, wie es in
der Skizze Abb. 7.5 dargestellt ist. Für cn = cp ist das Bild symmetrisch.

Abb. 7.5 Reziproke Trap-bestimmte Lebensdauer 1/ τtrap von Überschußladungsträgern als Funktion der Lage des Fermi-
niveaus EF in der Bandlücke. Im Gegensatz zu Abb. 7.4 handelt es sich hier um eine lineare Darstellung von 1/τtrap.

TFH WS 2021/22 160


Der pn-Übergang
Rekombination über tiefe Störstellen R. Sauer, Halbleiterphysik

Abb. 7.5 Reziproke Trap-bestimmte Lebensdauer 1/ τtrap von Überschußladungsträgern als Funktion der Lage des Fermi-
niveaus EF in der Bandlücke. Im Gegensatz zu Abb. 7.4 handelt es sich hier um eine lineare Darstellung von 1/τtrap.

Einflußgrößen in τno (analog τpo)


Den Einfangkoeffizienten kann man schreiben (vgl. Abschnitt 8.2.2)
c n = σ n ⋅ v therm

3kT
mit σn: Einfangquerschnitt; vtherm: thermische Geschwindigkeit, vtherm= .
m*

Es folgt der Zusammenhang:

1 1
τn 0 = analog τp 0 =
σ n v therm N t σ p v therm N t

TFH WS 2021/22 161


Der pn-Übergang
202 7 Nichtgleichgewichtsprozesse
Rekombination über tiefe Störstellen R. Sauer, Halbleiterphysik

Tab. 7.3 Werte für Einfangquerschnitte σ n , σ p von tiefen Störstellen/ Traps in Si bei Raumtemperatur.

Trap (
σ n 10 −16 cm 2 ) (
σ p 10 −16 cm 2 ) Energielage
+
Au 35...63 - EV +260 meV
Au0 2...5 - -
Au- - 10...110 EL –550 meV
Fe+ 16 - EV +400 meV
Fe0 - 3...7 EL –510 meV
Pt0 320 - EV +360 meV
Pt - - 27000 ca.-Bandlückenmitte
In0 0,4 - -
In - - 200 EV +155 meV

Beispielrechnung
τ n 0 = 1( N t ⋅ σ n ⋅ v therm )
vtherm (R.T.) ≈ 1,15x105 m/s
Für Au+ mit einer Konzentration von Nt = 1016cm-3 in Si ist dann τn0 ≈ 1,7x10-9 s << τrad .

Tiefe Störstellen (Traps) in Si, Ge und GaAs


TFH WS 2021/22 162
Der pn-Übergang
Abb. 7.6 Lage tiefer Störstellen (Traps) in Si, Ge und GaAs mit Kennzeichnung von Donator- oder Akzeptorcha-
Rekombination über tiefe Störstellen R. Sauer, Halbleiterphysik
rakter. Aus S.M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, J. Wiley & Sons (1981).

Tiefe Zentren lassen sich nach der relativen Stärke von Einfang- und Emissionsprozessen
von Elektronen und Löchern anschaulich einteilen:

Überwiegen der Prozesse Charakter des Traps


1,3: Elektronen- und Locheinfang Rekombinationszentrum
Rcn>>Rep, Rcp>>Ren

1,2: Elektroneneinfang und -emission Elektronen-Einfangzentrum


Rcn>>Rep, Ren>>Rcp (Donator-ähnlich)

3,4: Locheinfang und -emission Loch-Einfangzentrum


Rcp>>Ren, Rep>>Rcn (Akzeptor-ähnlich)

2,4: Elektronen- und Lochemission Generationszentrum


Ren>>Rcp, Rep>>Rcn

TFH WS 2021/22 163


Der pn-Übergang
Reale Strom-Spannungskennlinie: Generation/Rekombination in RLZ

Sperrrichtung
▶ im starken E -Feld in der RLZ
werden die thermisch generierten
Elektron-Lochpaare sofort
getrennt.
▶ Löcher/Elektr. (h/e) verlassen
RLZ in Richtung p/n-Seite.
▶ 1-dim., stationäre
h,e
dj
Kontinuitätsglg.: ± 1e dx
G
= G(x ). R. F. Pierret, Semiconductor device fundamentals, Addison-Wesley, 1996

Z xn
∆jGe = jGe (xn ) − jGe (−xp ) = −e G(x ) dx bzw. für Löcher:
−xp
| {z }
=0
Z −xp Z xn
∆jGh = jGh (−xp ) − jGh (xn ) = e G(x ) dx = −e G(x ) dx , d.h
xn −xp
| {z }
=0

⇒ j eG (x n ) = j hG (−x p ) ≡ jG

TFH WS 2021/22 164


Der pn-Übergang
Reale Strom-Spannungskennlinie: Näherungen für die Generationsrate G

qVr
▶ für Rückwärtsspannungen Vr < −3kT /q: np = ni2 e kT < ni2 e−3 ≪ n0 p0
▶ für EFn < Et − 2kT und EFp > Et + 2kT : n ≪ nt , p ≪ pt .
n0 p0
▶ Seite 157, (‡): R ≈ −Nt ≡ −G, mit räuml. konstanter
cp−1 nt+ cn−1 pt
Generationsrate G.
▶ weiteres Umformen von G:

ni2 ni
G = Nt = Nt −1 =
cp−1 nt+ cn−1 pt cp nt /ni + cn−1 pt /ni
ni
= Nt −1 (E −E )/kT
cp e t i + cn−1 e(Ei −Et )/kT
ni ni
= ≡
τp0 e(Et −Ei )/kT + τn0 e(Ei −Et )/kT τeff
R xn R xn
⇒ jG = −e −xp
G(x ) dx = −e τneffi −xp
dx = −e τneffi W

TFH WS 2021/22 165


Details zu diesen Prozessen:

Der pn-Übergang
(1) Generation/Rekombination
Reale Strom-Spannungskennlinie: in der RLZ
Generation/Rekombination über tiefe Traps
in RLZ R. Sauer, Halbleiterphysik
Rückwärtspolung:
Die RLZ ist ausgeräumt, Generation aus tiefen Traps dominant. Trap: Energetisch tief in der
Bandlücke liegende Störstelle
Die Generationsrate läßt sich schreiben als:
ni (Dies ist ein grundlegender Ansatz, eine Varation von G über
G=−
τeff die RLZ kann über einen „Mittelungsfaktor“ oder in τeff be-
rücksichtigt werden.)

1 Dies gilt für die Generation aus Traps (die oft bewußt einge-
τeff ≈ baut werden), siehe Abschnitt 7.6 über Rekombinationsmecha-
N t σv th
nismen. Reverse diode current (A) at V = −5 V

Mit diesen Ausdrücken wird die Generationsstromdichte 10-4 Ge Photodiode


323 K
10-6 0.63 eV
qn i W
|jGen| =  q | G | dx =
RLZ
τeff
, wobei W ~ Vbi + V
10-8

10-10
0.33 eV
Dp n i2 n W 238 K
j s , total = q ⋅ +q i 10-12
τp ND τ eff
10-14
Neutralgebiet RLZ
10-16
Tendenz: dominant für dominant für 0.002 0.004 0.006 0.008
HL mit großem HL mit kleinem 1/Temperature
1/Temperature (1/K)
(1/K)
D. Scansen, S.O. Kasap, Cnd. J.
ni (Eg klein) ni (Eg groß)
Physics, 70, 1070 (1992)
Die gesamte Sperrstromdichte js,total setzt sich aus dem Term im Neutralgebiet gemäß dem
idealisierten Shockley-Modell und einem Term durch Ladungsträgergeneration aus tiefen
TFH
Fallenzuständen in der RLZ zusammen. WS 2021/22 166
Der pn-Übergang
Reale Strom-Spannungskennlinie: Generation/Rekombination in RLZ

Vorwärtsrichtung
▶ injizierte freie Ladungsträger können nicht
mehr vernachlässigt werden.
▶ Seite 157 (‡) u. Umformungen Seite 165:

ni (eqV /kT − 1)
R= (E i )/kT ] + τn0 [ e(Ei −Et )/kT ]
p
τp0 [ nni + e t −E
i n
+

▶ Wir nehmen an: Et = Ei , τp0 = τn0 ≡ τ :

ni (eqV /kT − 1) R. F. Pierret, Semiconductor device fundamen-


R= tals, Addison-Wesley, 1996
τ [e(EFn −Ei )/kT + e(Ei −EFp )/kT + 2]

▶ R maximal für symmetrisch dotierte Dioden, d.h. für Ei = (EFn + EFp )/2

ni (eqV /kT − 1) ni (eqV /kT − 1) V >kT /q ni qV /2kT


Rmax = (EFn −EFp )/2kT
= −→ e
τ [2e + 2] 2τ [eqV /2kT + 1] 2τ
h,e
dj
▶ 1-dim., stationäre Kontinuitätsglg.: ± 1 R
= −R(x ).
e dx

TFH WS 2021/22 167


Der pn-Übergang
Reale Strom-Spannungskennlinie: Generation/Rekombination in RLZ

R. F. Pierret, Semiconductor device fundamen-


tals, Addison-Wesley, 1996

Z xn Z xn
eni qV /2kT eni W qV /2kT
jR = e R(x ) dx ≈ e dx = e
−xp
2τ −xp

▶ wir haben angenommen, dass über die ganze RLZ die Rekombinationsrate
den maximalen Wert Rmax hat.
▶ Resultat ist daher als obere Grenze für jR zu verstehen.

TFH WS 2021/22 168


Die gesamte Sperrstromdichte js,total setzt sich aus dem Term im Neutralgebiet gemäß dem
idealisierten Shockley-Modell und einem Term durch Ladungsträgergeneration aus tiefen
Der pn-Übergang
Fallenzuständen in der RLZ zusammen.
Reale Strom-Spannungskennlinie: Generation/Rekombination in RLZ R. Sauer, Halbleiterphysik
Vorwärtspolung:
Die RLZ ist „überflutet“, Rekombination über tiefe Traps dominant. Die Rekombinationsrate
ergibt sich nach Abschnitt 7.6 für Et = Ei und cn = cp mit einem maximalem Wert bei

( )
E i = 1 2 E eF + E hF zu R max =
1 n i e qV / 2 kT
τeff

2
298 11 Gleichrichtende Übergänge
Die Rechnung läßt sich unkompliziert durchführen, wird hier aber übergangen.
Es folgt

qW
jRe k =  qRdx ≈ τ
RLZ eff
n i ⋅ eqV / 2 kT

Für NA >> ND , V > kT/q wird dann:

Dp n i2 qV / kT nW
js, total = q ⋅ e + q i e qV / 2 kT
τp ND τeff

Der gesamte Vorwärtsstrom js,total setzt sich aus dem Term im Neutralgebiet gemäß dem
idealisierten Shockley-Modell und einem Term durch Ladungsträgerrekombination über tiefe
Fallenzustände in der RLZ zusammen. Experiment: js,total ∼ exp(qV /nkT )
Der Faktor bei kT im Exponenten-Nenner der exp-Funktion (oft auch n genannt) heißt Ideali-
tätsfaktor:

n=1 „ideale“ Kennlinie (Shockley-Theorie)


n=2 Raumladungsstrombestimmte reale Kennlinie
TFH WS 2021/22 169
ni ni
Der pn-Übergang
Reale Strom-Spannungskennlinie: Generation/Rekombination in RLZ R. Sauer, Halbleiterphysik
11.3 Reale Strom-Spannungs-Kennlinie

Abb. 11.6 Reale Strom-Spannungs-Kennlinie in Abweichung vom idealen Schockley-Modell. Nach S.M. Sze,
Physics of Semiconductor Devices, 2nd edition, J. Wiley and Sons, 1981.

Es werden jetzt Effekte berücksichtigt, die bisher ausgelassen waren:


(1) Generation/Rekombination in der RLZ
TFH (2) Hohe Injektion WS 2021/22 170
Magneto-Transport
Bewegungsgleichung für Ladungsträger im Halbleiter unter Einwirkung eines Magnetfelds
▶ zusätzlich zum elektrischem Feld E wirkt auch ein Magnetfeld B auf die
Elektronen oder Löcher im Halbleiter
▶ Magnetfeld ruft Lorentzkraft F L hervor, die ⊥ auf die
Ladungsträgergeschwindigkeit v h/e und B steht:
h/e
FL = ±q(v h/e × B)
▶ Bewegungsgleichung für Ladungsträger (für isotropes τ und m∗ ):

d2 r h/e
  
m∗ dr h/e dr h/e
m∗ 2
+ = ±q E + ×B
dt τ dt dt

Reibungsfreie Lösung (τ → ∞) für Elektronen und E = 0:


▶ Kraft ⊥ Geschwindigkeit ⇒ Kreisbahn
▶ Umlauffrequenz ωc = qB/m∗
(Zyklotronfrequenz)
▶ gleichförmige Bewegung entlang B

TFH WS 2021/22 171


Magneto-Transport
Bewegungsgleichung für Ladungsträger im Halbleiter unter Einwirkung eines Magnetfelds

Stationäre Lösung ( dv
dt = 0):


h  i
h/e h/e
Driftgeschwindigkeit v d =± E + vd × B
m∗

▶ weiter für Elektronen (für Löcher: Vorzeichen vor q bzw. ωc umkehren).


▶ ohne Beschränkung der Allgemeinheit: B = Be z (B definiert die z-Achse)
▶ In Komponenten für v d bzw. j [nach Multiplikation mit (−qn)]:

qτ nq 2 τ qτ Bz
vd,x = − (Ex + vd,y Bz ) ⇒ jx = Ex − jy
m∗ m∗ m∗
qτ nq 2 τ qτ Bz
vd,y = − ∗ (Ey − vd,x Bz ) ⇒ jy = Ey + jx
m m∗ m∗
qτ nq 2 τ
vd,z = − ∗ Ez ⇒ jz = Ez
m m∗

TFH WS 2021/22 172


Magneto-Transport
Bewegungsgleichung für Ladungsträger im Halbleiter unter Einwirkung eines Magnetfelds
▶ Auflösen nach den Stromkomponenten ergibt (mit der schon besprochenen
nq 2 τ
elektrischen Leitfähigkeit ohne Magnetfeld σ0 = m∗
und der klassischen
Zyklotronresonanzfrequenz ωc = qB m∗
z
)

σ0
jx = (Ex − ωc τ Ey )
1 + (ωc τ )2
σ0
jy = (Ey + ωc τ Ex )
1 + (ωc τ )2
jz = σ0 Ez

▶ in Matrixschreibweise und mit der Definition des Leitfähigkeitstensors σ e


für Elektronen:
σ
z }|0 {
1 −ωc τ 0
!
2
nq τ /m∗
j= ωc τ 1 0 E ≡ σe E
1 + (ωc τ )2
0 0 1 + (ωc τ )2

1 ωc τ 0
!
σ0
σh = −ωc τ 1 0
1 + (ωc τ )2
0 0 1 + (ωc τ )2
TFH WS 2021/22 173
Magneto-Transport
Bewegungsgleichung für Ladungsträger im Halbleiter unter Einwirkung eines Magnetfelds

Zwei Einflüsse des Magnetfelds auf Leitfähigkeit:


1. Die Leitfähigkeit ⊥ zum Magnetfeld wird um den Faktor 1+(ω1c τ )2 kleiner,
d.h. es gibt einen Magnetowiderstand ρ, der mit B steigt (für kleine B
proportional zu B 2 )

Corbino-Geometrie zur Messung des Magnetowiderstands


2. Das Magnetfeld erzeugt einen Strom ⊥ zum elektrischen Feld, der durch
die Matrixelemente des Leitfähigkeittensors außerhalb der Diagonale
(linear in B) beschrieben wird. Diese rufen den Halleffekt hervor, der im
nächsten Abschnitt diskutiert wird.

TFH WS 2021/22 174


Magneto-Transport
Der Hall-Effekt

▶ Beim Halleffekt wird die (a) B


Stromrichtung experimentell t
kontrolliert: jy ,z = 0 und das E 2 4 Hall
x 3
Feld ergibt sich aus diesen Voltage
5 1 V
Randbedingungen: z y V'
▶ Wir invertieren j = σE und Resistivity
erhalten E = ρj mit I
Current Source
P. Y. 5.16a,
Fig. Yu, M.b.Cardona,
Sample Fundamentals of Semiconductors,
geometries for performing Hall measu
Springer, 2001
form of a bar and (b) sample in the form of a thin film wh
1 ±ωc τ 0Pauw
!
−1 1
method [5.39]. B denotes the magnetic field. I stands f
ρe,h = σ e,h = σ0
∓ωc τ 1 0V represents
als Widerstandstensor.
the meter for measuring the Hall voltage
0 0 1
1
▶ Aus E = ρe,h e x jx erhält man daher Ex = j und
σ0 x
Ey = ∓ ωσc0τ jx .
▶ Das elektrische Feld Ey wird Hallfeld EH ≡ ∓ ωσc τ jx
0
genannt. Die
Lorentzkraft treibt Ladungsträger an den Probenrand, diese bauen das
Hallfeld auf bis es die Lorentzkraft kompensiert und der Strom dann nur
noch in x -Richtung fließt.
▶ Die Richtung von EH hängt vom Laduntsträgertyp (e,h) ab und erlaubt
daher dessen experimentelle Bestimmung.
TFH WS 2021/22 175
Magneto-Transport
Der Hall-Effekt

(a) B
Experiment t
▶ B einstellen (Spule) 2
3 4 Hall
I x Voltage
▶ Stromquelle prägt I ein, jx = 5 1
A V

▶ V15 und V12 hochohmig z y V'
messen Resistivity
▶ Probengeometrie ist bekannt, I
′ Current Source
Ex = −V15 /d15 , EH = −V12 /d12
P. Y. 5.16a,
Fig. Yu, M.b.Cardona,
Sample Fundamentals of Semiconductors,
geometries for performing Hall measu
▶ RH ≡ jx B = ∓ωσc0τ jx jx1B = qn∓1
Ey
e,h
Springer, 2001
form of a bar and (b) sample in the form of a thin film wh
▶ Der Hallfaktor RH ist das Verhältnis Pauw method [5.39]. B denotes the magnetic field. I stands f
der zwei Einstellgrößen jx und B und
V represents the meter for measuring the Hall voltage
der Systemantwort und lässt sich messen: RH = − IdAV1212B
Id12 B IB !
⇒ ne,h = ± =± >0
qAV12 qtV12
▶ je nach VZ von V12 → oberes/unteres VZ für positiven Wert für Teil-
chenkonzentration ne,h notwendig → Elektronen/Löcher (Spannungs-
differenzen, Ströme und Magnetfeld entsprechend der positiven Achsen
eines RH Koordinatensystems messen).

TFH WS 2021/22 175


Magneto-Transport
Der Hall-Effekt

(a) B
Experiment t
▶ B einstellen (Spule) 2
3 4 Hall
I x Voltage
▶ Stromquelle prägt I ein, jx = 5 1
A V

▶ V15 und V12 hochohmig z y V'
messen Resistivity
▶ Probengeometrie ist bekannt, I
′ Current Source
Ex = −V15 /d15 , EH = −V12 /d12
P. Y. 5.16a,
Fig. Yu, M.b.Cardona,
Sample Fundamentals of Semiconductors,
geometries for performing Hall measu
▶ RH ≡ jx B = ∓ωσc0τ jx jx1B = qn∓1
Ey
e,h
Springer, 2001
form of a bar and (b) sample in the form of a thin film wh
▶ Der Hallfaktor RH ist das Verhältnis Pauw method [5.39]. B denotes the magnetic field. I stands f
der zwei Einstellgrößen jx und B und
V represents the meter for measuring the Hall voltage
der Systemantwort und lässt sich messen: RH = − IdAV1212B
Id12 B IB !
⇒ ne,h = ± =± >0
qAV12 qtV12
▶ Damit auch Ladungsträgerbew. µe,h und -art bestimmbar:

VZ von V12 , V15
σ0 jx Id15 qtV12 1 d15 V12 ! ungleich: e;
µe,h = = =∓ ′
=∓ ′
>0 gleich: h.
qne,h Ex qne,h AV15 q IB B d12 V15
▶ Halleffekt wichtig zur Charakterisierung von Halbleitern, incl. T-Abh.!
TFH WS 2021/22 175
Grenze (X-Punkt). Ge hat die Leitungsbandminima am L-Punkt, d.h. auf der Zonengrenze in
den acht äquivalenten <111>-Richtungen. GaAs hat ein Leitungsbandminium bei k=0, also
Optische Eigenschaften am -Punkt. Nur im GaAs liegen demnach Valenzbandmaximum und Leitungsbandminimum
Lichtabsorption und -emission durch an
Übergänge
der gleichenvon Elektonen
Stelle im k-Raum.zwischen VB
Man spricht und
von LBdirekten
einem im direkten Halbleiter
Halbleiter, weil optische
Übergänge vom Valenzbandmaximum zum Leitungsbandminimum unter Einhalten von
▶ Quantentheorie: Licht hat auch indirekter HL direkter HL

Teilchen-Charakter.
Si GaAs
▶ bei der Absorption (Emission) müssen
Energie (ℏωp ) und Impuls (ℏk p ) des
absorbierten Lichtteilchens (bezeichnet als 3
”Photon”) erhalten bleiben.
2
▶ Eigenschaften der Elektronenzustände:

Energie [eV]
Ener Im Bloch 1

gie puls Wellenfunktion 0


Startz. Ei ℏk i ∝ eik i r uni k i (r )
-1
Endz. Ef ℏk f ∝ eik f r unf k f (r )
▶ Energieerh.: Ef − Ei = ℏωp -2

Impulserh.: k f − k i = k p

Abb. 2.6 Bandstrukturen von Ge, Si und GaAs. Die Bandlücke EG separiert die nach unten gekrümmten
Valenzbänder von den nach oben gekrümmten Leitungsbändern. GaAs ist ein direkter Halbleiter, Si und
Ge sind indirekte Halbleiter.

TFH WS 2021/22 176


Si hat sechs Leitungsband-Minima in den sechs äquivalenten <100>-Richtungen nahe der BZ-
Grenze (X-Punkt). Ge hat die Leitungsbandminima am L-Punkt, d.h. auf der Zonengrenze in
Optische Eigenschaften den acht äquivalenten <111>-Richtungen. GaAs hat ein Leitungsbandminium bei k=0, also
Lichtabsorption und -emission durch am -Punkt. Nur
Übergänge vonimElektonen
GaAs liegenzwischen VB und LB im direkten
demnach Valenzbandmaximum Halbleiter
und Leitungsbandminimum
an der gleichen Stelle im k-Raum. Man spricht von einem direkten Halbleiter, weil optische
Übergänge vom Valenzbandmaximum zum Leitungsbandminimum unter Einhalten von
▶ Energieerh.: Ef − Ei = ℏωp indirekter HL direkter HL

Impulserh.: k f − k i = ? wie groß ist k p ?


Si GaAs

2
Ef

Energie [eV]
1 Ef

0 Ei Ei

-1

-2

Abb. 2.6 Bandstrukturen von Ge, Si und GaAs. Die Bandlücke EG separiert die nach unten gekrümmten
Valenzbänder von den nach oben gekrümmten Leitungsbändern. GaAs ist ein direkter Halbleiter, Si und
Ge sind indirekte Halbleiter.

TFH WS 2021/22 176


Si hat sechs Leitungsband-Minima in den sechs äquivalenten <100>-Richtungen nahe der BZ-
Grenze (X-Punkt). Ge hat die Leitungsbandminima am L-Punkt, d.h. auf der Zonengrenze in
Optische Eigenschaften den acht äquivalenten <111>-Richtungen. GaAs hat ein Leitungsbandminium bei k=0, also
Lichtabsorption und -emission durch am -Punkt. Nur
Übergänge vonimElektonen
GaAs liegenzwischen VB und LB im direkten
demnach Valenzbandmaximum Halbleiter
und Leitungsbandminimum
an der gleichen Stelle im k-Raum. Man spricht von einem direkten Halbleiter, weil optische
Übergänge vom Valenzbandmaximum zum Leitungsbandminimum unter Einhalten von
▶ Energieerh.: Ef − Ei = ℏωp indirekter HL direkter HL

Impulserh.: k f − k i = ? wie groß ist k p ?


Si GaAs
▶ Lichtwellenvektor k p :
E = ℏω ≡ Eg ≈ 1 eV
k p = cωl = ℏcE l ≈ 5 × 106 m−1 3

2
Ef

Energie [eV]
1 Ef

0 Ei Ei

-1

-2

Abb. 2.6 Bandstrukturen von Ge, Si und GaAs. Die Bandlücke EG separiert die nach unten gekrümmten
Valenzbänder von den nach oben gekrümmten Leitungsbändern. GaAs ist ein direkter Halbleiter, Si und
Ge sind indirekte Halbleiter.

TFH WS 2021/22 176


Si hat sechs Leitungsband-Minima in den sechs äquivalenten <100>-Richtungen nahe der BZ-
Grenze (X-Punkt). Ge hat die Leitungsbandminima am L-Punkt, d.h. auf der Zonengrenze in
Optische Eigenschaften den acht äquivalenten <111>-Richtungen. GaAs hat ein Leitungsbandminium bei k=0, also
Lichtabsorption und -emission durch am -Punkt. Nur
Übergänge vonimElektonen
GaAs liegenzwischen VB und LB im direkten
demnach Valenzbandmaximum Halbleiter
und Leitungsbandminimum
an der gleichen Stelle im k-Raum. Man spricht von einem direkten Halbleiter, weil optische
Übergänge vom Valenzbandmaximum zum Leitungsbandminimum unter Einhalten von
▶ Energieerh.: Ef − Ei = ℏωp indirekter HL direkter HL

Impulserh.: k f − k i = ? wie groß ist k p ?


Si GaAs
▶ Lichtwellenvektor k p :
E = ℏω ≡ Eg ≈ 1 eV
k p = cωl = ℏcE l ≈ 5 × 106 m−1 3
▶ Wellenvektorskala:
2
Γ : k = 0 m−1 , Ef

Energie [eV]
X: k = 2π
a
≈ 1.1 × 1010 m−1 mit der 1 Ef

Gitterkonstante der konv. EZ 0 Ei Ei


a ≈ 5.5 × 10−10 m.
-1

-2

0 1010 m−1 0 1010 m−1

kp kp
Abb. 2.6 Bandstrukturen von Ge, Si und GaAs. Die Bandlücke EG separiert die nach unten gekrümmten
Valenzbänder von den nach oben gekrümmten Leitungsbändern. GaAs ist ein direkter Halbleiter, Si und
Ge sind indirekte Halbleiter.

TFH WS 2021/22 176


Si hat sechs Leitungsband-Minima in den sechs äquivalenten <100>-Richtungen nahe der BZ-
Grenze (X-Punkt). Ge hat die Leitungsbandminima am L-Punkt, d.h. auf der Zonengrenze in
Optische Eigenschaften den acht äquivalenten <111>-Richtungen. GaAs hat ein Leitungsbandminium bei k=0, also
Lichtabsorption und -emission durch am -Punkt. Nur
Übergänge vonimElektonen
GaAs liegenzwischen VB und LB im direkten
demnach Valenzbandmaximum Halbleiter
und Leitungsbandminimum
an der gleichen Stelle im k-Raum. Man spricht von einem direkten Halbleiter, weil optische
Übergänge vom Valenzbandmaximum zum Leitungsbandminimum unter Einhalten von
▶ Energieerh.: Ef − Ei = ℏωp indirekter HL direkter HL

Impulserh.: k f − k i = ? wie groß ist k p ?


Si GaAs
▶ Lichtwellenvektor k p :
E = ℏω ≡ Eg ≈ 1 eV
k p = cωl = ℏcE l ≈ 5 × 106 m−1 3
kp
▶ Wellenvektorskala:
2 kp
−1
Γ : k = 0m , Ef

Energie [eV]
X: k = 2π
a
≈ 1.1 × 1010 m−1 mit der 1 Ef

Gitterkonstante der konv. EZ 0 Ei Ei


a ≈ 5.5 × 10−10 m.
-1
▶ Licht löst nur ”senkrechte” Übergänge in
Banddiagramm aus. -2

▶ in Näherung erster Ordnung kann Licht 0 1010 m−1 0 1010 m−1


mit Bandlückenenergie im indirekten
Halbleiter keine VB ↔ LB Übergänge
auslösen. kp kp
Abb. 2.6 Bandstrukturen von Ge, Si und GaAs. Die Bandlücke EG separiert die nach unten gekrümmten
Valenzbänder von den nach oben gekrümmten Leitungsbändern. GaAs ist ein direkter Halbleiter, Si und
Ge sind indirekte Halbleiter.

TFH WS 2021/22 176


Si hat sechs Leitungsband-Minima in den sechs äquivalenten <100>-Richtungen nahe der BZ-
Grenze (X-Punkt). Ge hat die Leitungsbandminima am L-Punkt, d.h. auf der Zonengrenze in
Optische Eigenschaften den acht äquivalenten <111>-Richtungen. GaAs hat ein Leitungsbandminium bei k=0, also
Lichtabsorption und -emission durch am -Punkt. Nur
Übergänge vonimElektonen
GaAs liegenzwischen VB und LB im direkten
demnach Valenzbandmaximum Halbleiter
und Leitungsbandminimum
an der gleichen Stelle im k-Raum. Man spricht von einem direkten Halbleiter, weil optische
Übergänge vom Valenzbandmaximum zum Leitungsbandminimum unter Einhalten von
▶ Energieerh.: Ef − Ei = ℏωp indirekter HL direkter HL

Impulserh.: k f − k i = ? wie groß ist k p ?


Si GaAs
▶ Lichtwellenvektor k p :
E = ℏω ≡ Eg ≈ 1 eV
k p = cωl = ℏcE l ≈ 5 × 106 m−1 3
kp
▶ Wellenvektorskala:
2 kp
−1
Γ : k = 0m , Ef

Energie [eV]
X: k = 2π
a
≈ 1.1 × 1010 m−1 mit der 1 Ef

Gitterkonstante der konv. EZ 0 Ei Ei


a ≈ 5.5 × 10−10 m.
-1
▶ Licht löst nur ”senkrechte” Übergänge in
Banddiagramm aus. -2

▶ in Näherung erster Ordnung kann Licht 0 1010 m−1 0 1010 m−1


mit Bandlückenenergie im indirekten
Halbleiter keine VB ↔ LB Übergänge
auslösen. kp kp
Abb. 2.6 Bandstrukturen von Ge, Si und GaAs. Die Bandlücke EG separiert die nach unten gekrümmten
▶ Auch Übergänge bei höheren Energien
Valenzbänder von den nach oben gekrümmten Leitungsbändern. GaAs ist ein direkter Halbleiter, Si und
Ge sind indirekte Halbleiter.
müssen ”senkrecht” sein.

TFH WS 2021/22 176


Optische Eigenschaften
Fermi’s golden rule und Übergangsraten

Quantitative Beschreibung
▶ Quantentheorie: bei gegebener elektrischen Feldstärke des Lichtes E ist die
Übergangsrate durch Fermi’s Golden Rule (FGR) gegeben:
2 H 0 Ψ i = Ei Ψ i
▶ ohne Licht: Hamilton-Op.: H0 = − ℏ ∗ ∆2
2m
E2 , Ψ2 (r , t)
Wellenfkt.: Ψi ∝ ei(kr −tEi /ℏ) uni ,ki (r )
(Bloch-Zustände)
E1 , Ψ1 (r , t)

9.2 Absorption und Emission (strahlende Rekombination) 239

Der letzte Ausdruck kann gedeutet werden als neues, kombiniertes Band für die Übergänge
2
ΔE (k ) = k 2 mit der kombinierten Zustandsdichte
2m *komb

3/ 2
1  2m *komb 
D komb (ΔE ) = C ⋅ Δ
E − E g mit C = V⋅ .
TFH 2π 2   2 WS 2021/22 177
Optische Eigenschaften
Fermi’s golden rule und Übergangsraten

Quantitative Beschreibung
▶ Quantentheorie: bei gegebener elektrischen Feldstärke des Lichtes E ist die
Übergangsrate durch Fermi’s Golden Rule (FGR) gegeben:
2 H 0 Ψ i = Ei Ψ i
▶ ohne Licht: Hamilton-Op.: H0 = − ℏ ∗ ∆2
2m
E2 , Ψ2 (r , t)
Wellenfkt.: Ψi ∝ ei(kr −tEi /ℏ) uni ,ki (r )
(Bloch-Zustände)
▶ mit Lichtwelle: elektrisches Feld E1 , Ψ1 (r , t)
E (r , t) = E 0 cos(k p r − ωp t)
▶ Wechselwirkungsenergie Hint eines Elektrons (H0 −er E )Ψi ̸= Ei Ψi
mit dem Lichtfeld: Hint = −er E (r , t)
E2 , Ψ2 (r , t)
▶ Gesamt-Hamiltonoperator für Elektron in
Γif
Lichtfeld: H = H0 + Hint
▶ Eigenzustände von H0 sind keine E1 , Ψ1 (r , t)
stationären
9.2 Absorption und Emission (strahlende Rekombination) 239
Zustände von H ⇒ zeitliche Entwicklung
Der▶letzte Ausdruck kann gedeutet werden als neues, kombiniertes Band für die Übergänge
Übergangsrate
2
ΔE (k ) = k 2 mit der kombinierten Zustandsdichte Z
2m *komb 2π
Γi→f = |Mif |2 ρ(Ef ) mit Mif = Ψ∗f Hint Ψi dx 3 und Zustandsdichte ρ(E )
ℏ 3/ 2
1  2m *komb  V
D komb (ΔE ) = C ⋅ Δ
 E − E g mit C = V⋅ 2 .
TFH  2 WS 2021/22 177
Optische Eigenschaften
Fermi’s golden rule und Übergangsraten

Quantitative Beschreibung
▶ Quantentheorie: bei gegebener elektrischen Feldstärke des Lichtes E ist die
Übergangsrate durch Fermi’s Golden Rule (FGR) gegeben:
2 H 0 Ψ i = Ei Ψ i
▶ ohne Licht: Hamilton-Op.: H0 = − ℏ ∗ ∆2
2m
ρ(E2 ) E2 , Ψ2 (r , t)
Wellenfkt.: Ψi ∝ ei(kr −tEi /ℏ) uni ,ki (r )
(Bloch-Zustände)
▶ mit Lichtwelle: elektrisches Feld E1 , Ψ1 (r , t)
E (r , t) = E 0 cos(k p r − ωp t)
▶ Wechselwirkungsenergie Hint eines Elektrons (H0 −er E )Ψi ̸= Ei Ψi
mit dem Lichtfeld: Hint = −er E (r , t)
ρ(E2 ) E2 , Ψ2 (r , t)
▶ Gesamt-Hamiltonoperator für Elektron in
Γif
Lichtfeld: H = H0 + Hint
▶ Eigenzustände von H0 sind keine E1 , Ψ1 (r , t)
stationären
9.2 Absorption und Emission (strahlende Rekombination) 239
Zustände von H ⇒ zeitliche Entwicklung
Der▶letzte Ausdruck kann gedeutet werden als neues, kombiniertes Band für die Übergänge
Übergangsrate
2
ΔE (k ) = k 2 mit der kombinierten Zustandsdichte Z
2m *komb 2π
Γi→f = |Mif |2 ρ(Ef ) mit Mif = Ψ∗f Hint Ψi dx 3 und Zustandsdichte ρ(E )
ℏ 3/ 2
1  2m *komb  V
D komb (ΔE ) = C ⋅ Δ
 E − E g mit C = V⋅ 2 .
TFH  2 WS 2021/22 177
Optische Eigenschaften
Fermi’s golden rule: Matrixelement und erlaubte und verbotene Übergänge
▶ Matrixelement beinhaltet Auswahlregeln und auch die Impulserhaltung
▶ wegen Übersichtlichkeit eindimensional, 3d völlig analog
▶ Elektrisches Feld: E 0 cos(kp x − ωp t) = E0 ei(kp x −ωp t) + e−i(kp x −ωp t)
 
2
Z
Mif = Ψ∗f Hint Ψi dx =
L=Na
Z
eE0
= −ei[(Ef −Ei )/ℏ∓ωp ]t
e−ikf x un∗f kf (x ) x e±ikp x eiki x uni ki (x ) dx
2N L
▶ ωp immer größer 0, daher:
bei Absorption: Ef > Ei Energieerhaltung: Ef − Ei − ℏωp = 0
bei Emission: Ef < Ei Energieerhaltung: Ef − Ei + ℏωp = 0
▶ weiter für Absorption:
Z
eE0 x =Rn +∆x , Rn =a·n Bravaisgitter, ∆x ∈EZ
Mif = − e−ikf x un∗f kf (x ) x e+ikp x eiki x uni ki (x ) dx =
2N L
N−1 Z
eE0 X
=− e−ikf Rn e−ikf ∆x un∗f kf (Rn +∆x ) (Rn +∆x ) e+ikp Rn e+ikp ∆x ·
2N EZ
n=0

· eiki Rn eiki ∆x uni ki (Rn +∆x ) d∆x


Rn = n · a, Faktoren unabh. von ∆x vor das Integral, Gitterperiodizität von unk ⇒

TFH WS 2021/22 178


Optische Eigenschaften
Fermi’s golden rule: Matrixelement und erlaubte und verbotene Übergänge
▶ Matrixelement beinhaltet Auswahlregeln und auch die Impulserhaltung
▶ wegen Übersichtlichkeit eindimensional, 3d völlig analog
▶ Elektrisches Feld: E 0 cos(kp x − ωp t) = E0 ei(kp x −ωp t) + e−i(kp x −ωp t)
 
2
1
R
Faktor : ψ= √1 eikx unk weil wir ∗
unk dx = 1
Z
unk
Ψ∗f Hint Ψi
N N EZ
Mif = dx = für die Normierung verwenden
L=Na
Z
eE0
= −ei[(Ef −Ei )/ℏ∓ωp ]t
e−ikf x un∗f kf (x ) x e±ikp x eiki x uni ki (x ) dx
2N L
▶ ωp immer größer 0, daher:
bei Absorption: Ef > Ei Energieerhaltung: Ef − Ei − ℏωp = 0
bei Emission: Ef < Ei Energieerhaltung: Ef − Ei + ℏωp = 0
▶ weiter für Absorption:
Z
eE0 x =Rn +∆x , Rn =a·n Bravaisgitter, ∆x ∈EZ
Mif = − e−ikf x un∗f kf (x ) x e+ikp x eiki x uni ki (x ) dx =
2N L
N−1 Z
eE0 X
=− e−ikf Rn e−ikf ∆x un∗f kf (Rn +∆x ) (Rn +∆x ) e+ikp Rn e+ikp ∆x ·
2N EZ
n=0

· eiki Rn eiki ∆x uni ki (Rn +∆x ) d∆x


Rn = n · a, Faktoren unabh. von ∆x vor das Integral, Gitterperiodizität von unk ⇒

TFH WS 2021/22 178


Optische Eigenschaften
Fermi’s golden rule: Matrixelement und erlaubte und verbotene Übergänge
N−1 Z 
eE0 X −i(kf −ki −kp )na
Mif = − e na e−i(kf −ki −kp )x un∗f kf uni ki dx +
2N EZ
n=0
Z 
−i(kf −ki −kp )x
+ e un∗f kf x uni ki dx
EZ

▶ der zweite Term in der eckigen Klammer ist unabh. von n, die Summe vor
der eckigen Klammer kann wie folgt ausgewertet werden:
▶ kf , ki und kp sollen periodische Randbedingungen auf L = na erfüllen ⇒
▶ kf = 2π mf , ki = 2π mi , kp = 2π mp mit mf , mi , mp ∈ Z, dann ist
Na Na Na

N−1 N−1
0 für mf − mi − mp =
̸ 0
X X 2π (m
n
−mi −mp )n
e−i(kf −ki −kp )na = e−i N f =
N für mf − mi − mp = 0
n=0 n=0

6
da wir am Einheitskreis über die N-ten Teile eines M- n =1
7
fachen des Winkels 2π aufsummieren (mit M=mf − 2
mi − mp )
05
siehe Skizze rechts für M=2 und N=10
3
⇒ Impulserhaltung 8
4
9
TFH WS 2021/22 179
Optische Eigenschaften
Fermi’s golden rule: Matrixelement und erlaubte und verbotene Übergänge

N−1 Z 
eE0 X −i(kf −ki −kp )na
Mif = − e na e−i(kf −ki −kp )x un∗f kf uni ki dx +
2N EZ
n=0
Z 
−i(kf −ki −kp )x
+ e un∗f kf x uni ki dx
EZ

P
▶ für den erste Term ergibt der Faktor · · · vor Integral (Mathematica):
n

N−1
(
− N
− 2π (mf −mi −mp )
für mf − mi − mp ̸= 0
−i 2π
X
(mf −mi −mp )n
ne N = 1−e N
N(N−1)
n=0 2
für mf − mi − mp = 0
▶ auch Term 1 maximal bei Impulserhaltung (mf − mi − mp = 0), für diesen
Fall ergeben beide Terme zusammen:
 Z Z 
eaE0 (N − 1) x
Mif = − un∗f kf uni ki dx + un∗f kf un k dx
2 2 EZ EZ
a i i

un∗f k uni k dx = 0
R
▶ für kf = ki (d.h kp = 0) und nf ̸= ni :
EZ

TFH WS 2021/22 179


Optische Eigenschaften
Fermi’s golden rule: Matrixelement und erlaubte und verbotene Übergänge
N−1 Z 
eE0 X −i(kf −ki −kp )na
Mif = − e na e−i(kf −ki −kp )x un∗f kf uni ki dx +
2N EZ
n=0
Z 
−i(kf −ki −kp )x
+ e un∗f kf x uni ki dx
EZ

P
▶ für den erste Term ergibt der Faktor · · · vor Integral (Mathematica):
n

N−1
(
− N
− 2π (mf −mi −mp )
für mf − mi − mp ̸= 0
−i 2π
X
(mf −mi −mp )n
ne N = 1−e N
N(N−1)
n=0 2
für mf − mi − mp = 0
▶ auch Term 1 maximal bei Impulserhaltung (mf − mi − mp = 0), für diesen
Fall ergeben beide Terme zusammen:
 Z Z 
eaE0 (N − 1) x
Mif = − un∗f kf uni ki dx + un∗f kf un k dx
2 2 a i i
| EZ {z } | EZ {z }
0 in DN (dipolverboten) dipolerlaubt

un∗f k uni k dx = 0
R
▶ für kf = ki (d.h kp = 0) und nf ̸= ni :
EZ
▶ Dipolnäherung (DN): kp = 0, d.h E (t) = E0 cos(ωt)
TFH WS 2021/22 179
Optische Eigenschaften
Dipolerlaubte Übergänge im direkten Halbleiter
▶ Sind LB-CB Übergänge dipolerlaubt, brauchen wegen des viel kleineren
Matrixelements Mif dipolverbotener Übergänge diese nicht berücksichtigt
werden.
▶ Energie und Wellenvektorerhaltung:
ℏ2 k 2 ℏ2 k 2 ℏ2 k 2
ℏω = EL (k) − EV (k) = Eg + ∗
+ ∗
≡ Eg +
2mL 2mV 2mr∗
1 1 1
mit der reduzierten effektiven Masse ≡ ∗ + ∗
mr∗ mL mV
▶ zur Berechnung der Übergangsrate können wir die Dispersion der
9.2 Absorption
Übergangsenergie alsundein
Emission (strahlende
effektives Rekombination)
Band 239
betrachten, siehe Skizze unten
▶ Zustandsdichte für dieses Band:
Der letzte Ausdruck kann gedeutet werden als neues, kombiniertes Band für die Übergänge
2
ΔE (k ) = *
k 2 mit der kombinierten
1 2mr 3/2 p
 ∗ Zustandsdichte

2 m
ρ komb(∆E ) = ∆E − Eg bzw.
komb
2π 2 ℏ2
3/ 2

E1− E(2m
∗ )3/2 p 1  2m*komb 
ρ (ΔE(ω)
D komb ) = C=
komb
⋅ Δ
 g mitr C = V ⋅ℏω 2−
2π  Eg 2 
.
2π 2
= hν
ℏ2
LB

Sauer, Halbleiterphysik
TFH VB WS 2021/22 180
Optische Eigenschaften
Generationsrate für dipolerlaubte Übergänge im direkten Halbleiter
▶ Anwendung von Fermi’s Golden Rule (S. 177) zur Berechnung der
Absorptions- (d.h. Generations-) Rate (pro Kristallvolumen):
(2mr∗ )3/2 p
G(ℏω) = |MVC |2 4
ℏω − Eg [1 − feL (E ′ , T )] feV (E , T )
πℏ
9.2 Absorption und Emission (strahlende Rekombination) | {z 239 } | {z }
LB frei VB besetzt

Der letzte
wobei 2
feL,Vkann
Ausdruck diegedeutet werden als neues, kombiniertes Band für die für
Quasi-Fermiverteilungsfunktionen Übergänge
Elektronen in
) = * k 2 u.
ΔE (kLeitungs- mit Valenzband sind.
der kombinierten Zustandsdichte
2m komb ′
Die Energien E und E sind in der Skizze definiert und durch ℏω bestimmt:
3/ 2
1 p = C ⋅∗ ΔE − E g mit C = V ⋅ ′ 1  2m komb  . ℏ2 k 2
*
mr∗
k D=komb (ΔE )2mr (ℏω − Eg ) ⇒ E 2π2 = E2 g  + = Eg + (ℏω − Eg )
ℏ = hν
2me∗ me∗
ℏ2 k 2 m∗
⇒ E = − = − r∗ (ℏω − Eg )
2mh∗ mh

▶ Anregung
Absorption der Ladungsträger
(Generationsrate) durch nicht zu starkes Licht aus dem

thermischen 2Gleichgewicht: EFe = EFh = EF und fe (E ) = 1, fe (E ) = 0,
G (hν ) = κ' ⋅ M D komb (hν ) ⋅ f e (E ) ⋅ (1 − f e (E' ))
d.h:
Wegen des direkten Übergangs entfällt hier eine Faltung von ∗ 3/2
Loch- und p
Elektronenzustän-
2 (2mr )
den. Die Anregung der Ladungsträger G(ℏω) erfolgt= für |MnichtVCzu| starkes Lichtfeld ausℏω
dem−thermi-
Eg
4
schen Gleichgewicht mit EF = EF = EF und fe(E) = 1, fe(E') = 0,πℏ
e h
daher folgt:
TFH WS 2021/22 181
Optische Eigenschaften
Rekombinationsrate und spektrale Abhängigkeit für dipolerlaubte Übergänge im direkten Halbleiter
▶ Anwendung von Fermi’s Golden Rule (S. 177) zur Berechnung der
Emissions- (d.h. Rekombinations-) Rate (pro Kristallvolumen):
(2mr∗ )3/2 p
R(ℏω) = |MVC |2 ℏω − Eg feL (E ′ , T ) [1 − feV (E , T )]
πℏ4 | {z } | {z }
LB besetzt VB frei

▶ für die Netto-Rekombination brauchen wir Nicht-Gleichgewicht zw. LB


und VB, d.h für die Quasiferminiveaus EFe ̸= EFh
▶ in Boltzmann-Näherung (EL − EFe ≫ kT , EFh − EV ≫ kT ):

(2mr∗ )3/2 p EFe −E ′ E −EFh ℏω−∆EF


R(ℏω) = |MVC |2 4
ℏω − Eg e| kT {ze kT } = G(ℏω)e− kT
πℏ{z
| } exp[−(ℏω−∆EF )/kT ]
G(ℏω)

▶ Netto Rekombination (beobachtbare Rekombination, d.h. Emission)

 ℏω−∆EF ℏω

Rnet (ℏω) = R(ℏω) − R0 (ℏω) = G(ℏω) e− kT − e− kT

(2mr∗ )3/2 ∆EF Eg


  ℏω−Eg
= |MVC |2
p
e kT − 1 e− kT ℏω − Eg e− kT units: m
−3 −1
s
πℏ4 | {z }
spektrale Form
| {z }
Anregungsstärke

TFH WS 2021/22 182



Anregungsmaß Spektrale Abhangigkeit
Optische Eigenschaften R. Sauer, Halbleiterphysik
Im thermischen Gleichgewicht
Gesamt-Nettorekombinationsrate ist Rnet(hν)
für dipolerlaubte ≡0
Übergänge im direkten Halbleiter

Gesamt-Nettorekombination
Die Gesamt-Nettorekombination be-
schreibt die über alle Energien sum-
mierte beobachtbare Strahlung:

∞ 1/ 2  hν − E g 
− 

 (hν − E g )

R net,tot ~ ⋅e  kT 
d(hν )
Eg

Substitution:
hν – Eg = (kT) ⋅ x ergibt

→ 0
kT x e − x (kT )dx .
Abb. 9.2 Spektrale Linienform der Rekombinationsstrah-
lung für Δk = 0 mit Maximumsposition und Halbwertsbrei-
∞ te Δhv.
= (kT )3 / 2 ⋅ 
0
x e − x dx

3 1 π
Das letzte Integral hat den Wert Γ 
=  
! = . Insgesamt erhält man also:
 2   2  2
   

∗3/2 3 / 2
∆E F  − g Eg E
r ΔE
2 π V 2 2mmr*komb  3/23 / 2 kTFkT
) e⋅ e −− 11e ekT− kT

2
RRnet , tot = κ
net,tot ='⋅ M ⋅ ⋅ VC2|
|M  24 (kT⋅ )( kT
  
π 2 2 π 
 ℏ   
TFH WS 2021/22 183
9.2
Absorption und Emission (strahlende
Rekombination)
Optische Eigenschaften R. Sauer, Halbleiterphysik
Dipolerlaubte Übergänge im indirekten Halbleiter

9.2.1
Indirekte Band-Band-Übergänge
Halbleiter, mit Δ
VB-LB Übergänge k ≠∆k
mit 0 ̸= 0
Übergänge mit Δk ≠ 0 sind charakteristisch für Absorption und Emission von indirekten
Halbleitern im Bandkantenbereich hν t Eg. Da die Photonen einen verschwindend kleinen
Wellenvektor kphot << k0 (Lage des indirekten Leistungsbandminimums) haben, benötigt man
für einen optischen Übergang einen Partner, der die Wellenvektordifferenz Δk ≈ k0 zwischen
den Elektronen- und Lochzuständen aufnehmen kann. Solche Partner können Störstellen und
Phononen sein. Wir betrachten hier Übergänge mit Phononenbeteiligung. Man kann sie an-
schaulich im folgenden Diagramm (linkes Bild) darstellen.
nicht maßstabsgetreu

Eg ∼ 1 eV

∼ 50 meV

Die Leitungsbandminima der indirekten Halbleiter liegen typischerweise nahe der 1. Brillouinzo-

ne des Kristalls, z.B. für Si bei k 0 = 0,82 ⋅ (100) . In diesem Bereich haben optische wie
a
akustische Phononen flache Dispersionskurven mit praktisch konstanter Energie Ω . Sie
können daher bei festem Ω , aber variablem kphon optische Übergänge zwischen Löchern
und Elektronen vermitteln, die im k-Raum um Δk getrennt sind. Mit anderen Worten: Wird
das optische Matrixelement für alle diese möglichen Übergänge als konstant angenommen,
TFH WS 2021/22 184
für einen optischen Übergang einen Partner, der die Wellenvektordifferenz Δk ≈ k0 zwischen
den Elektronen- und Lochzuständen aufnehmen kann. Solche Partner können Störstellen und
Optische Phononen
Eigenschaften
sein. Wir betrachten hier Übergänge mit R. Sauer, Halbleiterphysik
Phononenbeteiligung. Man kann sie an-
Dipolerlaubteschaulich
Übergänge
im im indirekten
folgenden Halbleiter
Diagramm (linkes Bild) darstellen.
nicht maßstabsgetreu

Eg ∼ 1 eV

Die Leitungsbandminima der indirekten Halbleiter liegen typischerweise nahe der 1. Brillouinzo-
∼ 50 meV

ne des Kristalls, z.B. für Si bei k 0 = 0,82 ⋅ (100) . In diesem Bereich haben optische wie
a
akustische Phononen flache Dispersionskurven mit praktisch konstanter Energie Ω . Sie
können daher bei festem Ω , aber variablem kphon optische Übergänge zwischen Löchern
und Elektronen vermitteln, die im k-Raum um Δk getrennt sind. Mit anderen Worten: Wird
Die Leitungsbandminima
Wird das optische Matrixelement der indirekten Halbleiter
für alle diese liegenÜbergänge
möglichen typischerweise nahe der angenommen,
als konstant 1. Brillouinzo-
so ist die spektrale Absorption eine Faltung 2π (auch „Überschiebung“, „convolution“) der
ne des Kristalls, z.B. für Si bei k 0 = 0,82 ⋅ (100) . In diesem Bereich haben optische wie
besetzten Lochzustände nahe k = 0 mit den unbesetzten
a Elektronenzuständen nahe k = k0.
akustische
Man kann zur vereinfachten Darstellung das Leitungsband im konstanter
Phononen flache Dispersionskurven mit praktisch Energie
k-Raum direkt Ω . Va-
über das Sie
können
lenzbanddaher bei festem
schieben Ω , aber variablem
und die optischen kphon optische
Übergangspfeile Übergänge
schräg darstellen zwischen mittleres
(Diagramm, Löchern
und
Bild).Elektronen vermitteln,
Die Bandstruktur diedann
sieht im k-Raum
wie bei um
einemΔk direkten
getrennt Halbleiter
sind. Mit anderen Worten:
aus mit einer Wird
Energie-
das
lückeoptische
E g − ΩMatrixelement
. In den beidenfürrechten
alle diese möglichen
Skizzen Übergänge
oben ist als konstant
die Reduktion von Eg angenommen,
um Ω nicht
so ist die spektrale Absorption eine Faltung (auch „Überschiebung“, „convolution“) der
berücksichtigt.
besetzten Lochzustände nahe k = 0 mit den unbesetzten Elektronenzuständen nahe k = k0.
Für
Man die Rechnung
kann benötigt man
zur vereinfachten die Zustandsdichten
Darstellung und im
das Leitungsband diek-Raum
Besetzungsfunktionen
direkt über das von
Va-
Elektronen und Löchern.
lenzband schieben und die optischen Übergangspfeile schräg darstellen (Diagramm, mittleres
Bild). Die Bandstruktur sieht dann wie bei einem direkten Halbleiter aus mit einer Energie-
lücke E g − Ω . In den beiden rechten Skizzen oben ist die Reduktion von Eg um Ω nicht
berücksichtigt.
Für die Rechnung benötigt man die Zustandsdichten und die Besetzungsfunktionen von
TFH Elektronen und Löchern. WS 2021/22 185
2π   
Optische Eigenschaften R. Sauer, Halbleiterphysik
(V: Volumen des Kristalls)
Dipolerlaubte Übergänge im indirekten Halbleiter: Absorption 3/ 2
1  2m * 
D h (E ) = A ⋅ − E
Zustandsdichten: mit A = V ⋅ 2  2 h 
2π   

V 2me∗ 3/2
p 
De (E ′ ) = A′ E ′ − Eg 2
mit A′ =
und V: Kristallvolumen
2π ℏ2
Besetzungsfunktionen mit den Quasi-Ferminiveaus EFe und EFh:
 2m∗ 3/2
V
A −E1e
p
e (E' ) =
Dh (E ) f= mit A = h
E'− E F 2π 2 ℏ2
e kT +1
Besetzungsfunktionen mit Quasi-Ferminiveaus EFe,h :
1
f h (E ) = 1 − f e (E
1) = 1
fe (E ′ ) = E hF − E , fh (E ′ ) = 1 − fe (E ) =
1+ exp[(E ′ − EeFe )/kT
kT + 1] 1 + exp[(EFh − E )/kT ]

Absorption
Die Absorption von Licht mit Photonenenergie hν wird als Ladungsträger-Generationsrate
G(hν) mit dem konstanten optischen Matrixelement <H'LB,VB> = M berechnet:

G (hν ) = 
κ ⋅ M ⋅ f e (E )D h (E ) ⋅ (1 − f e (E'))D e (E')dE'
2
mit E' – E = hν
 2π Eg
Konstante

Bei nicht zu starkem Lichtfeld erfolgt die Anregung der Ladungsträger aus dem Grundzu-
stand (thermodynamischer Gleichgewichtszustand), in dem gilt
EFe = EFh = EF .
Für einen intrinsischen oder schwach dotierten Halbleiter gilt dann wegen Eg >> kT auch bei
TFH Raumtemperatur noch in sehr guter Näherung WSf2021/22
e(E) = 1 und fe(E') = 0. Daher folgt: 186
G (hν ) = 
κ ⋅ M ⋅ f e (E )D h (E ) ⋅ (1 − f e (E'))D e (E')dE'
2
mit E' – E = hν
Optische Eigenschaften
 Eg
Konstante
R. Sauer, Halbleiterphysik
Dipolerlaubte Übergänge im indirekten Halbleiter: Absorption
Bei nicht zu starkem Lichtfeld erfolgt die Anregung der Ladungsträger aus dem Grundzu-
stand (thermodynamischer Gleichgewichtszustand), in dem gilt
EFe = EFh = EF .
Für einen intrinsischen oder schwach dotierten Halbleiter gilt dann wegen Eg >> kT auch bei
Raumtemperatur noch in sehr guter Näherung fe(E) = 1 und fe(E') = 0. Daher folgt:
hν hν
G (hν ) = κ ⋅ M ⋅  D h (E ) ⋅ D e (E') dE' = κ ⋅ M A' A 
2 2
hν − E' E'−E g dE'
 
Eg Eg
A'⋅A⋅ − E ⋅ E'−E g   
π 
2
 hν − E g 
8 

G (hν ) = κ ⋅ M A' A
2 π
8
(hν − E g )2

Für den Absorptionskoeffizienten α eines indirekten Halbleiters ergibt sich also:

α ∝ (ℏω − Eg )2

TFH WS 2021/22 187


236 9 Optische Eigenschaften
Optische Eigenschaften R. Sauer, Halbleiterphysik
DipolerlaubteDas
Übergänge
Ergebnisim indirekten
entspricht α ∼ Halbleiter: Emission
(hν – Eg)² für indirekte Halbleiter (siehe Kapitel 4).

Emission (strahlende Rekombination)


Es wird zunächst die totale Rekombinationsrate R(hν), d.h. die Überschußrate plus die ther-
modynamische Gleichgewichtungsrate, berechnet:

R (hν ) = κ ⋅ M  f(
E')D (E' ) ⋅ f (E )D (E )dE'
2
e
  e h h
Eg n (E' ) p (E )

Analytisch rechenbar ist der Fall der Boltzmann-Näherung


 E ' − E eF   Eh −E 
−  − F 
 kT   kT 
f e (E' ) = e  
, f h (E ) = e  
.

 E ' − E − ΔE F   hν − ΔE F 
−   −  
Mit E eF − E hF = ΔE F und f e (E') ⋅ f h (E ) = e  kT 
= e  kT 
folgt:

 hν − ΔE F  hν
−  
R (hν ) = κ ⋅ M ⋅ A' A ⋅ e 
2  kT 
hν − E' E'−E g dE'
Eg

 hν − ΔE F 
−  
R (hν ) = e  kT  G (hν )


Im thermischen Gleichgewicht mit ΔEF = 0 gilt dann R 0 (hν ) = e kT G
0 (hν ) . Dies scheint
TFH WS 2021/22 188
 hν − ΔE F 
−  
kT 
R (hν ) = e 
Optische Eigenschaften G (hν ) R. Sauer, Halbleiterphysik
Dipolerlaubte Übergänge im indirekten Halbleiter: Emission hν

Im thermischen Gleichgewicht mit ΔEF = 0 gilt dann R 0 (hν ) = e kT G 0 (hν ) . Dies scheint
dem Prinzip des detaillierten Gleichgewichts („principle of detailed balance“) zu widerspre-
chen, wonach im thermischen Gleichgewicht gilt R 0 (hν ) = G 0 (hν ) , also bei jeder Über-
gangsenergie die Rekombinations- und Generationsraten gleich groß sind. Tatsächlich sind
hier aber durch Benutzung der Verteilungsfunktionen fe(E') und fh(E) implizit die sehr
schnellen Relaxationsprozesse mit Intraband-Relaxationszeiten τ ≈ 10-12 ... 10-13 s << τlife
eingeflossen: Ladungsträger, die bei hν > Eg im Überschuß generiert werden, haben nur eine
verschwindend kleine Chance, bei derselben Energie hν zu rekombinieren; statt dessen rela-
xieren sie sehr viel effizienter in den Bändern und stellen so das Quasigleichgewicht her.

Netto-Rekombinationsrate
Diese beschreibt die beobachtbare Rekombinationsstrahlung:
9.2 Absorption
R net und
(hν )Emission
= R (hν ) −(strahlende
R 0 (hν ) Rekombination) 237



Es gilt immer G(hν) = G0(hν), also: (hν )
= e kT G

 ΔE F − hν hν   ΔE F  − hν π
( )2

R net (hν ) =  e kT − e kT G (hν ) =  e kT − 1e kT ⋅ κ ⋅ M A' A hν − E g
2
    8
   

Eg  hν − E 
π  ΔE F  −
g

R net (hν ) = κ ⋅ M A' A
2
8
 e kT − 1 e − kT ⋅ e  kT  hν − E 2
   g

( ) → 0 im therm. Glgw.

Anregungsmaß Spektrale Abhängigkeit

TFH WS 2021/22 189


OptischeImEigenschaften
thermischen Gleichgewicht gilt:
R. Sauer, Halbleiterphysik
Dipolerlaubte Übergänge im ≡indirekten
Rnet,0(hν) 0 Halbleiter:
9.3 Emission
Optische Übergänge in direkten Halbleitern 217

Abb. 9.4 Spektrale 0.6


Linienform der

Rnet(hυ) (beliebige Einheiten)


Rekombinationsstrahlung 0.5 indirekte
(Gl. 9.41) für direkte Rekombination
Halbleiter. Zum Vergleich ist
das Spektrum der indirekten 0.4 ×103 − 104
Rekombinationsstrahlung
ebenfalls eingezeichnet. 0.3 direkte
(Nach Sauer 2009) Rekombination
0.2
Δhυ = 1.8 kT
0.1

0
0 1 2 3 4 5 6
(hυ - Eg) / kT
nach J. Smoliner Grundlagen der Halbleiterphysik
freien Elektronengases im Halbleiter wieder mit Hilfe des ausgezeichneten Photonik-
Buchs meines Kollegen Georg Reider (2012) zu berechnen. Beides läuft auf das
Gleiche hinaus, denn bereits in der Schule sollten Sie gelernt haben, dass gilt:
Abb. 9.1 Spektrale Linienform der Rekombinationsstrahlung für Δk ≠ 0 mit Maximumsposition und
Halbwertsbreite Δhν
n 2 = εr (9.42)

Das freie Elektronengas, wie war das noch, wird mit dem Drude-Modell beschrie-
Gesamt-Nettorekombination
ben. Hier machen wir das Ganze für Elektronen in einem Lichtstrahl und fangen
auch etwas anders an, indem wir sagen, das Elektron sei vorerst einmal nicht frei,
Die Gesamt-Nettorekombination beschreibt
sondern die an
elektrostatisch über
den alle Energien
Atomkern summierte
mit einer beobachtbare
Federkraft (F Feder = ax) gebun-
Strahlung: den. Das Elektron werde dann von einem äußeren elektrischen Feld (Lichtwelle) mit
der Kraft −eE o e
iωt hin und her geschüttelt. Zusätzlich erlauben wir eine geschwin-
∞ −  hν − E g digkeitsabhängige Dämpfung. Die Bewegungsgleichung für diesen, schon wieder
harmonischen Oszillator, lautet dann
R net, tot ~ e
 kT


( ) ( )
2
hν − E g d hν
Eg
∂2x ∂x
me +b + ax = −eE o eiωt . (9.43)
∂t 2 ∂t
TFH WS 2021/22 190
Optische Eigenschaften R. Sauer, Halbleiterphysik
Dipolerlaubte Übergänge im indirekten Halbleiter: Gesamt-Nettorekombination
238 9 Optische Eigenschaften

Substitution: hν – Eg = kT ⋅ x ergibt

 → (kT ) ⋅  e ⋅ x 2dx =2(kT )


3 −x 3

0 

=2

Eg
 ΔE F  2 π


R net,tot =  e kT −1 ⋅ κ M ⋅ ( )3⋅ 
kT A'
A ⋅e kT
  4
  4
V2 ⋅ ⋅ NL ⋅ NV
π
NL, NV sind die effektiven Zustandsdichten (siehe Abschnitt 6.3). Im Endergebnis erhält man also:

 ΔE F − E g Eg 
 − 
R net, tot = κ ⋅ M V 2  N L N V e kT − N L N V e kT  = R net,tot = B(np − n 0 p 0 )
2
    
=B  n⋅p n 0 ⋅ p0 

mit den Gleichgewichts-Trägerdichten n0 und p0 und B: Koeffizient der strahlenden Rekom-


bination (vgl. Kapitel 7).
Der Ausdruck ist identisch mit dem in Kapitel 7 phänomenologisch eingeführten Ansatz für
die bimolekulare Rekombination.

9.2.2 Band-Band-Übergänge mit Δk = 0


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